METODO DE GRABADO CON MASCARA PORTADORA DE IMAGEN Y PELICULA ESTRATIFICADA FOTOSENSIBLE PARA DICHA MASCARA PORTADORA DE IMAGEN.

METODO DE GRABADO CON FILTRO DE IMAGEN Y PELICULA LAMINAR FOTOSENSIBLE PARA DICHO FILTRO DE IMAGEN.

UNA PELICULA LAMINAR FOTOSENSIBLE (10) QUE COMPRENDE UNA LAMINA DE SOPORTE (11), UNA CAPA DE SUJECION DEL FILTRO DE IMAGEN (12) PEGADA A LA LAMINA DE SOPORTE Y UNA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA SOLUBLE AL AGUA (13) DISPUESTA EN LA CAPA DE SUJECION DEL FILTRO DE IMAGEN (12), SIENDO DICHA CAPA (13) RETICULABLE POR LA LUZ. UN METODO DE GRABADO QUE COMPRENDE LAS FASES DE (A) IRRADIACION DE LA PELICULA LAMINAR CON LUZ DE DECORACION PARA FORMAR EN LA MISMA UN AREA RETICULABLE CORRESPONDIENTE AL MODELO DE LA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA (13), (B) TRATAMIENTO DE LA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA RESULTANTE (13) CON AGUA PARA DISOLVER UN AREA NO RETICULABLE Y DESARROLLAR UN FILTRO DE IMAGEN QUE COMPRENDA EL AREA RETICULABLE QUE PERMANECE EN LA CAPA DE SUJECION DEL FILTRO DE IMAGEN (12), (C) PEGADO DE FORMA QUE SE PUEDE DESPRENDER A UN MATERIAL PARA TRABAJAR LA PELICULA LAMINAR FOTOSENSIBLE (10) HABIENDO FORMADO EL FILTRO DE IMAGEN EN LA MISMA, (D) DESPRENDIMIENTO DE LA LAMINA DE SOPORTE (11) DE LA PELICULA LAMINAR (10) Y (E) GRABADO DEL FILTRO DE IMAGEN Y A CONTINUACION EL MATERIAL A TRAVES DEL FILTRO DE IMAGEN. LA CONSTITUCION ANTERIOR HACE POSIBLE CREAR UNA IMAGEN FINA, ELABORADA EN LA SUPERFICIE DE UN MATERIAL A TRABAJAR, COMO CRISTAL, METAL O PLASTICO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: AICELLO CHEMICAL COMPANY LIMITED.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 45, AZAKOSHIKAWA, ISHIMAKIHONMACHI,TOYOHASHI-SHI , AICHI-KEN 441-1.

Inventor/es: SUZUKI, TSUTOMU, 12-7, HIGASHIIWATA 1-CHOME, SUZUKI, IKUO, 20, AZA TERAMAE ISHIMAKIHONMACHI.

Fecha de Publicación: 16 de Noviembre de 2000.

Fecha Solicitud PCT: 22 de Octubre de 1990.

Fecha Concesión Europea: 6 de Septiembre de 2000.

Clasificación Internacional de Patentes:

B24C1/04 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B24 TRABAJO CON MUELA; PULIDO. › B24C TRATAMIENTO POR CHORRO ABRASIVO O CHORRO ANALOGO, CON MATERIALES EN PARTICULAS. › B24C 1/00 Métodos para la utilización del chorro abrasivo con vistas a la realización de un trabajo determinado; Utilización de equipos auxiliares vinculados a estos métodos. › para trabajar únicamente ciertas partes de una superficie, p. ej. para grabar la piedra o el vidrio.
C23F1/00 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23F LEVANTAMIENTO NO MECANICO DE MATERIAL METALICO DE LAS SUPERFICIES (trabajo del metal por electroerosión B23H; despulido por calentamiento a la llama B23K 7/00; trabajo del metal por láser B23K 26/00 ); MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS; MEDIOS PARA IMPEDIR LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL (tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F ); PROCESOS EN MULTIPLES ETAPAS PARA EL TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE MATERIALES METALICOS UTILIZANDO AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO POR LA CLASE C23 Y AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO BIEN POR LA SUBCLASE C21D BIEN POR LA SUBCLASE C22F O POR LA CLASE C25. › Decapado de materiales metálicos por medios químicos.
G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
G03F7/26 G03F 7/00 […] › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
G03F7/34 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen por transferencia selectiva, p. ej. por arrancamiento.

Países PCT: Austria, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Oficina Europea de Patentes, Estados Unidos de América.

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