Método para mejorar el desempeño de impresión en placas de impresión flexográfica.
Un método para fabricar un elemento de impresión de imagen en relieve a partir de una pieza en bruto de impresión fotosensible,
comprendiendo dicha hoja de impresión fotosensible una capa que puede cortarse por láser dispuesta sobre al menos una capa fotocurable, comprendiendo el método las etapas de:
a) la ablación selectiva por láser de la capa que puede cortarse por láser para crear una máscara in situ y descubrir porciones de la capa fotocurable;
b) exponer la pieza en bruto de impresión cortada por láser a al menos una fuente de radiación actínica a través de la máscara in situ para unir selectivamente y curar porciones de la capa fotocurable,
donde la difusión de aire en la al menos una capa fotocurable se limita durante la etapa de exposición mediante un método seleccionado de al menos uno de entre:
i) laminar una membrana de barrera a la máscara in situ y a cualquier porción descubierta de la capa fotocurable utilizando presión y/o calor antes de la etapa (b); y
ii) recubrir la máscara in situ y cualquier porción descubierta de la capa fotocurable con una capa de aceite antes de la etapa (b):
donde el coeficiente de difusión de oxígeno de la membrana de barrera y/o la capa de aceite es menor que 6,9 x 10-9 m2/seg.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2010/046453.
Solicitante: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 245 FREIGHT STREET WATERBURY, CONNECTICUT 06702 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.
Inventor/es: RECCHIA,DAVID A.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/26 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
PDF original: ES-2628036_T3.pdf
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