Método de producción de una imagen en relieve a partir de una resina de fotopolímero líquida.

Un método de producción de una imagen en relieve a partir de una resina fotopolimerizable líquida,

comprendiendo dicho método las etapas de:

a) colocar una película de recubrimiento sobre un vidrio de exposición;

b) colar una capa de resina fotopolimerizable líquida sobre la película de recubrimiento;

c) estratificar un sustrato sobre una superficie de la capa de resina fotopolimerizable líquida que es opuesta a la película de recubrimiento a medida que la capa de resina fotopolimerizable líquida se está colando sobre la película de recubrimiento;

d) colocar una imagen o negativo de película encima del sustrato; y

e) exponer la capa de resina fotopolimerizable líquida a través de la imagen o negativo de película desde el lado posterior de la capa de resina fotopolimerizable líquida para reticular y curar de forma selectiva la capa de resina fotopolimerizable y formar una imagen en relieve curada, donde dicha profundidad de la imagen en relieve curada es menor que la altura de la resina fotopolimerizable líquida colada.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2011/031343.

Solicitante: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 245 FREIGHT STREET WATERBURY, CONNECTICUT 06702 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.

Inventor/es: VEST,Ryan, JOHNSON,DEBORAH.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/26 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).

PDF original: ES-2581338_T3.pdf

 

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