Método para crear textura superficial en elementos de impresión flexográfica.

Un método para fabricar un elemento de impresión de imágenes en relieve a partir de un blanco para impresión fotosensible,

comprendiendo dicho blanco para impresión fotosensible una capa de máscara que se puede eliminar con láser dispuesta sobre al menos una capa fotocurable, donde la capa de máscara eliminable por láser se elimina por láser selectivamente para crear una máscara in situ y descubrir porciones de al menos una capa fotocurable, comprendiendo el método las etapas de:

a) transportar el blanco para impresión fotosensible a través del espacio formado entre un rodillo con textura y un rodillo de soporte, donde el rodillo con textura entra en contacto con la máscara in situ y las porciones descubiertas de la al menos una capa fotocurable; y

b) exponer la al menos una capa fotocurable a al menos una fuente de radiación actínica a través de la máscara in situ para reticular y curar selectivamente las porciones de la al menos una capa fotocurable que no está cubierta con la máscara in situ;

donde se transfiere un diseño topográfico definido desde el rodillo con textura a al menos las porciones descubiertas de la al menos una capa fotocurable.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2015/013179.

Solicitante: Macdermid Graphics Solutions, LLC.

Inventor/es: GOTSICK,TIMOTHY, BRYANT,LAURIE A, RECCHIA,DAVID A.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/16 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).
  • G03F7/26 G03F 7/00 […] › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).

PDF original: ES-2707529_T3.pdf

 

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