Laminado de resina fotosensible y procesado térmico del mismo.

Un método de desarrollo de un blanco de impresión apto para fotocurado para producir un patrón en relieve que comprende una pluralidad de puntos en relieve,

en el que el blanco de impresión apto para fotocurado comprende una capa de forro que tiene al menos una capa apta para fotocurado dispuesta sobre la misma, una capa de barrera dispuesta sobre la parte superior de la capa apta para fotocurado, y una capa de máscara apta para ablación con láser dispuesta sobre la parte superior de la capa de barrera, comprendiendo el método la etapa de:

a) formar imágenes de al menos una capa apta para fotocurado por medio de ablación selectiva de la capa de máscara apta para ablación con láser con el fin de crear una imagen;

b) exponer el blanco de impresión a radiación actínica a través de la capa de barrera y la capa de máscara a una o más fuentes de radiación actínica para reticular de forma selectiva y curar las partes de al menos una capa apta para fotocurado, en el que al menos una capa apta para fotocurado se reticula y se cura en las partes no cubiertas por la capa de máscara, creando de este modo un patrón en relieve; y

c) desarrollar el elemento de impresión para retirar la capa de barrera, la capa de máscara sometida a ablación por láser las partes no curadas de la capa apta para fotocurado y revelar el patrón en relieve;

en el que la capa de barrera tiene un coeficiente de difusión de oxígeno menor de 6,9 x10-9 m2/s y una transparencia óptica de al menos un 50 %.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2012/029766.

Solicitante: Macdermid Graphics Solutions, LLC.

Inventor/es: GOTSICK,TIMOTHY, VEST,RYAN W, RECCHIA,DAVID A.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
  • G03F7/09 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
  • G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
  • G03F7/34 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen por transferencia selectiva, p. ej. por arrancamiento.

PDF original: ES-2720855_T3.pdf

 

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