Método y aparato para procesamiento térmico de elementos de impresión fotosensibles.
Un aparato para formar una estructura en relieve sobre un elemento de impresión fotosensible,
donde el elemento de impresión fotosensible incluye un sustrato flexible y al menos una capa de material fotosensible sobre el sustrato flexible, incluyendo el aparato:
(i) un recinto;
(ii) un medio de transporte incluyendo un bucle continuo, sobre el que se puede soportar un elemento de impresión fotosensible;
(iii) un rodillo calentable montado en el recinto;
(iv) un material absorbente que cubre al menos una parte del rodillo calentable, donde el material absorbente es capaz de absorber material licuado o ablandado de un elemento de impresión fotosensible cuando el elemento de impresión fotosensible entra en contacto con el material absorbente en una parte del rodillo calentable;
(v) un rodillo de alisado o rugosificación para uniformar la aspereza superficial del elemento de impresión fotosensible donde la parte del rodillo de alisado o rugosificación que contacta el elemento de impresión fotosensible no contacta simultáneamente ninguna parte del material absorbente en el punto donde tal material absorbente contacta el elemento de impresión fotosensible.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2009/046343.
Solicitante: Macdermid Graphics Solutions, LLC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 245 FREIGHT STREET WATERBURY, CT 06702 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.
Inventor/es: VEST,Ryan, COOK,BRIAN, HENNESSY,JIM, ELWELL,DAVID.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/26 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
- G03F7/36 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen no cubierta por los grupos G03F 7/30 - G03F 7/34, p. ej. utilizando una corriente gaseosa, un plasma.
- G03F7/40 G03F 7/00 […] › Tratamiento tras la eliminación según la imagen, p. ej. esmaltado.
PDF original: ES-2715634_T3.pdf
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