Método para mejorar el rendimiento de impresión en placas de impresión flexográfica.

Un método de adaptación de la forma de una pluralidad de puntos de impresión en relieve creados en una preforma de impresión fotosensible durante un proceso de producción de placas,

comprendiendo dicha preforma de impresión fotosensible al menos una capa fotocurable dispuesta sobre una capa de soporte, comprendiendo el método las etapas de:

a) exponer selectivamente la al menos una capa fotocurable a una fuente de radiación actínica para reticular selectivamente y curar porciones de la al menos una capa fotocurable; y

b) desarrollar la al menos una capa fotocurable expuesta para revelar la imagen en relieve en la misma, comprendiendo dicha imagen en relieve la pluralidad de puntos de impresión en relieve; en el que la fuente de radiación actínica comprende al menos una fuente de luz UV en el rango UV-A de entre 300 y 400 nm y al menos una fuente de luz en el rango UV-C de entre 200 y 300 nm, en el que la al menos una capa fotocurable se expone simultáneamente a la al menos una fuente de luz UV en el rango UV-A y la al menos una fuente de luz UV en el rango UV-C;

caracterizado por que la al menos una capa fotocurable comprende tanto un fotoiniciador que responde a la luz UV-A como un fotoiniciador que responde a la luz UV-C, o un fotoiniciador que es sensible a la luz UV-A y UV-C, y al exponer simultáneamente la al menos una capa fotocurable a la al menos una fuente de luz UV en el rango UV-A y la al menos una fuente de luz UV en el rango UV-C, se producen puntos de impresión que tienen al menos una geometría característica seleccionada del grupo que consiste en una planaridad deseada de una superficie superior de los puntos de impresión en relieve, un ángulo de resalte deseado de los puntos de impresión en relieve y una nitidez de borde deseada de los puntos de impresión en relieve.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2014/033447.

Solicitante: Macdermid Graphics Solutions, LLC.

Inventor/es: BOUKAFTANE,CHOUAIB.

Fecha de Publicación: 21 de Agosto de 2019.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F7/20 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
G03F7/26 G03F 7/00 […] › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).

PDF original: ES-2751689_T3.pdf

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