Laminado de resina fotosensible y su tratamiento térmico.

Un método para revelar térmicamente un blanco de impresión fotocurable para producir un patrón de relieve comprendiendo una pluralidad de puntos en relieve,

en donde el blanco de impresión fotocurable comprende una capa de soporte que tiene al menos una capa fotocurable dispuesta sobre el mismo y una capa de máscara extirpable con láser dispuesta en la parte superior al menos una capa fotocurable, el método comprendiendo las etapas de:

a) formar imágenes de la al menos una capa fotocurable mediante la extirpación selectiva de la capa de máscara extirpable con láser para crear una imagen sobre la superficie de la al menos una capa fotocurable;

b) laminar una membrana de barrera al oxígeno en la parte superior de la capa de máscara extirpada por láser;

c) exponer el blanco de impresión a la radiación actínica a través de la membrana de barrera al oxígeno y la capa de máscara a una o más fuentes de radiación actínica para reticular y curar selectivamente las porciones de la al menos una capa fotocurable, en donde la al menos una capa fotocurable está reticulada y curada en las partes no cubiertas por la capa de máscara, creando así el patrón de relieve;

d) eliminar la membrana de barrera al oxígeno de la parte superior de la capa de máscara extirpada con láser; y

e) revelar térmicamente el elemento de impresión para eliminar la capa de máscara extirpada por láser y las partes no curadas de la capa fotocurable y revelar el patrón de relieve.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2012/020901.

Solicitante: Macdermid Graphics Solutions, LLC.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 245 FREIGHT STREET WATERBURY, CT 06702 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.

Inventor/es: VEST,RYAN W, RECCHIA,DAVID A, BLAIR,JOSEPH H.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/09 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
  • G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
  • G03F7/34 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen por transferencia selectiva, p. ej. por arrancamiento.

PDF original: ES-2718094_T3.pdf

 

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