CIP 2015 : C23C 14/35 : por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.

CIP2015CC23C23CC23C 14/00C23C 14/35[3] › por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento (tubos de descarga provistos de medios que permiten la introducción de objetos o de un material para ser expuestos a la descarga H01J 37/00).

C23C 14/35 · · · por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

PROCEDIMIENTO DE OBTENCIÓN DE UN MATERIAL SÓLIDO CON AGREGADOS GASEOSOS MEDIANTE PULVERIZACIÓN CATÓDICA POR MAGNETRÓN EN CONDICIONES ESTÁTICAS O CUASIESTÁTICAS PARA REDUCIR EL CONSUMO DE GAS.

(22/05/2020). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: FORTIO GODINHO,VANDA CRISTINA, FERNÁNDEZ CAMACHO,Mª Asunción, HUFSCHMIDT,Dirk, JIMÉNEZ DE HARO,Mª Carmen.

La presente invención se refiere a un procedimiento de obtención de un materia! sólido con agregados gaseosos embebidos en él, donde dichos agregados están embebidos en el interior de nanoporos y/o en las fronteras de grano del sólido, mediante pulverización catódica por magnetrón, en un régimen estático o cuasiestático. La presente invención se enmarca en procesos de la industria metalúrgica, y/o procesos de obtención de materiales con otros embebidos (nanocomposites) mediante pulverización.

PROCEDIMIENTO DE OBTENCIÓN DE UN MATERIAL SÓLIDO CON AGREGADOS GASEOSOS MEDIANTE PULVERIZACIÓN CATÓDICA POR MAGNETRÓN EN CONDICIONES ESTÁTICAS O CUASIESTÁTICAS PARA REDUCIR EL CONSUMO DE GAS.

(18/05/2020). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: FORTIO GODINHO,VANDA CRISTINA, FERNÁNDEZ CAMACHO,Mª Asunción, HUFSCHMIDT,Dirk, JIMÉNEZ DE HARO,Mª Carmen.

Procedimiento de obtención de un material sólido con agregados gaseosos mediante pulverización catódica por magnetrón en condiciones estáticas o cuasiestáticas para reducir el consumo de gas. La presente invención se refiere a un procedimiento de obtención de un material sólido con agregados gaseosos embebidos en él, donde dichos agregados están embebidos en el interior de nanoporos y/o en las fronteras de grano del sólido, mediante pulverización catódica por magnetrón, en un régimen estático o cuasiestático. La presente invención se enmarca en procesos de la industria metalúrgica, y/o procesos de obtención de materiales con otros embebidos (nanocomposites) mediante pulverización.

PDF original: ES-2761148_A1.pdf

PDF original: ES-2761148_B2.pdf

Proceso y planta para obtener un acristalamiento de color.

(22/04/2020) Proceso para depositar un revestimiento en un sustrato de vidrio, dicho proceso estando caracterizado porque comprende las siguientes etapas sucesivas: a) pasar dicho sustrato a través de un dispositivo para deposición al vacío por pulverización catódica, b) introducir un gas en dicho dispositivo para deposición al vacío y generar un plasma a partir de dicho gas, c) co-pulverización simultáneamente, en una y la misma cámara del dispositivo para deposición al vacío, - de un primer componente hecho de un material que consiste en un óxido, un nitruro o un oxinitruro de un primer elemento y - de un segundo componente que consiste en la forma…

Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato.

(26/02/2020) Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato , incluyendo el conjunto de plasma: una diana magnetrónica (Ts) que tiene una superficie diana; un cátodo magnetrónico con un borde largo, un borde corto y un polo magnético, estando dicho polo magnético dispuesto para formar, en el uso, un circuito de pulverización catódica dentro de la diana magnetrónica (Ts) y una barrera electromagnética; un ánodo (As) conectado eléctricamente al cátodo magnetrónico; un suministro de energía de cátodo magnetrónico (Ps) conectado al cátodo magnetrónico y al ánodo; al menos dos electrodos de descarga de arco remoto ; un suministro de energía de descarga de arco remoto conectado entre los al menos dos electrodos de descarga de arco remoto…

Placa transparente con recubrimiento calefactor.

(12/02/2020) Placa transparente con por lo menos un recubrimiento calentable, conductor de la electricidad, que está unido con por lo menos dos electrodos (11, 11') colectores suministrados para la conexión eléctrica, con los dos polos de una fuente de voltaje, de modo que mediante aplicación de un voltaje de alimentación fluye una corriente de calor a través de un campo de calor formado entre los electrodos colectores, en la que el campo de calor contiene al menos una zona libre de recubrimiento que está limitada por un borde de zona formada al menos en secciones por el recubrimiento conductor de la electricidad, en la que - por lo menos un electrodo (11, 11') colector está conectado eléctricamente…

Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato.

(15/01/2020) Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento de una atmósfera de gas, que presenta una entrada y una salida para un gas de proceso, así como un ánodo y un cátodo de evaporación cilíndrico realizado como diana , comprendiendo dicho cátodo de evaporación cilíndrico el material diana , estando prevista además una fuente de energía eléctrica para generar una tensión eléctrica entre el ánodo y el cátodo , de manera que por medio de la fuente de energía eléctrica el material diana del cátodo cilíndrico se puede convertir a una fase de vapor, y estando prevista una fuente de campo magnético que genera un campo magnético, estando previstos en la cámara de proceso al mismo tiempo un…

Procedimiento de revestimiento de un substrato, instalación de aplicación del procedimiento y dispositivo metálico de alimentación de tal instalación.

(12/11/2019). Solicitante/s: Arcelormittal. Inventor/es: CHALEIX, DANIEL, JACQUES,DANIEL, SPONEM,FLORENT.

Procedimiento de revestimiento de al menos una cara de un substrato en deslizamiento, por evaporación en vacío mediante plasma de una capa metálica o de aleación metálica susceptible de ser sublimada, según el cual dicho metal o aleación metálica se dispone junto a dicha cara del substrato en forma de al menos dos lingotes colocados en contacto uno con otro, siendo la superficie de dichos lingotes, que está girada hacia dicha cara del substrato, paralela al substrato y a una distancia constante de éste, siendo dichos lingotes desplazados simultáneamente durante el revestimiento, de forma continua o secuencial, por traslación, estando la superficie de los lingotes opuesta a la girada hacia el substrato en contacto con un plano inclinado, para mantener sus superficies giradas hacia el substrato paralelas y a distancia constante de éste.

PDF original: ES-2730837_T3.pdf

Herramienta de corte con capa de detección de desgaste.

(05/11/2019) Herramienta, compuesta por - un cuerpo de sustrato de metal duro, cermet, cerámica, acero o acero de corte rápido, - un revestimiento de protección contra el desgaste con un o con una pluralidad de estratos, depositado opcionalmente sobre el cuerpo de sustrato, y - una capa de detección de desgaste de una pluralidad de estratos (B), dispuesta como capa más externa sobre el cuerpo de sustrato o sobre el revestimiento de protección contra el desgaste opcional, la cual comprende al menos 4 estratos individuales dispuestos unos sobre otros, producida a través de la deposición de metales elementales, aleaciones de metal o compuestos de metal eléctricamente conductores,…

Procedimiento para la producción de capas nanoestructuradas.

(03/07/2019). Solicitante/s: FORSCHUNGSZENTRUM JULICH GMBH. Inventor/es: UHLENBRUCK,SVEN, BÜNTING,AIKO.

Procedimiento para la producción de un electrodo nanoestructurado para una célula electroquímica, - en el que se aplica material activo con ayuda del bombardeo catódico por magnetrón a un sustrato eléctricamente conductor, - en el que se utiliza una diana cerámica, que comprende un material de electrodo con un porcentaje adicional de carbono de entre el 0,1 y el 25% en peso, y - en el que el material activo se deposita en una etapa de proceso sobre el sustrato eléctricamente conductor, manteniéndose el sustrato durante la deposición a temperaturas de entre 400ºC y 1200ºC, y configurándose durante la deposición una red porosa de tipo fibrosa.

PDF original: ES-2747773_T3.pdf

Herramienta con capa funcional que contiene cromo.

(17/05/2019) Herramienta de corte con un sustrato de metal duro, cermet, acero o acero de corte rápido (HSS) y un revestimiento de varias capas precipitado sobre éste en el procedimiento PVD, que comprende la siguiente secuencia de capas partiendo del sustrato: a) una capa básica constituida por una o varias capas iguales o diferentes superpuestas de un nitruro o carbonitruro, que contiene al menos aluminio (Al) y opcionalmente uno o varios metales ulteriores, seleccionados entre Ti, Cr, Si, Y, Ru y Mo, b) una capa intermedia de óxido de aluminio cúbico dispuesta directamente sobre la capa básica, c) una capa funcional que contiene cromo dispuesta sobre la capa intermedia con estructura romboédrica, seleccionada entre óxido de cromo (Cr2O3), oxinitruro de cromo, óxido de…

Procedimiento y dispositivo para ahorrar energía y al mismo tiempo aumentar la velocidad de paso en las instalaciones de recubrimiento al vacío.

(01/05/2019) Dispositivo de recubrimiento mediante pulverización, que se compone de en una serie de segmentos de pulverización y de segmentos de separación de gases con un plano de sustrato continuo , en el que los segmentos de pulverización están formados por una cubeta de caldera con un dispositivo de transporte interno para el transporte de sustratos y por al menos una tapa de la caldera conectada a la cubeta de caldera por medio de una brida de la caldera , disponiéndose la brida de la caldera en la proximidad inmediata por encima del plano de sustrato y encontrándose un bloque de apoyo de cátodos con objetivo y los canales de entrada de gas en las proximidades inmediatas…

Recubrimiento de alto rendimiento para formación de metal en frío de acero de alta resistencia.

(22/04/2019). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: ARNDT,MIRJAM, KHATIBI,ALI.

Recubrimiento depositado sobre una superficie de sustrato de una herramienta de formación de metal o miembro de formación de metal para conformado en frío de aceros de alta resistencia, comprendiendo el recubrimiento una capa inferior que comprende CrN y una capa superior que comprende TiCN, en la que dicha capa inferior se deposita más cerca del sustrato que dicha capa superior, caracterizada porque: • la capa inferior está hecha de nitruro de cromo enriquecida con oxígeno que exhibe una estructura cúbica con orientación preferida , • la capa superior está hecha de carbonitruro de titanio enriquecida con hidrógeno.

PDF original: ES-2709986_T3.pdf

Aparato de pulverización que incluye un cátodo con objetivos rotatorios, y método relacionado.

(04/04/2019) Un aparato de pulverización catódica para recubrir por pulverización catódica, un artículo en un entorno reactivo, que comprende: una cámara de vacío ; un cátodo que tiene una porción de cuerpo hueca; y en donde el aparato de pulverización catódica comprende, además: un yugo sustancialmente plano provisto entre el cátodo y la cámara , incluyendo el yugo al menos la primera y la segunda ubicaciones objetivo (56a; 56b) provistas en una primera superficie principal del mismo, y al menos una tercera y una cuarta ubicaciones objetivo (56c; 56d) provistas en una segunda superficie principal del mismo, estando dispuestas la al menos primera y segunda ubicaciones objetivo (56a; 56b) de manera que al menos inicialmente se enfrenten a la cámara de vacío , estando las al menos tercera y…

Bloque de extremo y barra de imán para sistema de pulverización catódica.

(03/04/2019) Un bloque de extremo para transportar de manera giratoria un tubo de objetivo de pulverización catódica y para sujetar una barra de imán dentro de dicho tubo de objetivo de pulverización catódica, comprendiendo dicho bloque de extremo un receptáculo para recibir un accesorio de barra de imán , en donde dicho receptáculo comprende una primera parte de un conector de señal dispuesto para recibir una segunda parte de un conector de señal de dicho accesorio de barra de imán y que permite una conexión de señal entre el bloque de extremo y la barra de imán que se va a formar, comprendiendo el bloque de extremo un canal de líquido de refrigeración para conducir…

Vaina de combustible nuclear de material compuesto, procedimiento de fabricación y utilizaciones frente a la oxidación/hidruración.

(03/04/2019). Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES. Inventor/es: SCHUSTER, FREDERIC, BRACHET,JEAN-CHRISTOPHE, BILLARD,ALAIN, LE FLEM,MARION, IDARRAGA-TRUJILLO,ISABEL, LE SAUX,MATTHIEU, LOMELLO,FERNANDO.

Vaina de combustible nuclear de material compuesto que comprende i) un sustrato que contiene una capa interna a base de circonio y al menos una capa de separación colocada sobre dicha capa interna y compuesta de al menos una materia de separación elegida entre tántalo, molibdeno, tungsteno, vanadio, hafnio o sus aleaciones y ii) al menos una capa externa colocada sobre el sustrato y compuesta de una materia protectora elegida entre cromo o una aleación a base de cromo.

PDF original: ES-2731240_T3.pdf

Vainas de combustible nuclear, procedimiento de fabricación y usos contra la oxidación/hidruración.

(21/03/2019). Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES. Inventor/es: SCHUSTER, FREDERIC, BRACHET,JEAN-CHRISTOPHE, BILLARD,ALAIN, LE FLEM,MARION, IDARRAGA-TRUJILLO,ISABEL, LE SAUX,MATTHIEU, LOMELLO,FERNANDO.

Procedimiento de fabricación de una vaina de combustible nuclear que comprende i) un sustrato que contiene una capa interna a base de circonio revestida o no de al menos una capa intermedia ubicada sobre dicha capa interna , y ii) al menos una capa externa ubicada sobre el sustrato y compuesta de un material protector seleccionado entre el cromo o una aleación de cromo; procedimiento que comprende las siguientes etapas sucesivas: a) decapado iónico de la superficie del sustrato; b) depósito de dicha al menos una capa externa sobre el sustrato con un procedimiento de pulverización catódica por magnetrón mediante pulsos de alta potencia (HiPIMS) en el cual el magnetrón de cátodos se compone del material protector.

PDF original: ES-2705060_T3.pdf

Herramientas de alto rendimiento que exhiben desgaste del cráter reducido en particular por las operaciones de maquinado en seco.

(28/02/2019) Sistema de recubrimiento depositado sobre una superficie de un sustrato que comprende al menos una película de varias capas formada de nanocapas A y B alternadas depositadas una sobre otra, en el que las nanocapas A contienen nitruro de boro aluminio y cromo y las nanocapas B contienen nitruro de aluminio y cromo, pero no contienen boro, caracterizado porque las nanocapas A tienen una región con el mayor contenido de boro y una región con un menor contenido de boro, en el que la región que tiene menor contenido de boro es la región adyacente a las nanocapas B, en la que la suma del espesor de una nanocapa A y el espesor de una nanocapa B depositadas una sobre otra en la película de varias capas…

Procedimiento híbrido PVD para la precipitación de capas de cristal mixto.

(20/02/2019). Solicitante/s: WALTER AG. Inventor/es: SCHIER,VEIT, ENGELHART,WOLFGANG.

Procedimiento para la precipitación de capas de cristal mixto monofásicas a partir de óxido de aluminio-cromo sobre un sustrato por medio de procedimientos PVD, caracterizado por que la precipitación de la capa de cristal mixto se lleva a cabo bajo aplicación simultánea i) del procedimiento de atomización catódica pulverización de magnetrón dual o pulverización de magnetrón por impulsos de potencia elevada (HIPIMS), y ii) evaporación en arco voltaico (Arc-PVD), utilizándose para la aplicación del procedimiento de atomización catódica pulverización de magnetrón dual o pulverización de magnetrón por impulsos de potencia elevada (HIPIMS) al menos un objetivo que contiene al menos aluminio, y en caso dado adicionalmente cromo, y utilizándose para la aplicación de la evaporación en arco voltaico (Arc-PVD) al menos un objetivo que contiene al menos cromo.

PDF original: ES-2719104_T3.pdf

Artículos recubiertos de nitruro de cromo en bicapa y métodos relacionados.

(16/01/2019). Solicitante/s: Vergason Technology Inc. Inventor/es: SMITH,RICKY L, FITCH,MARK A, VERGASON,GARY E.

Un artículo que comprende: un sustrato; una primera capa de material de nitruro de cromo localizada sobre el sustrato y que tiene un primer espesor, una primera concentración de cromo uniforme y una primera concentración de nitrógeno uniforme; una segunda capa de material de nitruro de cromo localizada sobre la primera capa de material de nitruro de cromo y que tiene un segundo espesor, una segunda concentración de cromo que aumenta progresivamente escalonada y una segunda concentración de nitrógeno que disminuye progresivamente escalonada; en donde el primer espesor es desde 200 a 1000 nanómetros; y en donde el segundo espesor es desde 100 a 150 nanómetros.

PDF original: ES-2718055_T3.pdf

Artículos revestidos y sus procedimientos de fabricación.

(25/04/2018). Solicitante/s: Apogee Enterprises, Inc. Inventor/es: STULL,RANDY LELAND, SPURGEON,KRISTIN, HUFFER,RUSSELL, BOYUM,HENRY, GRUBB,KEITH.

Un procedimiento de producción de sustratos revestidos, comprendiendo el procedimiento: a) la provisión de un sustrato que presenta una superficie principal; b) la deposición de un primer revestimiento que comprende un primer sistema de capas que comprende una pluralidad de capas sobre un primer segmento de superficie de dicha superficie principal mediante pulverización magnetrónica; c) la deposición de un segundo revestimiento que comprende un segundo sistemas de capas que comprende una pluralidad de capas sobre un segundo segmento de superficie de dicha superficie principal mediante pulverización magenetrónica; en el que el primer revestimiento es diferente del segundo revestimiento.

PDF original: ES-2672629_T3.pdf

Método mejorado de copulverización catódica de aleaciones y compuestos que usan una disposición catódica C-MAG doble y aparato correspondiente.

(11/04/2018) Método de preparación de un artículo revestido que comprende una película soportada por un sustrato, comprendiendo el método: tener una primera y una segunda dianas de pulverización catódica cilíndricas giratorias, comprendiendo la primera diana de pulverización catódica un primer material de pulverización catódica y comprendiendo la segunda diana de pulverización catódica un segundo material de pulverización catódica, pulverizar catódicamente la primera y la segunda dianas de pulverización catódica, y en donde al menos una barra de imán de la segunda diana de pulverización catódica se orienta de un modo tal que durante la pulverización catódica de la segunda diana se pulverice…

Fuente de deposición por arco con campo eléctrico definido.

(17/01/2018) Dispositivo de evaporación por arco que comprende - un cátodo que contiene una superficie con aquel material, que va a evaporarse - medios magnéticos que llevan a un campo magnético a lo largo de la superficie del cátodo - un ánodo para la absorción de los electrones, que se extraen del cátodo durante el proceso de evaporación - una fuente de tensión, que permite colocar en potencial positivo al menos durante cierto tiempo el ánodo frente al cátodo caracterizado por que el ánodo está dispuesto en la proximidad inmediata del cátodo y en combinación con el campo magnético generado por los medios magnéticos de tal manera que las líneas del campo magnético…

BLANCO SÓLIDO DE GASES NOBLES PARA REACCIONES NUCLEARES.

(04/01/2018). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: FORTIO GODINHO,VANDA CRISTINA, FERNÁNDEZ CAMACHO,ASUNCIÓN, FERRER FERNÁNDEZ,Francisco Javier, CABALLERO-HERNANDEZ,Jaime, GOMEZ CAMACHO,Joaquin, FERNANDEZ MARTÍNEZ,Begoña.

Blanco sólido de gases nobles para reacciones nucleares. Constituye un objeto de la presente invención un blanco sólido de gases nobles para reacciones nucleares que comprende una película porosa de un material que se selecciona entre silicio, cobre, cobalto, titanio, aluminio o wolframio, la cual contiene en sus poros un gas que se selecciona entre helio y neón, puros o combinaciones de los mismos entre sí y con argón. Constituyen otros objetos de la invención el procedimiento de preparación del blanco sólido, así como su uso en experimentos de dispersión elástica y de cinemática inversa.

PDF original: ES-2582052_A1.pdf

BLANCO SÓLIDO DE GASES NOBLES PARA REACCIONES NUCLEARES.

(07/12/2017). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: FORTIO GODINHO,VANDA CRISTINA, FERNÁNDEZ CAMACHO,ASUNCIÓN, FERRER FERNÁNDEZ,Francisco Javier, CABALLERO-HERNANDEZ,Jaime, GOMEZ CAMACHO,Joaquin, FERNANDEZ MARTÍNEZ,Begoña.

Constituye un objeto de la presente invención un blanco sólido de gases nobles para reacciones nucleares que comprende una película porosa de un material que se selecciona entre silicio, cobre, cobalto, titanio, aluminio o wolframio, la cual contiene en sus poros un gas que se selecciona entre helio y neón, puros o combinaciones de los mismos entre sí y con argón. Constituyen otros objetos de la invención el procedimiento de preparación del blanco sólido, así como su uso en experimentos de dispersión elástica y de cinemática inversa.

Técnicas de deposición de revestimientos de óxido conductor transparente utilizando aparatos de pulverización catódica C-MAG doble.

(08/11/2017) Un método de fabricación de un artículo recubierto, comprendiendo el método: proporcionar un artículo a recubrir; proporcionar un aparato de pulverización catódica que comprende: una cámara de vacío, un primer y un segundo tubos cilíndricos rotatorios situados en estrecha proximidad entre sí en otra cámara de vacío, soportando el primer y el segundo tubos respectivamente un primer y un segundo objetivos de pulverización catódica que incluyen un material objetivo, al menos una fuente de alimentación eléctrica conectada de forma operativa al primer y al segundo tubos de pulverización catódica, y una entrada de gas del tragante situada próxima al primer y al segundo…

Procedimiento de pulverización catódica de barrido lineal.

(14/06/2017) Procedimiento para procesar un sustrato mediante pulverización catódica, que comprende: colocar una pluralidad de sustratos sobre un transportador; manejar el transportador de forma que transporte la pluralidad de sustratos a una velocidad constante y en una orientación hacia una diana, de forma que a cualquier tiempo dado, varios sustratos están orientados hacia la diana entre el borde de ataque y el borde de salida; barrer de forma recíproca una disposición de imanes detrás de la diana al tiempo que sostiene el plasma en un espacio entre la diana y los sustratos, en el que la etapa de barrer de forma recíproca la disposición de imanes se realiza a una velocidad que es, como mínimo, varias veces más rápida que la velocidad constante del transportador,…

Ánodo para revestimiento por pulverización.

(29/03/2017) Un dispositivo de pulverización para usarlo en la pulverización de un material, que comprende un ánodo y una cámara de revestimiento que contiene un cátodo y un sustrato que debe ser revestido con el material de pulverización, caracterizado por que el ánodo define un recipiente que tiene un cuerpo interior eléctricamente conductor, un cuerpo exterior, una cavidad anódica dentro del cuerpo interior eléctricamente conductor y una apertura en un extremo del cuerpo interior eléctricamente conductor para comunicar con la cámara de revestimiento para permitir que las partículas cargadas fluyan entre el cuerpo interior eléctricamente conductor y el cátodo en la cámara de revestimiento,…

Aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica.

(14/12/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición física de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición física de vapor incluye al menos un blanco de material de recubrimiento que comprende una fuente del material de recubrimiento resistente al desgaste que va…

Bloque de extremo para diana giratoria con conexión eléctrica entre colector y rotor a presión inferior a la presión atmosférica.

(23/11/2016) Un aparato de pulverización catódica que comprende: una diana de pulverización catódica cilíndrica giratoria ; al menos un bloque de extremo para soportar un extremo de la diana de pulverización catódica cilíndrica giratoria , incluyendo el bloque de extremo un colector conductor fijo y un rotor conductor giratorio dispuesto para girar con la diana de pulverización catódica cilíndrica durante las operaciones de pulverización catódica; el bloque de extremo que incluye además una estructura de transferencia de energía eléctrica situada entre el colector conductor fijo y el rotor giratorio y dispuesta para…

Fuentes de pulverización catódica a alta presión con blancos grandes y procedimiento de pulverización catódica.

(05/10/2016). Solicitante/s: FORSCHUNGSZENTRUM JULICH GMBH. Inventor/es: FALEY,MIKHAIL, POPPE,ULRICH.

Cabezal de pulverización catódica con un alojamiento para un blanco de pulverización catódica y una o varias fuentes de campo magnético para generar un campo de dispersión magnético con líneas de campo que salen de la superficie del blanco de pulverización catódica y entran nuevamente en ésta, estando el polo Norte y el polo Sur de al menos una fuente de campo magnético - entre los cuales se forma el campo de dispersión - separados uno de otro en 10 mm o menos, preferiblemente 5 mm o menos y de manera muy especialmente preferida alrededor de 1 mm, caracterizado por que el alojamiento del blanco está rodeado por un blindaje para limitar espacialmente la erosión del material al blanco de pulverización catódica y por que está dispuesto un aislador de cuerpo sólidos entre el alojamiento del blanco y el blindaje.

PDF original: ES-2602114_T3.pdf

Aparato de cátodo rotativo para pulverización por magnetrón y método de deposición de material con el mismo.

(05/10/2016) Un aparato de cátodo rotativo para pulverización por magnetrón que comprende una fuente de alimentación de radiofrecuencia, un conjunto de suministro de energía, un cátodo cilíndrico y rotativo, un árbol y un motor de accionamiento , en el que dicho conjunto de suministro de energía comprende una fuente de campo magnético situada dentro de dicho cátodo y un electrodo que se extiende dentro de dicho cátodo; la superficie exterior de dicho cátodo comprende un material diana ; dicho electrodo está dispuesto para estar aislado eléctricamente de dicho árbol; dicho electrodo y dicho árbol están formados por materiales no ferrosos; dicho árbol está dispuesto para ser generalmente coaxial con dicho cátodo y dispuesto para estar mecánicamente conectado a dicho cátodo de manera que dicho árbol y dicho cátodo estén eléctricamente aislados…

Aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica.

(27/07/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición en fase de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición en fase de vapor incluye al menos un blanco…

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