25 patentes, modelos y diseños de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon

Pistón de acero para un motor de combustión interna y procedimiento para su producción.

Secciones de la CIP Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(04/12/2018). Inventor/es: RAMM, JURGEN, Widrig,Beno, DR. LEHNERT,MONIKA, DR. ROSE,REINHARD. Clasificación: F02F3/00, C23C28/04, F02F3/10, C23C14/02, C23C14/06, C23C14/00, C23C28/00, F02F3/12, F02F3/14, B23P15/10.

Pistón de acero para un motor de combustión interna, que presenta una cabeza del pistón y una capa protectora aplicada sobre la cabeza del pistón, conteniendo la capa protectora: a) una capa adhesiva de Cr o CrN, que está presente sobre la superficie de la cabeza del pistón, y b) una capa funcional, que está presente sobre la capa adhesiva, presentando la capa funcional una o varias capa(s) (A) de CrN así como una o varias capa(s) (B) de CrON en la forma de [(A)/(B)]a, siendo a ≥ 1 a 100.

PDF original: ES-2692538_T3.pdf

Dispositivo de sujeción para el tratamiento de superficies de cuchillas de barras.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(25/09/2018). Inventor/es: VOGEL,REMO, STEWART,ROBERT EUGENE, LAFORCE,PHILLIP J. Clasificación: C23C16/04, C23C16/458, C23C14/04, C23C14/50.

Dispositivo de sujeción con cuchillas de barras para la fijación de cuchillas de barras para el recubrimiento de sus aristas cortantes, estando configurada la fijación de tal modo que varias cuchillas de barras pueden colocarse en fila de modo que sus superficies cortantes y puntas presenten la misma orientación, y el dispositivo de sujeción comprende un blindaje, que protege las superficies cortantes al menos parcialmente del recubrimiento, caracterizado por que en el caso de las cuchillas de barras colocadas en fila de la manera descrita el borde1 superior del blindaje supera en altura las puntas de cuchilla en un modo que no sobresale ninguna punta de cuchilla, estando distanciado el blindaje de las superficies cortantes.

PDF original: ES-2683231_T3.pdf

Objetivo de pulverización con mayor compatibilidad de potencia.

(06/06/2018) Fuente de revestimiento como proveedor de material para un revestimiento PVD, que comprende a) un soporte y una placa, alojada en el soporte, con lado delantero de placa (1a) y lado trasero de placa (1c) y con medios de centrado, comprendiendo el soporte una montura de placa con forma de marco para el alojamiento de la placa , siendo la placa un objetivo, y estando previsto el lado delantero de placa (1a) para transferir material de revestimiento desde la superficie a la fase gaseosa durante el proceso PVD, y estando configurados los medios de centrado de forma que está garantizado el centrado a diferentes temperaturas…

Herramienta de corte.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(18/04/2018). Inventor/es: WOHLRAB, CHRISTIAN, Ramm,Juergen,Dr, QUINTO,DENNIS. Clasificación: C23C28/04, B23B27/14, C23C30/00, B23B5/00.

Un método para fabricar una herramienta de corte, comprendiendo dicho método: - proporcionar un cuerpo sinterizado de carburo cementado, CBN, cermet o cerámica que tiene un borde cortante con un radio de borde Re inferior a 40 μm, un cara de flanco y una cara de ataque, y - depositar un recubrimiento de PVD de una sola capa o multicapa sobre al menos algunas partes del borde cortante y que comprende al menos una capa oxídica aplicada por deposición por arco en vacío.

PDF original: ES-2672002_T3.pdf

Revestimiento con capa a base de MO-N con fase delta del nitruro de molibdeno.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(11/04/2018). Inventor/es: RAMM, JURGEN, KARNER, JOHANN, DR. Clasificación: C23C14/06.

Revestimiento que comprende al menos una capa de material duro a base de Mo-N, que comprende al menos mayoritariamente la fase hexagonal del nitruro de molibdeno δ-MoN, caracterizado porque la relación de intensidad de los dos picos (δ-MoN 220)/(δ-MoN 200) en un difractograma XRD es ≥ 3.

PDF original: ES-2677224_T3.pdf

Pieza de plástico revestida con una capa de PVD incluida.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(14/03/2018). Inventor/es: RIBEIRO,CARLOS, BAUR,SASCHA. Clasificación: C23C14/02, C23C14/20, C23C28/00, C23C14/58.

Pieza de plástico que comprende un sustrato y un sistema de capas aplicado sobre el sustrato, estando aplicada directamente sobre el sustrato una primera capa de barniz y a la capa de barniz le sigue un sistema de capas de PVD, caracterizada por que el sistema de capas de PVD comprende al menos una primera capa, una segunda capa y una tercera capa, encontrándose la primera capa sobre la primera capa de barniz y estando realizada como capa de adherencia, estando configurada la segunda capa como capa de amortiguación estabilizadora y estando realizada la tercera capa como capa que otorga color, presentando la capa de amortiguación una estructura interna visible en MEB como estratos de capas y/o presentando los estratos de capas de la capa de amortiguación diferentes propiedades con respecto a dureza y/o elasticidad.

PDF original: ES-2675163_T3.pdf

Dispositivo de irradiación UV de funcionamiento cíclico.

Secciones de la CIP Física Técnicas industriales diversas y transportes Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura

(21/02/2018). Inventor/es: SCHAFER, RUDIGER, DR., KASPAR,MARTIN, RIBEIRO,CARLOS, KARSCH,TASSO. Clasificación: G02B5/20, B05D3/06, G02B5/28, B01J19/12, F26B3/28.

Dispositivo de irradiación con - al menos una fuente de radiación que emite tanto radiación UV como radiación W, es decir luz visible y/o radiación IR, y - con un dispositivo de transporte para la entrega de sustratos que van a irradiarse y - al menos un filtro selectivo de longitud de onda que refleja la radiación UV con un ángulo de 45° y que transmite la radiación W - con medios para la absorción de radiación IR que están dispuestos, aguas abajo del filtro óptico en la dirección de propagación, en la trayectoria de los rayos de la radiación W no desviada por el filtro selectivo de longitud de onda caracterizado por que los medios para la absorción de radiación IR están configurados también como medios para la absorción de luz visible y de rayos UV y por que el dispositivo de irradiación comprende medios de movimiento, para llevar el filtro selectivo de longitud de onda hacia la trayectoria de los rayos de la fuente de radiación y fuera de esta.

PDF original: ES-2666579_T3.pdf

Uso de una herramienta de formación en caliente revestida con un recubrimiento duro que comprende un sistema de capa dura de a-C:H:W para mejorar el rendimiento.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(14/02/2018). Inventor/es: SOBIECH,MATTHIAS LUKAS. Clasificación: C23C14/34, C23C14/06, B21D22/02, C23C14/00, C23C28/00, C21D1/673, B21D37/16.

Uso de una herramienta de formación recubierta que tiene un sustrato y un recubrimiento duro, el recubrimiento duro que comprende una capa de cromo como capa de adhesión, una capa dura de a-C:H:W depositada como capa funcional y una capa de inserción a-C:H:W depositada sobre dicha capa de a-C:H:W funcional dura, en el que la herramienta de conformación recubierta se usa como herramienta de conformación de lámina metálica en caliente para un proceso de conformación de lámina en caliente, en el que se procesa una lámina metálica recubierta con un recubrimiento a base de Zn o una lámina de metal revestida con un recubrimiento basado en AlSi, en el que la lámina metálica revestida que se procesa es una lámina metálica de ultra alta resistencia, y en la que la lámina metálica de ultra alta resistencia es una lámina metálica del tipo 22MnB5.

PDF original: ES-2668684_T3.pdf

Fuente de deposición por arco con campo eléctrico definido.

(17/01/2018) Dispositivo de evaporación por arco que comprende - un cátodo que contiene una superficie con aquel material, que va a evaporarse - medios magnéticos que llevan a un campo magnético a lo largo de la superficie del cátodo - un ánodo para la absorción de los electrones, que se extraen del cátodo durante el proceso de evaporación - una fuente de tensión, que permite colocar en potencial positivo al menos durante cierto tiempo el ánodo frente al cátodo caracterizado por que el ánodo está dispuesto en la proximidad inmediata del cátodo y en combinación con el campo magnético generado por los medios magnéticos de tal manera que las líneas del campo magnético…

Sistema de capas así como procedimiento de recubrimiento para la producción de un sistema de capas.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(03/01/2018). Inventor/es: ERKENS, GEORG, VETTER, JORG, DR.. Clasificación: C23C28/04, C22C27/02, C23C14/06, C23C28/00, C23C14/22.

Sistema de capas para la formación de una capa superficial sobre una superficie de un sustrato , en particular sobre la superficie de una herramienta de conformación, caracterizado por que el sistema de capas comprende al menos una primera capa superficial de la composición - (V97Zr3)α(N)β - (V97Zr3)α(N50C50)β - (V95Ni5)α(N65C30O5)β - (V96Ce4)α(N25C65O10)β - (V97Zr1Si1B1)α(N)β , con la suma de todos los átomos en la capa (α+β) ≥100 % en at., aplicándose 40 ≤ α ≤ 80 % en at.

PDF original: ES-2663533_T3.pdf

Procedimiento para la producción de capas de óxido de zirconio cúbicas.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(06/12/2017). Inventor/es: RAMM, JURGEN, Widrig,Beno. Clasificación: C23C14/00.

Procedimiento para la producción de una capa basada en óxido de zirconio sobre un sustrato de deposición, con empleo de evaporación de arco reactiva, con corriente de arco pulsada y/o con aplicación de un campo magnético perpendicular al blanco de arco, caracterizado por que se emplea un blanco mixto que comprende un zirconio elemental y al menos un estabilizante.

PDF original: ES-2660745_T3.pdf

Revestimiento transparente al radar.

Sección de la CIP Electricidad

(29/11/2017). Inventor/es: SCHULER, PETER, RIBEIRO,CARLOS, KECKES,ANTAL. Clasificación: H01Q1/32, H01Q1/44, H01Q1/42.

Componente transparente al radar que comprende un cuerpo de materia plástica transparente al radar, en el cual por lo menos unas partes de la superficie presentan una capa pulverizada por magnetrón y que contiene esencialmente silicio, el cuerpo de materia plástica transparente al radar consiste de un plástico negro, el espesor de la capa pulverizada por magnetrón que contiene esencialmente silicio es de entre 10 y 100 nm, y entre el cuerpo de materia plástica transparente al radar y una capa pulverizada por magnetrón que contiene esencialmente silicio, una capa intermedia está aplicada, que comprende una capa de polímero que consiste de un barniz acrílico sometido a un curado por UV y que alisa la estructura de la superficie, y sobre la capa pulverizada por magnetrón y que contiene esencialmente silicio una capa de polímero está aplicada que se obtura con respecto al entorno y que consiste de un barniz acrílico sometido a un curado por UV.

PDF original: ES-2656001_T3.pdf

Herramientas de corte con recubrimiento multicapa de AL-Cr-B-N / Ti-Al-N.

(22/11/2017) Sistema de recubrimiento multicapa depositado sobre al menos una parte de una superficie sólida del cuerpo y que contiene en las arquitectura multicapa, capas individuales de Al-Cr-BN depositadas por medio de un método físico de deposición de vapor caracterizado porque en al menos una parte del espesor total del sistema de recubrimiento multicapa, las capas individuales de Al-Cr-BN se combinan con capas individuales de Ti-Al-N, en el que las capas individuales de Al-Cr-BN y Ti-Al-N se depositan alternativamente una sobre otra, y en el que el espesor de las capas individuales de Al-Cr-BN son más gruesas que el espesor de las capas individuales de Ti-Al-N, y por lo tanto la tensión residual del sistema de recubrimiento multicapa es considerablemente menor en comparación con la tensión…

Configuración magnética modificable para fuentes de evaporación por arco.

(11/10/2017) Fuente de evaporación por arco con una disposición de campo magnético prevista en un blanco a partir de un material de revestimiento para la generación de campos magnéticos en y por encima de la superficie de blanco, comprendiendo la disposición de campo magnético imanes permanentes centrales (5a), imanes permanentes marginales y al menos una bobina anular dispuesta detrás del blanco, cuyo diámetro interior limitado por los devanados es preferentemente menor o igual, en todo caso no considerablemente mayor que el diámetro del blanco, caracterizada por que los imanes permanentes marginales y los imanes permanentes centrales (5a) pueden desplazarse esencialmente en perpendicular a la superficie del blanco de manera que se alejan del blanco y la proyección de los imanes…

Recubrimiento decorativo de color negro intenso.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(13/09/2017). Inventor/es: GUIMOND,SEBASTIEN, WURZER,MANFRED, WIDOWITZ,FRANZ. Clasificación: C23C16/02, C23C16/00, C23C16/455, C23C16/26.

Capa de materia dura sobre un componente, comprendiendo la capa de materia dura una capa DLC con una dureza de al menos 10 GPa y un índice de refracción nDLC de nDLC>2,1, caracterizada por que sobre la capa de carbono como diamante está prevista una capa en gradiente con un grosor de al menos 300 nm que presenta un gradiente de índice de refracción, no quedando el índice de refracción de la capa en gradiente, promediado sobre 30 nm, en la zona de la capa límite respecto a la capa DLC por debajo del valor de 2,0 y no superando el índice de refracción de la capa en gradiente, promediado sobre 30 nm, en la zona de la transición respecto al aire el valor de 1,85 y situándose preferiblemente en n≥1,7.

PDF original: ES-2650401_T3.pdf

Recubrimiento DCL con una capa de entrada.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(13/09/2017). Inventor/es: GUIMOND,SEBASTIEN, WURZER,MANFRED, WIDOWITZ,FRANZ. Clasificación: C23C16/02, C23C16/00, C23C16/455, C23C16/50, C23C16/26.

Capa de materia dura sobre un componente, comprendiendo la capa de materia dura una capa DLC con una dureza de al menos 10 GPa, caracterizada por que sobre la capa de carbono como diamante está prevista una capa en gradiente DLC con un grosor de al menos 300 nm, estando implementada la capa en gradiente DLC con una densidad decreciente y por tanto con una dureza decreciente, y no diferenciándose la capa en gradiente DLC de la capa DLC con respecto a los elementos químicos que comprenden.

PDF original: ES-2650379_T3.pdf

Fuente de evaporación por arco voltaico al vacío, así como una cámara de evaporación por arco voltaico con una fuente de evaporación por arco voltaico al vacío.

(23/08/2017) Fuente de evaporación por arco voltaico al vacío que comprende una fuente de campo magnético con forma de anillo y un cuerpo de cátodo con un material de evaporación como cátodo para la generación de una descarga por arco voltaico sobre una superficie de evaporación del cátodo , en cuyo caso el cuerpo de cátodo se limita en una primera dirección axial de una base de cátodo y en una segunda dirección axial de la superficie de evaporación en dirección axial, y la fuente de campo magnético con forma de anillo se polariza en paralelo o antiparalelo hacia una normal superficial de la superficie de evaporación y se dispone de modo concéntrico hacia la normal…

Soporte para revestimiento de cabezal de taladro.

(08/03/2017) Soporte para sustentar taladros en una instalación de revestimiento, con una primera pared perforada con primeros orificios y una segunda pared perforada, separada con respecto a la primera pared, con segundos orificios o hendiduras, que están armonizados con respecto a los primeros orificios, de manera tal que los taladros pueden introducirse de manera correspondiente en los primeros orificios y los mismos taladros puedan introducirse simultáneamente en los segundos orificios o hendiduras comprendiendo el soporte por lo menos una tercera pared separada con respecto a la segunda pared, que es adecuada para…

Fuente de plasma.

(15/02/2017) Dispositivo de generación de plasma, comprendiendo una fuente de plasma con cuerpo hueco fuente de plasma y una unidad de emisión de electrones que hace posible emitir electrones libres en el cuerpo hueco fuente de plasma , en donde el cuerpo hueco fuente de plasma presenta una primera entrada de gas (7a) y una abertura de fuente de plasma que forma una abertura que lleva a una cámara de vacío, así como un ánodo con cuerpo hueco de ánodo , en donde el cuerpo hueco de ánodo presenta una segunda entrada de gas (7b) y una abertura de ánodo , y una fuente de tensión cuyo polo negativo está unido con la unidad de emisión de electrones y cuyo polo positivo está unido con el cuerpo hueco de ánodo , en donde el polo positivo…

Recubrimiento para aplicaciones con alta temperatura y carga tribológica.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(04/01/2017). Inventor/es: Ramm,Juergen,Dr, SOEBISCH,MATHIAS LUKAS. Clasificación: C10N40/20, C10N40/36, C10M103/06, C01G39/00, C10N30/06, C10N30/08, C10N10/12, C10N10/02, C10N10/08, C10N10/10.

Recubrimiento con sistema de capas multiestratos y capa lubricante final, conteniendo el sistema de capas multiestratos al menos una capa HT y poseyendo la capa lubricante final una composición según Moa-Xb-Yc , siendo a, b y c la concentración atómica del correspondiente componente y siendo a+b+c ≥ 1 y 0 ≤ b < a y 0 ≤ c < a, con X como componente metálico variable: B, Si, V, W, Zr, Cu y Ag o una combinación de ellos y con Y como componente no metálico variable: C, O y N o una combinación de ellos, comprendiendo el sistema de capas multiestrato al menos una capa con actividad lubricante, caracterizado por que la al menos una capa con actividad lubricante es una capa Ti-Al-Mo-N que contiene un contenido promediado en Mo, medido con preferencia con EDX y kV, del 20 a 60 %at, con preferencia del 25 a 35 %at, con especial preferencia del 30 %at.

PDF original: ES-2621234_T3.pdf

Fuente de revestimiento con un objetivo adaptado en un dispositivo de refrigeración indirecta.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(30/11/2016). Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, HAGMANN,JUERG. Clasificación: C23C14/34.

Fuente de revestimiento compuesta de un objetivo con parte delantera y trasera, cuya parte trasera está dispuesta en una pared del soporte de fuente , en el que está integrada una refrigeración indirecta con canal de refrigeración , en donde el objetivo está fijado al soporte de fuente a través de las medidas apropiadas y la pared del soporte de fuente en la que está dispuesto el objetivo , está configurada en forma de membrana flexible , la cual separa el canal de refrigeración de la parte trasera del objetivo , caracterizada por que en la parte posterior del objetivo y/o en aquella pared del soporte de fuentes, en la que está dispuesto el objetivo, se ha pegado una hoja de carbono autoadhesiva.

PDF original: ES-2617518_T3.pdf

Instalación de barnizado.

(05/10/2016) Instalación de barnizado , que comprende por lo menos los siguientes medios: a) medios para la limpieza de los sustratos que deben barnizarse; b) medios para el barnizado de los sustratos; c) medios para endurecer los sustratos barnizados, estando configurada la instalación de barnizado en una modalidad constructiva modular y para cada uno de los medios a) a c) se ha previsto un módulo propio y cada módulo comprende un dispositivo de transporte autónomo, de manera tal durante la operación conjunta de los módulos , se realiza un transporte continuo en línea a un transporte en línea continuo en la dirección del movimiento a través de los módulos , en donde cada uno de estos módulos comprende una…

Fuente de evaporación en vacío de arco voltaico, así como una cámara de evaporación en vacío de arco voltaico con una fuente de evaporación en vacío de arco voltaico.

(18/05/2016) Fuente de evaporación en vacío de arco voltaico, que comprende una fuente de campo magnético en forma de anillo y un cuerpo de cátodo con un material de evaporación como cátodo para la generación de una descarga de arco voltaico sobre una superficie de evaporación del cátodo , en la que el cuerpo del cátodo está limitado en una primera dirección axial por un fondo del cátodo y en una segunda dirección axial por la superficie de evaporación en dirección axial, y la fuente de campo magnético en forma de anillo está polarizada paralela o antiparalela a una normal superficial de la superficie de evaporación y está dispuesta concéntricamente a la normal superficial de la superficie de evaporación , en la que un anillo de amplificación del campo magnético…

Procedimiento para la producción de capas de TIXSI1-xN.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(11/05/2016). Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, KURAPOV,DENIS. Clasificación: C23C14/34, C23C14/02, C23C14/06, C23C14/35.

Método para recubrir una pieza de trabajo con un recubrimiento que comprende por lo menos una capa de TixSi1-x N, en la cual x es ≤ 0,85 y en cuyo caso las capas de TixSi1-xN contienen nanocristales y los nanocristales contenidos tienen un tamaño medio de grano de no más de 15 nm, en donde x es la concentración Ti, que se expresa en % atómico, si sólo se toman los elementos metálicos en consideración, caracterizado por que, para la preparación de la capa de TixSi1-xN, se utiliza un método de pulverización catódica en el que por lo menos un objetivo de TixSi1-xN se utiliza como un objetivo de pulverización catódica; x ≤ 0,85 en % atómico; en la superficie del objetivo del objetivo de pulverización catódica, llega a densidades de corriente de por lo menos 0,2 A / cm2, preferiblemente superiores a 0,2 A/ cm210.

PDF original: ES-2630316_T3.pdf

Procedimiento para la fabricación de capas decorativas de material duro por HIPIMS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(04/05/2016). Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED. Clasificación: C23C14/34, C23C14/06, C23C14/35, C23C14/00.

Procedimiento para el revestimiento al menos de zonas parciales de la superficie de un sustrato o para la fabricación de sustratos con una zona de superficie con una capa decorativa de material duro en una cámara de revestimiento, en el que para la fabricación de la capa de material duro se aplica un proceso reactivo HIPIMS, en el que se utiliza al menos un gas reactivo, y se usa al menos un objetivo de un material que puede reaccionar con el gas reactivo durante la realización del proceso HIPIMS, de manera que de este modo se produce un color de capa predeterminado, en el que el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energético referido a la superficie objetivo de al menos 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia y/o por secuencia de pulsos de potencia , caracterizado por que el objetivo comprende titanio o titanio y aluminio o zirconio.

PDF original: ES-2636867_T3.pdf