(20/11/2019) Dispositivo para la formación de recubrimientos sobre superficies de una pieza constructiva, un material en forma de banda o una herramienta, en el que al menos un material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo utilizado para la formación del recubrimiento respectivo forma/forman un cátodo y/o un ánodo que están conectados a una fuente de tensión continua eléctrica, y entre los cuales está configurado un arco eléctrico, pudiéndose alimentar material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo mediante un equipo de alimentación; y material fundido y/o evaporado del material en forma de hilo o de banda (2.1 y/o 2.2), mediante una corriente de gas de un gas o de una mezcla de gases y a través de una entrada, penetra en el interior…

(04/09/2019) Un sistema de deposición , que comprende: una carcasa del sistema que tiene un armazón de la carcasa, unos paneles de la carcasa soportados por dicho armazón de la carcasa y un interior de la carcasa ; un conjunto de transferencia de utillajes de sujeción que tiene un carril inclinado de transferencia de utillajes de sujeción en general alargado soportado por el armazón del sistema y que se extiende a través del interior de la carcasa; una pluralidad de cámaras de deposición ordenadas de manera secuencial soportadas por el carril de transferencia de utillajes de sujeción en el interior de la carcasa; un controlador que está interconectado…

(24/07/2019) Un conjunto de metalizador en línea que comprende: una pluralidad de portapiezas , cada uno adaptado para contener una pluralidad de piezas, comprendiendo los portapiezas una pluralidad de fijaciones de pasador rotatorias , un cuerpo de elevación , un bastidor de soporte , que está separado del cuerpo de elevación, y un elemento de empuje que comprende un pasador que está adaptado para deslizarse en relación con al menos uno del cuerpo de elevación o el bastidor de soporte del portapiezas y un resorte que está configurado para aplicar un fuerza al cuerpo de elevación o al bastidor de soporte, en el que el elemento de empuje puede comprimirse de tal manera que una posición relativa entre el cuerpo de elevación y el bastidor de soporte pueda recolocarse a lo largo del pasador, en el que las fijaciones de pasador rotatorias…

(01/05/2019) Dispositivo de recubrimiento mediante pulverización, que se compone de en una serie de segmentos de pulverización y de segmentos de separación de gases con un plano de sustrato continuo , en el que los segmentos de pulverización están formados por una cubeta de caldera con un dispositivo de transporte interno para el transporte de sustratos y por al menos una tapa de la caldera conectada a la cubeta de caldera por medio de una brida de la caldera , disponiéndose la brida de la caldera en la proximidad inmediata por encima del plano de sustrato y encontrándose un bloque de apoyo de cátodos con objetivo y los canales de entrada de gas en las proximidades inmediatas…

(13/02/2019) Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos, según el cual - los sustratos se disponen sobre soportes de sustratos , que están instalados respectivamente en un carro y están montados de modo que circulan a través de las cámaras de proceso en un orden determinado, y - los soportes de sustratos se conducen a través de las cámaras de proceso según el orden, en donde se realiza el revestimiento en las cámaras de proceso con ayuda de dispositivos de proceso incorporados en ellas, y - en donde los soportes de sustratos están configurados en forma de tambores giratorios, - en donde los tambores giratorios se conducen a este respecto a través de campos de tratamiento de los dispositivos de proceso en paralelo al eje de giro de los tambores de giro y durante el paso a través de las cámaras de proceso se giran con…

(25/04/2018) Esclusa de gas (I) para la separación de dos compartimentos de gas (G1, G2), que comprende: a) al menos un cuerpo de admisión (K), que presenta al menos un canal de entrada (H) para un gas, que desemboca en un primer lado del cuerpo de admisión (K), b) al menos una pared (A) dispuesta a distancia del primer lado del al menos un cuerpo de admisión (K), donde entre la pared (A) y el al menos un cuerpo de afluencia (K) está configurado un intersticio (B) que está en conexión de fluido con el canal de entrada (H), c) al menos dos aberturas de escape (i1, i2) para el gas que están en conexión de fluido con el intersticio…

(04/10/2017) Generador de vapor para el depósito de un revestimiento metálico sobre un sustrato , de preferencia una banda de acero, que comprende una cámara de vacío en forma de un recinto, provista de medios para asegurar un estado de depresión con respecto al medio exterior y provista de medios que permiten la entrada y la salida del sustrato , siendo a vez esencialmente estanca con respecto al medio exterior, englobando dicho recinto un cabezal de depósito de vapor, llamado eyector , conformado para crear un chorro de vapor metálico a la velocidad sónica en dirección de y perpendicular a la superficie del sustrato , estando dicho eyector en comunicación…

(13/04/2016) Un método para producir un cable metálico revestido que comprende un núcleo de acero y una capa de revestimiento fabricada de un material de aleación metálica que incluye al menos un primer componente metálico y al menos un segundo componente metálico, seleccionándose dichos primer y segundo componentes metálicos de la capa de revestimiento del grupo que consiste en cobre, cinc, manganeso, cobalto, estaño, molibdeno, hierro, níquel, y aluminio, comprendiendo el método las etapas de: a. transportar dicho núcleo de acero a lo largo de una trayectoria predeterminada de una manera esencialmente continua, estando situada dicha trayectoria predeterminada en las proximidades de al menos un cátodo fabricado de dicho material de aleación metálica que…

(20/05/2015) Instalación de recubrimiento en vacío en-línea con una cámara de recubrimiento en vacío con al menos una unidad de recubrimiento así como con un carro desplazable a través de la cámara de recubrimiento en vacío para el alojamiento de sustratos en forma de tubo giratorios alrededor de su eje longitudinal, caracterizada por un árbol dentado giratorio instalado fijo estacionario y conectado con un accionamiento giratorio y por medio de una rueda dentada que se puede llevar a engrane con el árbol dentado y que está alojada de forma giratoria en el carro , cuya rueda dentada es desplazable cargada por resorte en contra de la dirección de la marcha del carro longitudinalmente en una extensión predeterminada.

(08/04/2015) Procedimiento de tratamiento previo para procedimientos de recubrimiento, en el cual las superficies secundarias de una instalación de recubrimiento aun antes del proceso de recubrimiento son sometidas a un tratamiento previo, de manera que en el proceso de recubrimiento que sigue a ello la adherencia del material de recubrimiento sobre las superficies secundarias está esencialmente reducida en comparación con la adherencia sin tratamiento previo, y en el cual en el curso del tratamiento previo se aplica una capa antiadherente sobre las superficies secundarias, comprendiendo la capa antiadherente una suspensión de polvo en disolvente volátil, preferentemente disolvente fácilmente volátil, caracterizado porque el material de polvo es polvo…

(11/03/2015) Instalación de depósito al vacío de forma continua de un revestimiento metálico sobre un sustrato en movimiento, que comprende un recinto de depósito al vacío , al menos una cabeza de revestimiento por chorro de vapor sónico unida a un crisol evaporador destinado a contener el metal de revestimiento en forma líquida , por un conducto de alimentación de vapor equipado con una compuerta de distribución y un horno de fusión de dicho metal, encontrándose dicho horno a la presión atmosférica, estando situado más abajo de la parte más baja del crisol evaporador y estando unido al crisol evaporador por al menos un conducto de alimentación automática del crisol evaporador equipado con una bomba de alimentación y por al menos un conducto (8A, 18) de retorno del metal líquido opcionalmente equipado con una compuerta , estando…

(05/03/2014) Máquina para revestir un artículo óptico con una composición de revestimiento antisuciedad, que comprende: - una cámara de vacío que presenta un especio interior configurado para recibir el artículo óptico ; - una bomba de vacío conectada a la cámara de vacío ; - un generador de plasma configurado para llevar a cabo un tratamiento de plasma al vacío del artículo óptico en la cámara de vacío ; - un dispositivo de evaporación configurado para llevar a cabo un tratamiento de evaporación al vacío de la composición de revestimiento antisuciedad para su depósito sobre el artículo óptico en la cámara de vacío ; y - una unidad de control configurada para controlar tanto el generador de plasma como el dispositivo de evaporación; controlando…

(04/12/2013) Aparato para producir una lámina multicapa comprendiendo: una cámara de vacío que incluye, en un interior de la misma, un rodillo de alimentación para desenrollaruna película de resina de un rollo de película de resina, y un rodillo estirador para enrollar la película deresina desenrollada del rollo; medios de escape para expulsar la atmósfera en la cámara de vacío, por lo que el interior de la cámara devacío está en un estado de vacío; un primer rodillo dispuesto en la cámara de vacío, la película de resina desenrollada del rollo de la película deresina por el rodillo de alimentación estando enrollada en el primer rodillo de tal manera que una superficie de lapelícula de resina se orienta hacia el exterior, un segundo rodillo dispuesto en la cámara de vacío, la película de resina enviada desde el…

(19/11/2013) Un artículo revestido que comprende: un sistema de capas soportado por un sustrato de vidrio , comprendiendo dicho sistemade capas una capa reflectante de IR , una capa que incluye óxido de cromo y unacapa dieléctrica , donde dicha capa dieléctrica comprende nitruro de silicio; y dondedicha capa que incluye óxido de cromo se sitúa entre dicha capa reflectante de IR ydicha capa dieléctrica de forma que el artículo revestido tiene un valor ΔE* no superior a5,0 tras tratamiento térmico a una temperatura de al menos aproximadamente 600 grados C.

(14/10/2013) Un método para la disposición de una protección solar para control solar que comprende: disposición de un sustrato flexible que tiene una primera superficie ; disposición de una capa de retraso del daño en la primera superficie mencionada para proteger unrecubrimiento óptico formado posteriormente, siendo la mencionada capa de retraso del daño un metalgrisáceo; disposición del recubrimiento óptico mencionado como estructura basada en nitruro de titanio que tiene unacapa de nitruro de titanio en un lado de la mencionada capa de retraso del daño opuesta al mencionadosustrato flexible , formando un sustrato flexible recubierto; y fijando el mencionado sustrato recubierto flexible a un sustrato rígido a través del cual se busca un controlsolar; en el cual un espesor de la capa mencionada de nitruro de titanio se selecciona…

(22/08/2013) Un aparato para la deposición de vapor de una materia fuente sublimada en forma de una películadelgada sobre un sustrato de un módulo fotovoltaico (FV), comprendiendo dicho aparato: una cabeza de deposición; un receptáculo dispuesto en dicha cabeza de deposición, estando configurado dichoreceptáculo para la recepción de una materia fuente granular; un colector calentado de distribución dispuesto por debajo de dicho receptáculo , configuradodicho colector calentado de distribución para calentar dicho receptáculo hasta un gradosuficiente como para sublimar la materia fuente dentro de dicho receptáculo ; y, una placa de distribución que comprende más…

(09/04/2013) Un procedimiento de deposición electroquímica de finas películas sobre unos sustratos individuales,comprendiendo el procedimiento: la conducción de los sustratos individuales hasta el interior de una cámara de vacío para producir unapresión de deposición electroquímica inferior a 66,5 mbarios; y la conducción de los sustratos individuales hasta una cámara de deposición electroquímica y su pasopor un magnetrón plano que pulveriza en continuo un objetivo mediante un gas ionizado a la presiónde deposición electroquímica de manera que se forma una fina película sobre una superficie del sustrato individual, y en el que…

(04/04/2013) Unlarga,aparato deque tieneREIVINDICACIONESdepósi to paraun carrete deuna cinta superconductoraalimentación que seproporciona en una cámara de vacío y rota para suministrar lacinta, una unidad de alimentación y de depósito que estáseparada del carrete de alimentación y el vacío deposita unacapa superconductora sobre la cinta al suministrar la cinta, yun carrete recogedor que está separado de la unidad dealimentación y de depósito y se gira para recoger la cintadepositada al vacío, en el que la unidad de alimentación y dedepósito comprende: un tambor que se gira para enrollar varias veces la cintasobre una porción predeterminada de una circunferencia externadel tambor, suministrando de esta manera la cinta;caracterizado…

(08/03/2013) Instalación de depósito al vacío de un revestimiento de aleación metálica sobre un sustrato , equipada con ungenerador-mezclador de vapor que comprende una cámara de vacío en forma de un recinto, provista de mediospara asegurar allí un estado de depresión con respecto al medio exterior y provista de medios que permiten laentrada y la salida del sustrato , siendo al mismo tiempo esencialmente estanca con respecto al medio exterior,englobando dicho recinto un cabezal de depósito de vapor, denominado eyector , configurado para crear unchorro de vapor de aleación metálica a la velocidad sónica en dirección y perpendicular a la superficie del sustrato , estando dicho eyector en comunicación de manera estanca…

(29/08/2012) Aparato de epitaxia de haz molecular para producir pastillas de material semiconductor que comprende un sustrato cubierto por una capa de material, comprendiendo además dicho dispositivo: - una cámara de crecimiento que rodea un área de procesado , comprendiendo dicha cámara de crecimiento una pared lateral , una pared inferior y una pared superior , presentando cada una de ellas una superficie interior, - un panel criogénico principal que tiene al menos una parte lateral que cubre la superficie interior de dicha pared lateral , - un soporte de muestras apto para soportar dicho sustrato, comprendiendo dicho soporte de muestras unos medios de calentamiento, - por lo menos una celda de efusión apta para evaporar átomos o moléculas de elementos o compuestos, - un inyector de gas apto para…

(11/04/2012) Dispositivo para la deposición mediante plasma iónico de revestimientos de película multicomponente con una cámara conectada a tierra , un dispositivo anódico situado en la cámara , con medios para generar un campo eléctrico y un campo magnético y con un mecanismo de carrusel planetario situado en el centro de la cámara para soportar los artículos a revestir, en donde el medio para generar el campo magnético contiene dos magnetrones no equilibrados situados uno frente a otro, cada magnetrón no equilibrado tiene polo magnético externo y polo magnético interno dirigidos en sentido contrario, teniendo polaridad opuesta el polo magnético externo de un magnetrón y el polo externo del otro magnetrón, están previstos al menos dos magnetrones de alta velocidad equilibrados refrigerados , teniendo cada magnetrón…

(10/04/2012) Aparato de fabricación de células solares de película delgada, en el que un sustrato de película flexible, con forma de tira, enrollado alrededor de un rodillo de alimentación, es suministrado a una cámara de deposición de película mantenida sustancialmente en un estado de vacío, se induce una descarga eléctrica a través de los electrodos de masa, posicionados para oponerse entre sí, y electrodos de aplicación que tienen un material diana en la cámara de deposición de película, se forma una película delgada de metal, de anchura N2, que se convierte en un electrodo, sobre la superficie del sustrato de…

(28/03/2012) Un procedimiento de hacer un artículo recubierto, el procedimiento comprendiendo: proporcionar un sustrato de cristal; pulverizar catódicamente una capa reflectora de IR sobre el sustrato de cristal; pulverizar catódicamente una capa que comprende Ni y/o Cr sobre el sustrato de cristal encima de la capareflectora de IR; y tratar con haz de iones al menos una superficie superior de la capa que comprende Ni y/o Cr con al menosoxígeno de forma que después de dicho tratamiento con haz de iones la capa que comprende Ni y/o Cr estámás oxidada en una ubicación más alejada de la capa reflectora de IR que en una ubicación más cerca dela capa reflectora de IR.

(19/02/2010) Una instalación de revestimiento al vacío , que incluye una cámara de revestimiento al vacío , varios rodillos de transporte dispuestos en paralelo entre sí, rotatorios y dispuestos dentro de la cámara de revestimiento al vacío , para el transporte de un sustrato de superficie extensa , caracterizada por: un accionamiento dispuesto fuera de la cámara de revestimiento al vacío , como mínimo un acoplamiento magnético entre el accionamiento y como mínimo un rodillo de transporte