CIP-2021 : C23C 14/56 : Aparatos especialmente adaptados al revestimiento en continuo;

Dispositivos para mantener el vacío, p. ej. cierre estanco.

CIP-2021CC23C23CC23C 14/00C23C 14/56[2] › Aparatos especialmente adaptados al revestimiento en continuo; Dispositivos para mantener el vacío, p. ej. cierre estanco.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.

C23C 14/56 · · Aparatos especialmente adaptados al revestimiento en continuo; Dispositivos para mantener el vacío, p. ej. cierre estanco.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

METODO Y DISPOSITIVO PARA QUITAR EL EXCESO DE MATERIAL EN UNA CAMARA DE DEPOSITO FISICO DE VAPOR.

(01/10/1996). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: MAYDAN, DAN, SOMEKH, SASSON.

METODO PARA LA LIMPIEZA EN SITU DEL EXCESO DEL MATERIAL DEPOSITADO EN EL ANODO, EN UNA CAMARA DE DEPOSICION FISICA DE VAPOR , DURANTE UN CICLO DE LIMPIEZA, EN LA QUE SE HA EFECTUADO EL VACIO EN DICHA CAMARA . UNA MEZCLA DE GAS QUE INCLUYE UN GAS REACTIVO, SE INTRODUCE DENTRO DE LA CAMARA DE DEPOSITO FISICO DE VAPOR . EL GAS REACTIVO SE ACTIVA MEDIANTE LA DESCARGA DE PLASMA. DURANTE LA LIMPIEZA, LA MEZCLA DE GAS ES CAMBIADA DE FORMA CONTINUA EN LA CAMARA DE DEPOSICION DE VAPOR , JUNTO CON LOS PRODUCTOS DE REACCION.

METODO DE FABRICACION DE LAMINAS METALICAS POROSAS.

(01/06/1996). Solicitante/s: KATAYAMA SPECIAL INDUSTRIES, LTD. Inventor/es: SUGIKAWA, HIROFUMI.

EL METODO PARA FORMAR UNA LAMINA POROSA COMPRENDE VARIOS TIPOS DE LAMINAS POROSAS COMO LAS LAMINAS ALVEOLARES, LAMINAS ENTRAMADAS, LAMINAS DE TELA NO TEJIDAS. ESTAS LAMINAS SON ADHERIDAS Y COLOCADAS EN CAPAS, UNAS SOBRE OTRAS MEDIANTE FUSION, O CON UN ADHESIVO O COLOCANDOLAS SIN UTILIZAR ADHESIVO ENTRE ELLAS. ENTONCES, LA LAMINA POROSA, ASI ESTRATIFICADA, ES GALVANOPLASTIFICADA A UNA ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE, MEDIANTE LA APLICACION FORZADA DEL LIQUIDO GALVANICO A LA LAMINA ESTRATIFICADA, EN LA DIRECCION PERPENDICULAR A LAS CAPAS, EN UN TANQUE DE GALVANOPLASTIA, O MEDIANTE LA EVAPORACION EN VACIO, MIENTRAS LA LAMINA ES TRANSPORTADA DENTRO DEL CONTENEDOR DE VACIO DE DEPOSICION DEL VAPOR, QUE ESTA RECUBIERTO POR UN TANQUE DE COCCION, A TRAVES DE UN RODILLO DE ENFRIAMIENTO. LA LAMINA POROSA METALICA, FORMADA DE ACUERDO CON ESTE METODO, SE USA PREFERENTEMENTE COMO ELECTRODO DE BACTERIAS.

METODO PARA PREPARAR UN BLINDAJE PARA REDUCIR LAS PARTICULAS EN UNA CAMARA FISICA DE DEPOSITACION DE VAPOR.

(01/11/1995). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: MINTZ, DONALD M., GILBOA, HAIM, TALIEH, HUMOYOUN.

EN UN METODO PARA PREPARAR UN BLINDAJE PARA SU USO EN UN PROCESO FISICO DE DEPOSITACION DE VAPOR, EL BLINDAJE SE LIMPIA MEDIANTE UN PROCESO DE EROSION POR ACIDO PARA INCREMENTAR LA ADHESION DE LOS DEPOSITOS EN EL PROCESO FISICO DE DEPOSITACION DE VAPOR. LA LIMPIEZA MEDIANTE EROSION POR ACIDO SIRVE PARA DESPRENDER LA CONTAMINACION QUE PODRIA FORMAR UNA BARRERA DE DIFUSION Y EVITAR QUE LOS DEPOSITOS SE UNIERAN AL BLINDAJE. TAMBIEN LA LIMPIEZA MEDIANTE EROSION POR ACIDO CREA UN ALTO GRADO DE MICRORUGOSIDADES. LA ASPEREZA PERMITE UN INCREMENTO EN LOS LUGARES DE NUCLEACION QUE MINIMIZA LA FORMACION DE ESPACIOS VACIOS INTERMEDIOS. ADEMAS DE SER LIMPIADO MEDIANTE UN PROCESO DE EROSION POR ACIDO, EL BLINDAJE PUEDE EXPONERSE A LA ACCION DE UN CHORRO DE PARTICULAS. LA EXPOSICION AL CHORRO DE PARTICULAS HACE LA SUPERFICIE DEL BLINDAJE IRREGULAR. TODO ELLO MEJORA LA SEPARACION DE LA SUPERFICIE DE CONTACTO DEL MATERIAL DEPOSITADO EN UNA ESCALA MICROSCOPICA, DANDO COMO RESULTADO UN MENOR DESMENUZAMIENTO.

PROCESO E INSTALACION DE METALIZACION EN CONTINUO DE UNA MECHA DE FIBRAS EXTENDIDA.

(16/10/1995). Solicitante/s: AEROSPATIALE SOCIETE NATIONALE INDUSTRIELLE. Inventor/es: RENARD, PIERRE, GOFFETRE, GERARD.

PARA REVESTIR CON UNA DEPOSICION METALICO UNIFORME LAS FIBRAS DE LAS MECHAS DESTINADAS A UTILIZARSE EN LA FABRICACION DE MATERIALES COMPUESTOS DE MATRIZ METALICA O NO METALICA, SE PROPONE UTILIZAR UNA MECHA DE FIBRAS EXTENDIDA ENROLLADA SOBRE UNA BOBINA EMISORA CON UNA HOJA INTERCALAR . PARA EVITAR UNA DEFORMACION DE LA MECHA EXTENDIDA, SE DESENROLLA ESTA TIRANDO SOBRE LA HOJA INTERCALAR MEDIANTE UNA BOBINA RECEPTORA DE INTERCALAR ARRASTRADA POR UN MOTOR (M1). LA MECHA PASA ASI, POR GRAVEDAD, DELANTE DE LOS MEDIOS DE METALIZACION TAL COMO CATODOS MAGNETRON GIRATORIOS (40A, 40B). A CONTINUACION SE REBOBINA, ASI COMO UNA SEGUNDA HOJA INTERCALAR , SOBRE UNA BOBINA ARRASTRADA POR UN MOTOR (M2) A TRAVES DE UN FRENO DE PAR MUY PEQUEÑO.

DISPOSITIVO PARA EL REVESTIMIENTO CONTINUO DE SUBSTRATOS EN FORMA DE BANDAS.

(16/08/1995). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: GRIMM, HELMUT, DR., RUBSAM, KLEMENS.

EN UN DISPOSITIVO PARA EL REVESTIMIENTO CONTINUO DE SUBSTRATOS EN FORMA DE BANDAS EN UN CAMARA DE REVESTIMIENTO AL VACIO, CON MUCHAS NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1',...), DISPUESTAS A LO LARGO DE LA DIRECCION DE LA BANDA (A) Y PARALELAMENTE EN DISTANCIAS APROXIMADAMENTE IGUALES ENTRE SI, QUE FORMAN UN BANCO DE EVAPORACION, CASI DE IGUAL TAMAÑO Y CONFIGURACION, LAS CUALES ESTAN TODAS COMPUESTAS DE UNA CERAMICA CONDUCTORA ELECTRICA PUDIENDOSE CALENTAR POR EL PASO DIRECTO DE LA CORRIENTE ELECTRICA, Y EN LAS QUE SE HA PREVISTO UN DISPOSITIVO PARA LA ALIMENTACION CONTINUA DEL ALAMBRE A EVAPORAR HACIA LAS NAVECILLAS DE EVAPORACION; LAS CAVIDADES (K, K',...) DE LAS DISTINTAS NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1'...) DEL BANCO DE EVAPORACION SE HAN DISPUESTO DE FORMA ALTERADA RESPECTIVAMENTE ENTRE SI, EN DONDE TODAS LAS CAVIDADES (K, K'...) CUBREN CONJUNTAMENTE UNA ZONA DE REVESTIMIENTO (B) DELGADA QUE SE EXTIENDE TRANSVERSALMENTE A LA DIRECCION DE MARCHA DE LA BANDA (A).

ELEMENTO OBTURADOR PARA EL SUMINISTRO A TRAVES DE AL MENOS UN OBJETO ALARGADO TAL COMO UN HILO Y UN APARATO DE VACIO PROVISTO DE UNO O MAS DE TALES ELEMENTOS.

(16/06/1995). Solicitante/s: VENNIK, JOOST. Inventor/es: GOBIN, GUY, DE DONCKER, GEERT, COLPAERT, ALEX, VAN WASSENHOVE, NORBERT, HOOGEWIJS, ROBERT, FIERMANS,LUCIEN, DE GRYSE, ROGERVENNIK, JOOST.

ELEMENTO OBTURADOR PARA EL SUMINISTRO A TRAVES DE AL MENOS UN OBJETO ALARGADO TAL COMO UN HILO Y UN APARATO DE VACIO PROVISTO DE UNO O MAS DE TALES ELEMENTOS. LA INVENCION EXPONE UN ELEMENTO DE CIERRE QUE DEBE SER APLICADO CUANDO SE SUMINISTRA AL MENOS UN OBJETO ALARGADO, TAL COMO UN HILO, BANDA, A TRAVES DE LA PARED DE UN APARATO DE VACIO, COMPRENDE AL MENOS UN ARMAZON TUBULAR QUE PUEDE SER FIJADO EN RELACION DE CIERRE CON LA PARED DEL APARATO DE VACIO Y TIENE UN AREA DE SECCION TRANSVERSAL INTERNA MAYOR QUE EL AREA DE SECCION TRANSVERSAL DEL HILO, POR LO QUE EL ARMAZON COMPRENDE DOS O MAS PARTES DESMONTABLES QUE JUNTAS CONSTITUYEN AL MENOS PARTE DE LA LONGITUD DE LA CARCASA Y QUE SE ACOPLAN EN RELACION DE CIERRE MANTENIENDO UN AREA LIBRE DE SECCION TRANSVERSAL QUE A LO LARGO DE LA LONGITUD DE LA CARCASA ES MINIMIZANTE SUFICIENTE PARA PERMITIR EL SUMINISTRO TRANSVERSAL DE UN OBJETO ALARGADO.

DISPOSITIVO PARA LA REDUCCION DE LA FLEXION DE PAREDES EXTERIORES EN RECEPTACULOS DE VACIO.

(16/11/1994). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: PAWLAKOWITSCH, ANTON, DR., SCHONHERR, BERNHARD, DIPL.-ING.

DISPOSITIVO PARA LA REDUCCION DE LA FLEXION, ESENCIALMENTE DE PAREDES EXTERIORES PLANAS EN UNA CALDERA DE VACIO BAJO CONDICIONES DE SERVICIO, Y PARA EVITAR DESPLAZAMIENTOS, COMO CONSECUENCIA DE ELLO, EN ELEMENTOS CONSTITUTIVOS FIJADOS A ESTAS PAREDES EXTERIORES , COMO POR EJEMPLO RODILLOS DE INVERSION DE UN DISPOSITIVO DE ARROLLAMIENTO MOVIL FRENTE A LA CALDERA DE VACIO EN UNA INSTALACION DE REVESTIMIENTO DE CINTA AL VACIO, EN EL QUE SE HAN PREVISTO PIEZAS SEPARADORAS ENTRE DOS PAREDES EXTERIORES OPUESTAS.

DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUSTRATOS CIRCULANTES DE CINTAS.

(01/08/1994). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: HEINZ, JOCHEN, DR., RUBSAM, KLEMENS, ELVERS, BJORN, HARWARTH, GEORG, REIBOLD, ULRICH, ROSS, NORBERT.

EN UN DISPOSITIVO DE RECUBRIMIENTO DE CAPAS CIRCULANTES DE SUSTRATOS DE CINTAS EN UNA CAMARA DE RECUBRIMIENTO AL VACIO Y QUE TIENE UN NUMERO DE NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1'...) COLOCADOS A UNA DISTANCIA IGUAL ENTRE SI Y DE FORMA PARALELA Y LONGITUDINAL HACIA LA DIRECCION DEL RECORRIDO DE LA CINTA QUE FORMA UN BANCO EVAPORIZADOR Y QUE TIENE EL MISMO TAMAÑO Y CONFIGURACION, FORMADOS DE CERAMICA, CONDUCTOR DE ELECTRICIDAD Y QUE SE CALIENTA MEDIANTE UN PASO DE CORRIENTE DIRECTA, SE DISPONE DE UNA INSTALACION PARA LA ALIMENTACION CONTINUADA DEL ALAMBRE A EVAPORIZAR QUE VA HACIA LAS NAVECILLAS DE EVAPORIZACION. CADA UNA DE LAS NAVES DE EVAPORACION (1, 1'...) DEL BANCO EVAPORIZADOR ESTA COLOCADA DE FORMA ALTERNADA ENTRE SI, DE TAL FORMA QUE TODAS LAS NAVECILLAS DE EVAPORIZACION (1, 1'...) CUBREN UNA ZONA DE RECUBRIMIENTO (B) CONJUNTA Y DELGADA, QUE SE EXTIENDE DE FORMA TRANSVERSAL HACIA LA DIRECCION DEL RECORRIDO DE LA CINTA (B).

DISPOSITIVO DE EVAPORACION BAJO VACIO DE UN METAL EN PROCESO CONTINUO.

(01/04/1993). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL D'ETUDES SPATIALES. Inventor/es: PAILLER, RENE, REMONDIERE, OLIVIER, BOURQUIN, PATRICK.

EL SUSTRATO A REVESTIR DESFILA EN EL INTERIOR DE UN RECINTO A VACIO . EL MATERIAL A DEPOSITAR ESTA ALMACENADO EN UN TANQUE CERRADO EN SU PARTE INFERIOR POR UNA PLACA . UN CABLE UNE AQUELLA A UNA VALVULA QUE CIERRA EL ORIFICIO DE ALIMENTACION DE UN CRISOL CALENTADO A UNA TEMPERATURA QUE PERMITE LA EVAPORACION DEL MATERIAL . UN DISPOSITIVO DE MANDO CON ELECTROIMANES PERMITE HACER BASCULAR LA PLACA Y BAJAR LA VALVULA ; UNA CIERTA CANTIDAD DE POLVO CAE EN EL CRISOL Y DESPUES LA PLACA Y LA VALVULA SE LLEVAN A LA POSICION DE CIERRE. UNA REJILLA CUYAS MALLAS TIENEN DIMENSIONES INFERIORES A AQUELLAS DE LOS GRANOS DE POLVO PRESENTES EN EL CRISOL PERMITE EL PASO DEL VAPOR Y EL DEPOSITO SOBRE EL SUSTRATO . APLICACION A LA REALIZACION DE FIBRAS DE CARBONO RECUBIERTAS DE MAGNESIO.

APARATO Y METODO PARA LA PRODUCCION DE UN RECUBRIMIENTO SOBRE UNA CINTA.

(16/02/1993). Solicitante/s: THORN EMI PLC. Inventor/es: VAIDYA, ASHOK WASUDEO, WALES, JAMES LANCE SANDER, WOOLLEY, ROBERT ALEX.

EL APARATO COMPRENDE MEDIOS PARA HACER CIRCULAR LA CINTA SOBRE LA QUE SE VA A DEPOSITAR EL RECUBRIMIENTO, HASTA LA ESTACION DE DEPOSICION DEL RECUBRIMIENTO ; MEDIOS PARA SOPORTAR CINTA EN LA ESTACION DE DEPOSICION; MEDIOS PARA APLICAR EL RECUBRIMIENTO EN LA ESTACION DE DEPOSICION DEL RECUBRIMIENTO; Y MEDIOS PARA IMPULSAR GAS EN LA REGION ENTRE LA CINTA Y LOS MEDIOS SOPORTE. TAL APARATO ES CAPAZ DE AUMENTAR EN UNA CANTIDAD ACEPTABLE LA VELOCIDAD DE FABRICACION DE CINTA RECUBIERTA.

INSTALACION AUTOMATICA DE TRATAMIENTO TERMOQUIMICO RAPIDO.

(01/12/1992). Solicitante/s: STEIN HEURTEY. Inventor/es: LEBEAUPIN, DENIS, SCHWEBEL, OLIVER.

INSTALACION QUE COMPRENDE UNA PLURALIDAD DE MODULOS DE TRATAMIENTO, UN MEDIO PARA EFECTUAR LA CARGA Y DESCARGA DE LAS PIEZAS QUE TRATAR APILADAS EN COLUMNAS, UN MEDIO DE TRANSFERIR DICHAS COLUMNAS DE PIEZAS ENTRE LOS DIFERENTES MODULOS DE TRATAMIENTO, UN PLATILLO DE BALANZA CIRCULAR FIJO SOBRE LA PERIFERIA DEL CUAL SE REPARTEN LOS DIFERENTES MODULOS DE TRATAMIENTO , ESTANDO SUSPENDIDOS POR DEBAJO DE LA SUPERFICIE INTERIOR DE DICHO PLATILLO, QUE COMPORTA ABERTURAS OBTURABLES DE MANERA ESTANCADA PARA LA INTRODUCCION DE LOS MODULOS RESPECTIVOS Y UN DISCO MOVIL MONTADO A ROTACION Y DE MANERA COAXIAL POR DEBAJO DEL PLATILLO FIJO, ESTE DISCO MOVIL RECIBIENDO EL MEDIO DE TRASPASO A PIE DE QUE ESE ULTIMO PUEDE SER CONDUCIDO SUCESIVAMENTE POR DEBAJO DEL POSTE DE CARGA/DESCARGA Y DE LOS POSTES DE ACCESO A LOS DIFERENTES MODULOS.

ELEMENTO PARA APLICACION EN UN APARATO DE VACIO; APARATO PROVISTO CON DICHOS ELEMENTOS ALIMENTADORES ASI COMO MATERIAL EN FORMA DE ALAMBRE FORMADO EN DICHO APARATO.

(16/10/1992). Solicitante/s: N.V. BEKAERT S.A.. Inventor/es: LIEVENS, HUGO, COPPENS, WILFRIED.

LA INVENCION SE REFIERE A UN ELEMENTO DE ALIMENTACION PARA APLICACION EN UN APARATO DE VACIO PARA LA ALIMENTACION CONTINUA A TRAVES DE EL DE UN MATERIAL EN FORMA DE ALAMBRE PARA SER TRATADO. ESTA CONSTITUIDO, AL MENOS, POR UNA CAJA Y UN ELEMENTO DE SELLADO SITUADO EN LA MISMA QUE ESTA EN CONTACTO CON LA SUPERFICIE DEL MATERIAL EN FORMA DE ALAMBRE DURANTE LA ALIMANTACION CON DICHO MATERIAL. EL ELEMENTO DE SELLADO ESTA FORMADO POR UN CUBO DE ESTIRADO Y LA CAJA ESTA FORMADA POR UN SOPORTE PARA EL CUBO DE ESTIRADO , AL MENOS UNA PARTE DEL SOPORTE (21,22 ESTA CONECTADA DE FORMA HERMETICA A LOS GASES A UNA PARED SEPARADORA DEL APARATO DE VACIO Y EL CUBO DE ESTIRADO Y EL SOPORTE ACTUAN JUNTOS EN RELACION AL SELLADO (VER FIGURA 2).

ELEMENTO DE ALIMENTACION PARA APARATO DE VACIO Y APARATO DOTADO CON DICHO SISTEMA DE ELEMENTOS DE ALIMENTACION.

(01/04/1991). Solicitante/s: N.V. BEKAERT S.A.. Inventor/es: LIEVENS, HUGO, COPPENS, WILFRIED.

LA INVENCION SE REFIERE A UN ELEMENTO DE ALIMENTACION CANALETA DE ALIMENTACION PARA APLICACION EN UN APARATO DE VACIO PARA ALIMENTACION CONTINUA DE MATERIAL CON CARACTER DE ALAMBRE COMPRENDIENDO AL MENOS UNA ENVUELTA CONUN DIAMETRO INTERIOR QUE ES MAS GRANDE QUE EL DIAMETRO EXTERIOR DEL MATERIAL QUE ES ALIMANTADO DONDE LA SUPERFICIE LIBRE QUE SE DEJA ENTRE EL MATERIAL QUE SE VA A ALIMENTAR Y ELLADO INTERNO DE LA ENVUELTA TUBULAR , NO EXCEDE DEL 30% DE LA SUPERFICIE TOTAL DISPONIBLE EN EL INTERIOR DE LA ENVOLTURA TUBULAR , Y DONDE EL VALOR DEL COCIENTE DE L/S LIBRE ES MAS UQE O IGUAL A 500 MM -1 SIENDO L LA LONGITUD DE LA ENVUELTA TUBULAR EN MM Y S LA SUPERFICIE LIBRE EN MM2.

ELEMENTO ALIMENTADOR PARA APLICACION EN UN APARATO DE VACIO Y APARATO DE VACIO PROVISTO DE UNO O MAS DE ESTOS ELEMENTOS ALIMENTADORES.

(01/03/1991). Solicitante/s: N.V. BEKAERT S.A.. Inventor/es: LIEVENS, HUGO, COPPENS, WILFRIED.

LA INVENCION SE REFIERE A UN ELEMENTO ALIMENTADOR PARA APLICACION A UN APARATO DE VACIO PARA LA ALIMENTACION CONTINUA A TRAVES DE EL DE MATERIAL CON FORMA DE ALAMBRE PARA SER SOMETIDO A TRATAMIENTO. ESTA FORMADO POR AL MENOS UNA CARCASA Y UN ELEMENTO DE SELLADO MONTADO EN ELLA QUE ESTA EN CONTACTO CON LA SUPERFICIE DEL MATERIAL CON FORMA DE ALAMBRE DURANTE LA ALIMENTACION. EL ELEMENTO DE SELLADO ESTA FORMADO POR UNA ESTAMPA DE EMBUTICION PARTIDA , LA CARCASA ESTA FORMADA POR UN SOPORTE PARA LA ESTAMPA DE EMBUTICION PARTIDA . ESTA ULTIMA ESTA MONTADA CON JUEGO DENTRO DEL SOPORTE Y HAY AL MENOS UN ELEMENTO RESILIENTE INSERTADO EN EL ESPACIO ENTRE LA ESTAMPA DE EMBUTICION Y EL SOPORTE Y UNA PARTE DE ESTE ESTA CONECTADA EN FORMA ESTANCA A UNA PARED DE SEPARACION DEL APARATO DE VACIO.

INSTALACION FLEXIBLE AUTOMATIZADA DE TRATAMIENTO TERMOQUIMICO RAPIDO.

(01/05/1988). Ver ilustración. Solicitante/s: STEIN HEURTEY,S.A. Inventor/es: LEBEAUPIN, DENIS, BOUREL, JEAN, SCHWEIBEL, OLIVIER.

INSTALACION AUTOMATIZADA DE TRATAMIENTO TERMOQIUMICO DE PIEZAS, EN PARTICULAR PARA LA INDUSTRIA MECANICA, CARACTERIZADA PORQUE INCLUYE: UNA ESCLUSA DE TRANSFERENCIA DE LAS PIEZAS BAJO ATMOSFERA CONTROLADA; UNA PLURALIDAD DE MODULOS DE TRATAMIENTO DE PIEZAS; UNA PLURALIDAD DE MODULOS DE TRATAMIENTO DE PIEZAS TALES COMO, EN PARTICULAR, MODULOS DE PRECALENTAMIENTO, MODULOS DE TRATAMIENTO TERMOQUIMICO, MODULO DE TEMPLE, ESTANDO CONECTADOS TODOS ESTOS MODULOS CON DICHA ESCLUSA DE TRANSFERENCIA; UNA ESCLUSA DE CARGA UNA ESCLUSA DE DESCARGA, Y UN ROBOR DE MANIPULACION DE PIEZAS, DISPUESTO EN DICHA ESCLUSA DE TRANSFERENCIA PARA EFECTUAR LAS TRANSFERENCIAS SUCESIVAS DE LAS PIEZAS A TRATAR HASTA LOS DIFERENTES MODULOS.

UNA ESTRUCTURA SEMICONDUCTORA MEJORADA, DE CAPAS MULTIPLES.

(16/05/1986). Solicitante/s: ENERGY CONVERSION DEVICES, INC..

ESTRUCTURA SEMICONDUCTORA DE CAPAS MULTIPLES. COMPRENDE: UNA PLURALIDAD DE CAPAS SUPERPUESTAS DE DOS TIPOS: A) UN PRIMER MATERIAL SEMICONDUCTOR DESORDENADO QUE INCLUYE SILICIO Y NITROGENO Y/U OXIGENOO GERMANIO Y UN ELEMENTO DE AJUSTE SEPARADOR DE BANDAS; B) UN SEGUNDO MATERIAL QUE TIENE UN TIPO DE CONDUCTIVIDAD, MAGNITUD Y/O POLARIDAD DE CAPACIDAD DE CARGA FIJA Y/O SEPARACION DE BANDAS DIFERENTES DE LA DEL CITADO DE LA PRIMERA CAPA; UN ELEMENTO DOPANTE DE P O N EN CADA REGION P O N, RESPECTIVAMENTE; UNA CAPA DE ALEACION AMORFA ENTRE CADA REGION DOPADA P ON. SE UTILIZA EN DISPOSITIVOS FOTODETECTORES, FOTOVOLTAICOS Y TERMOELECTRICOS.

APARATO PARA DEPOSITAR REVESTIMIENTOS DE CAPAS MULTIPLES SOBRE SUBSTRATOS.

(01/11/1985). Solicitante/s: PILKINGTON BROTHERS P.L.C..

APARATO PARA DEPOSITAR REVESTIMIENTOS DE CAPAS MULTIPLES SOBRE SUSTRATOS. COMPRENDE CUATRO CAMARAS DE DEPOSICION DONDE PUEDE EFECTUARSE EL VACIO (4, 5, 6 Y 7); ELEMENTOS (P4, P5, P6 Y P7) PARA HACER EL VACIO EN CADA UNA DE LAS CAMARAS DE DEPOSICION, ASI COMO ELEMENTOS DE REVESTIMIENTO PARA DEPOSITAR UNA CAMARA DE REVESTIMIENTO SOBRE EL SUSTRATO; UNA CAMARA DE TRANSFERENCIA DONDE PUEDE EFECTUARSE EL VACIPO CON ORIFICIOS QUE PUEDEN SER CERRADOS ENTRE KA CAMARA DE TRANSFERENCIA Y CADA UNA DE LAS CAMARAS DE REVESTIMIENTO PARA LA TRANSFERENCIA DE UN SUSTRATO QUE HA DE SER REVESTIDO ENTRE LAS CAMARAS DE DEPOSICION; ELEMENTOS PARA HACER EL VACIO EN LA CAMARA DE TRANSFERENCIA; Y UN DISPOSITIVO DE TRANSFERENCIA PARA TRANSFERIR EL SUSTRATO ENTRE LAS CAMARAS DE DEPOSICION (4, 5, 6 Y 7) A TRAVES DE LA CAMARA DE TRANSFERENCIA.

DISPOSITIVO PARA LA INTRODUCCION Y-O LA RETIRADA DE SOLIDOS A TRAVES DE AL MENOS UN ORIFICIO DE UN RECINTO DE TRATAMIENTO.

(16/11/1983). Solicitante/s: CENTRE STEHYDROMECANIQUE ET FROTTEMENT.

DISPOSITIVO PARA LA INTRODUCCION Y/O LA RETIRADA DE SOLIDOS A TRAVES DE AL MENOS UN ORIFICIO DE UN RECINTO DE TRATAMIENTO.COMPRENDE UN TUBO VENTURI CONSTITUIDO POR UN ESPACIO CONVERGENTE (A), UN CUELLO (B) Y UN ESPACIO DIVERGENTE (C), ESTANDO CONECTADO POR EL LADO CONVERGENTE (A) A UN MANGUITO , QUE PRESENTA EN SU INTERIOR UN FORRO AXIAL (2B) DE INTRODUCCION Y COMUNICACION, CREANDO UN CAMBIO BRUSCO DE SECCION QUE DEFINE UNA ZONA (Z) DE JUNTA DINAMICA.

PERFECCIONAMIENTOS EN LOS SISTEMAS DE METALIZACION POR BOMBARDEO IONICO.

(16/12/1980). Solicitante/s: ADVANCED COATING TECHNOLOGY, INC.

DISPOSITIVO DE METALIZACION POR BOMBARDEO IONICO. LOS MEDIOS DE BLANCO DE METALIZACION SE ENCUENTRAN EN LOS CATODOS CORRESPONDIENTES, EL CUAL CONSTA ADEMAS DE: 1) ESTRUCTURA SOPORTE ELECTRICAMENTE CONDUCTORA, CON SOPORTE ADICIONAL PARA TOMA DE ENERGIA. 2) DISPOSITIVOS MAGNETICOS PARA CONFINAMIENTO DE LOS ELECTRONES EN UNA ZONA CON FORMA DE CINTURON. ESOS DISPOSITIVOS INCLUYEN ADEMAS ELEMENTOS PRODUCTORES DE CAMPO MAGNETICO SOPORTADOS EN EL CATODO. DISPOSITIVOS DE UNION DE LAS PLACAS DE CARA DE BLANCO A LA ESTRUCTURA DEL SOPORTE ESTAN RECORRIDOS POR CONDUCTORES.

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