Disposición para depositar polvo de recubrimiento sobre un cuerpo de rotación simétrico.
(04/07/2012) Una disposición para depositar polvo de recubrimiento sobre un cuerpo simétrico rotacional , la disposición comprende: - un dispositivo de rotación para rotar el cuerpo simétrico rotacional alrededor de un eje de rotación horizontal , en donde el eje de rotación coincide con el eje de simetría rotacional del cuerpo ; - una boquilla dispuesta verticalmente sobre a superficie del cuerpo simétrico rotacional para proporcionar el polvo de recubrimiento a la superficie ; y - una barrera horizontal a una distancia específica que define un espesor de recubrimiento sobre la superficie , en donde la barrera se dispone junto a la boquilla en la dirección de un movimiento rotacional de la superficie en la boquilla .