PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA FABRICAR MATERIALES ÓPTICOS ESTRUCTURADOS.

Procedimiento para fabricar materiales ópticos estructurados, caracterizado porque sobre un cilindro de máscara (1) giratorio de material transparente, que se presiona contra al menos dos rodillos de soporte (2), se aplica material óptico (4), porque se realiza una estructuración del material óptico (4) en la zona entre los rodillos de soporte (2), y porque a continuación el material óptico estructurado (4) se deslamina del cilindro de máscara (1)

Procedimiento y dispositivo para fabricar materiales ópticos estructurados La invención se refiere a un procedimiento para fabricar materiales ópticos estructurados. Se refiere también a un dispositivo para fabricar materiales ópticos estructurados y al uso del procedimiento. Ciertas máscaras litográficas a base de láminas se describen en el documento EP 168 924 A2, el documento EP 323 880 A1 y el documento DE 68916 188 T2. Un gran inconveniente de la máscara de láminas es que sólo puede usarse una vez y necesita un gasto de producción grande. La fabricación de difusores o láminas de gestión de la luz para la conducción de luz (para TFT, proyectores, visualizadores, etc.) se realizó según el estado de la técnica por ejemplo con una máscara de lámina de este tipo para la estructuración con UV con una disposición de revestimiento de láminas modificadas de la empresa Mathis. Para ello se revistió en primer lugar una lámina de poliéster con la suspensión de máscara (grafito en disolución acuosa) y a continuación se secó. A continuación se enrolló el material de mascara y se extrajo, dado que la disposición para la propia producción de difusores debía reajustarse. Para la producción de difusores se revistió de nuevo la lámina poliéster, esta vez con Photonanomer® estructurable con UV y a continuación se secó. A continuación de esto se realizó la laminación de material de máscara y Photonanomer®, antes de que tuviera lugar una estructuración con luz UV. Tras la exposición a la luz se separaron la máscara y el difusor de nuevo uno del otro (deslaminación). El documento WO 2006/125635 A1 describe un procedimiento para fabricar placas regenerables con superficie estructurable de zonas hidrófilas e hidrófobas que son excelentemente adecuadas para fabricar microestructuras mediante exposición a la luz. Estas placas son variables y reversibles, sin embargo no pueden incluirse en un procedimiento continuo dado que son placas planas. Por consiguiente, en caso de la exposición a la luz se llega a periodos de permanencia y tras un único uso deben regenerarse las placas. La producción de componentes ópticos con una estructura en gradiente se conoce por el documento EP 0 891 565 B1. Por el documento EP 726 142 A2 se conoce un sistema para la laminación y deslaminación continua de láminas, se conoce una sección de alimentación de láminas para alimentar una lámina de material fotosensible, una sección de laminación de láminas para laminar continuamente la lámina alimentada sobre una placa de holograma original que va a duplicarse, que está fijada a una superficie cilíndrica de un cilindro, de un rodillo de presión, para poner en contacto estrecho la lámina con la placa original, una sección de deslaminación de láminas para deslaminar continuamente la lámina de la placa original y una sección de recogida de láminas para recoger la lámina deslaminada. Es objetivo de la invención crear un nuevo procedimiento continuo así como un nuevo dispositivo para fabricar materiales ópticos estructurados que sea más económico que el procedimiento de producción conocido. Este objetivo se soluciona según la invención con un procedimiento según el preámbulo de la reivindicación 1, debido a que sobre un cilindro de máscara giratorio de material transparente, que se presiona contra al menos dos rodillos de soporte, se aplica un material de máscara, debido a que se realiza una estructuración del material óptico en la zona entre los rodillos de soporte, y debido a que a continuación el material óptico estructurado se deslamina de nuevo del cilindro de máscara. Este modo de procedimiento es esencialmente más sencillo que los procedimientos conocidos y con ello también más económico. En el contexto de la invención se creó un procedimiento novedoso, continuo y económicamente realizable para fabricar materiales ópticos estructurados, que puede hacer innecesaria la producción de máscaras a base de láminas, tal como se realiza en el estado de la técnica, y por consiguiente es mucho más económico que el procedimiento de producción anterior. Según esto se encuentra en el centro de atención un cilindro de máscara que actúa simultáneamente como máscara y como elemento de transporte para la lámina. Lógicamente, el material de máscara puede aplicarse también mediante otros procedimientos de aplicación para aplicar sustancias fluidas sobre el cilindro de máscara. A continuación, el laminado compuesto por el cilindro de máscara y el material de máscara pasa por una exposición a la luz, antes de alcanzar el segundo rodillo de soporte. Detrás de este rodillo de soporte no existe ya ninguna presión de contacto y el material óptico estructurado se separa de nuevo del cilindro de máscara; se realiza la deslaminación. Con este procedimiento de litografía continuo, novedoso y la fabricación unida a ello de láminas de gestión de la luz podrían fabricarse materiales ópticos, estructurados mucho más económicos. Con la supresión de la producción de máscaras a base de láminas se ahorra no sólo una cantidad de tiempo considerable sino también algunos costes de 2   material y fabricación (instalación, personal, costes de funcionamiento, costes de material). Según esto, el consumo de tiempo se reduce a la mitad aproximadamente para la fabricación de materiales ópticos estructurados. Con ayuda de este procedimiento litográfico se simplifica adicionalmente el procedimiento de fabricación como tal, dado que este dispositivo no necesita ningún control ni regulación separado. Por tanto se suprimen medidas técnicas de control y regulación para la aplicación, exposición a la luz y deslaminación que son necesarios en el procedimiento anterior y causan problemas. Una configuración de la invención consiste en que se acopla radiación, especialmente radiación UV, IR, térmica o de electrones o luz en la zona visible, desde uno de los lados frontales del cilindro de máscara en su cavidad y se conduce mediante un espejo en la cavidad del cilindro de máscara en la zona entre los rodillos de soporte. Como alternativa podría disponerse por ejemplo también la fuente de radiación en la cavidad del cilindro y podría dirigirse a la zona entre los rodillos de soporte. Una configuración ventajosa de la invención consiste en que se usa un espejo simétrico, un espejo asimétrico, un espejo giratorio, un espejo móvil y ajustable de manera fija o un espejo semipermeable para generar propiedades ópticas localmente distintas. Con un espejo de este tipo pueden generarse perfiles localmente distintos en un procedimiento de fabricación continuo, conduciéndose el rayo de luz. Esto es ventajoso, por ejemplo, para la fabricación de visualizadores. Mediante la inclinación o el giro del espejo puede obtenerse un perfil asimétrico de la estructuración. Por lo demás puede introducirse en un material holográfico un holograma de reflexión y transmisión, separándose en el contexto de una técnica de mezclado de dos ejes un rayo láser u otra fuente de radiación adecuada, en primer lugar, por un espejo semipermeable y focalizándose de nuevo sobre el sustrato mediante un sistema de recorridos óptico adecuado, compuesto por espejos adicionales. El ángulo entre los dos rayos determina, según esto, la imagen de interferencia holográfica producida según la relación de Bragg. Una mezcla de dos tipos de holograma distintos es relevante, por ejemplo, para la fabricación de características de seguridad. Un perfeccionamiento de la invención consiste en que la estructuración se realiza a preferentemente 30ºC a 70ºC. En el contexto de la invención se encuentra también un dispositivo para fabricar materiales ópticos estructurados según la reivindicación 5, con medios para aplicar un material de máscaras sobre un soporte, medios para estructurar el material óptico y medios para deslaminar el material de máscara del soporte, estando previsto como soporte un cilindro de máscara giratorio de material transparente, porque están previstos medios para presionar el cilindro de máscara contra al menos dos rodillos de soporte y porque están previstos medios para acoplar radiación en la zona entre los rodillos de soporte. En este contexto es ventajoso que un material de máscara esté aplicado sobre el cilindro de máscara por medio de revestimiento por inmersión, pulverización o metalización por evaporación. En caso de este material de máscara puede tratarse, por ejemplo, de un holograma En este contexto ha resultado ventajoso que el cilindro de máscara esté compuesto por vidrio, preferentemente por vidrio de cuarzo. Además se prevé según la invención que el cilindro de máscara esté revestido con NaSi modificado. En el contexto de la estructuración por medio de radiación puede realizarse la máscara de estructuración del cilindro... [Seguir leyendo]

1. Procedimiento para fabricar materiales ópticos estructurados, caracterizado porque sobre un cilindro de máscara (1) giratorio de material transparente, que se presiona contra al menos dos rodillos de soporte (2), se aplica material óptico (4), porque se realiza una estructuración del material óptico (4) en la zona entre los rodillos de soporte (2), y porque a continuación el material óptico estructurado (4) se deslamina del cilindro de máscara (1). 2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque para estructurar el material óptico (4) se acopla radiación, especialmente radiación UV, IR, térmica o de electrones o luz en la zona visible, desde uno de los lados frontales del cilindro de máscara (1) en su cavidad y se conduce mediante un espejo (6) en la cavidad del cilindro de máscara (1) en la zona entre los rodillos de soporte (2). 3. Procedimiento según la reivindicación 2, caracterizado porque se usa un espejo simétrico (6), un espejo asimétrico (6), un espejo giratorio (6), un espejo móvil y ajustable de manera fija o un espejo semipermeable (6) para generar propiedades ópticas localmente distintas. 4. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque la estructuración se realiza a preferentemente 30ºC a 70ºC. 5. Dispositivo para fabricar materiales ópticos estructurados, con medios para aplicar un material óptico (4) sobre un soporte, medios para estructurar el material óptico (4) y medios para deslaminar el material óptico (4) del soporte, caracterizado porque está previsto como soporte un cilindro de máscara (1) giratorio de material transparente, porque están previstos medios (3) para presionar el cilindro de máscara (1) contra al menos dos cilindros de soporte (2) y porque están previstos medios (5) para acoplar radiación en la zona entre los rodillos de soporte (2). 6. Dispositivo según la reivindicación 5, caracterizado porque un material de máscara está aplicado sobre el cilindro de máscara (1) por medio de revestimiento por inmersión, pulverización o metalización por evaporación. 7. Dispositivo según la reivindicación 5, caracterizado porque el cilindro de máscara (1) está compuesto por vidrio, preferentemente por vidrio de cuarzo. 8. Dispositivo según la reivindicación 5 o la reivindicación 6, caracterizado porque el cilindro de máscara (1) está revestido con NaSi modificado por medio de partículas de grafito. 9. Dispositivo según la reivindicación 5, caracterizado porque están previstos rodillos de contrapresión (3) dispuestos en el interior del cilindro de máscara (1) para presionar el cilindro de máscara (1) contra los rodillos de soporte (2). 10. Dispositivo según la reivindicación 9, caracterizado porque los rodillos de contrapresión (3) están montados sobre muelles. 11. Dispositivo según la reivindicación 9, caracterizado porque los rodillos de soporte (2) están dotados de un revestimiento de goma. 12. Dispositivo según la reivindicación 5, caracterizado porque puede acoplarse radiación desde uno de los lados frontales del cilindro de máscara (1) en su cavidad y porque en la cavidad del cilindro de máscara (1) está previsto un espejo (6) para conducir la radiación en la zona entre los rodillos de soporte (2). 13. Dispositivo según la reivindicación 12, caracterizado porque el espejo (6) es un espejo simétrico (6), un espejo asimétrico (6), un espejo giratorio (6), un espejo móvil y ajustable de manera fija o un espejo semipermeable (6). 14. Dispositivo según la reivindicación 5, caracterizado porque en la zona entre los dos rodillos de soporte (2) está dispuesta una fuente térmica (7) para calentar el material óptico (4). 15. Uso del procedimiento según las reivindicaciones 1 a 4 para fabricar difusores, especialmente difusores con un perfil localmente distinto. 7   8