22 patentes, modelos y diseños de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH

Superficie estructurada con adherencia conmutable de forma escalonada.

Secciones de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes Necesidades corrientes de la vida Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura

(13/02/2019). Ver ilustración. Inventor/es: KRONER,ELMAR, YAGÜE ISLA,PAULA. Clasificación: B81C1/00, A44B18/00, F16B5/07.

Superficie estructurada de un sólido con adherencia conmutable, en la que la superficie presenta una estructuración que comprende una multiplicidad de salientes que presentan al menos cada uno de ellos un fuste , y en la que el fuste posee una cara frontal que mira hacia fuera de la superficie , caracterizada por que la multiplicidad de salientes comprende al menos dos clases de salientes que se diferencian al menos en la altura vertical de la cara frontal ; y el material de los salientes presenta un módulo de elasticidad tal que, dependiendo de la carga, una o varias clases de salientes forman en sus caras frontales una fuerza de adherencia que es superior a la fuerza ejercida por la eventual compresión de los salientes ; y al menos una clase de salientes presenta una relación de aspecto tal que, al sobrepasarse una carga determinada, se pandean estos salientes y disminuye fuertemente la fuerza de adherencia por efecto del pandeo de las caras frontales.

PDF original: ES-2721049_T3.pdf

Procedimiento para la producción de estructuras metálicas.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(12/02/2019). Inventor/es: ARZT,EDUARD, DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, MOH,KARSTEN, SCHUMACHER,SARAH. Clasificación: C23C18/14.

Procedimiento para la producción de estructuras metálicas que comprende los siguientes pasos: (a) aplicación de una composición iniciadora sobre un sustrato para la formación de una capa de iniciador, comprendiendo la composición nanovarillas con actividad fotocatalítica como iniciador, presentando las nanovarillas un diámetro por debajo de 100 nm y una longitud por debajo de 500 nm; (b) aplicación de una composición precursora que comprende al menos un compuesto precursor para una capa metálica sobre el sustrato; (c) reducción del compuesto precursor para dar el metal mediante acción de radiación electromagnética sobre el iniciador, aplicándose una capa metálica al menos en una zona de la superficie de la capa de iniciador; efectuándose una estructuración en el paso (a) y/o en el paso (b) y/o en el paso (c).

PDF original: ES-2699752_T3.pdf

Revestimientos conductivos a base de ITO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(09/01/2019). Inventor/es: SCHNEIDER, HEIKE, VEITH,MICHAEL, DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, HEUSING,SABINE, QUILITZ,MARIO. Clasificación: C23C18/12.

Procedimiento para la producción de revestimientos y/o cuerpos moldeados a base de óxido de indio-estaño (ITO) que contiene los siguientes pasos: a) producción de una composición que contiene a1) nanopartículas de ITO; y a2) al menos un compuesto hidrolizable del grupo 4, 5, 6, 13 o 14 del sistema periódico; a3) al menos un agente aglutinante inorgánico con modificación orgánica; b) aplicación de la composición de revestimiento sobre un sustrato o introducción de la composición en un molde; c) endurecimiento de la composición, comprendiendo el endurecimiento un tratamiento térmico a 200ºC hasta 600ºC.

PDF original: ES-2713553_T3.pdf

Procedimiento para fabricar estructuras metálicas.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(25/10/2018). Inventor/es: ARZT,EDUARD, DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, MOH,KARSTEN DIPL.-PHYS. Clasificación: C23C18/14.

Procedimiento para la fabricación de estructuras metálicas, que comprende las siguientes etapas: (a) aplicar una composición iniciadora sobre el sustrato, de manera que la composición comprende como iniciador una sustancia inorgánica activa fotocatalíticamente en forma de nanobarras con un diámetro inferior a 100 nm y una longitud inferior a 500 nm, bajo la formación de una capa iniciadora; (b) aplicar una composición de precursor, que comprende una composición de precursor para la capa metálica sobre el sustrato; (c) aplicar un patrón de estructura sobre la capa iniciadora bajo desplazamiento parcial de la composición de precursor; (d) reducir la composición de precursor en el metal a través de la actuación de radiación electromagnética sobre el iniciador; (e) retirar el patrón de estructura después de la radiación.

PDF original: ES-2687414_T3.pdf

Procedimiento para la producción de elementos ópticos con estructura en gradiente y elemento óptico con estructura en gradiente.

Sección de la CIP Física

(06/12/2017). Inventor/es: KONIG, PETER, DR., VEITH,MICHAEL, DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, KAMPKA,JENNY, KRAEGELOH,ANNETTE. Clasificación: G03F7/00, G03F7/004, G02B1/04, G02B5/00, G02B3/00, G02B5/32.

Procedimiento para la obtención de elementos ópticos con estructura en gradiente, formándose la estructura en gradiente por medio de un gradiente de índice de refracción con los siguientes pasos: (a) obtención de una composición a partir de uno o varios monómeros polimerizables y/o policondensables y al menos un polímero biológico, presentándose el polímero biológico en una forma soluble en la composicion; (b) generación de una diferencia de potencial respecto a la difusión orientada de monómeros, bajo formación de un gradiente de índice de refracción mediante inducción de una polimerización o policondensación local.

PDF original: ES-2661335_T3.pdf

Composición para la producción de elementos ópticos con una estructura en gradiente.

Secciones de la CIP Física Química y metalurgia

(09/08/2017). Inventor/es: KONIG, PETER, DR., VEITH,MICHAEL, DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, YAZDANI-ASSL,OMID. Clasificación: G03F7/00, G03F7/004, C07F7/00, G02B5/00, G02B5/32, C07C31/28.

Composición para la producción de elementos ópticos con un gradiente de índices de refracción, caracterizada por que la composición comprende a) por lo menos un polímero orgánico; y b) por lo menos un compuesto complejo metálico de la fórmula X(m-n)MR1n (I) representando M Ti, Zr, Ta, V, Nb, Cr, Mo, W, Mn o Re; derivándose R1 de una α-hidroxicetona, un glioxilato o una aminocetona; siendo X un grupo sin ningún grupo sensible a la luz; teniendo n un valor de por lo menos 1 hasta m y correspondiendo m a la valencia del metal.

PDF original: ES-2645000_T3.pdf

Nanopartículas anfífilas obtenibles por hidrólisis parcial de compuestos organometálicos.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(28/12/2016). Inventor/es: SCHMIDT, HELMUT, ARPAC, ERTUGRUL, AKARSU,MURAT. Clasificación: C09C3/00, C08K9/06, C09C1/00, B01J13/00, C01G25/00, C09D1/00, B01J13/22, C01G25/02, B82B3/00, B82B1/00.

Procedimiento para la preparación de partículas anfífilas a escala nanométrica, que en su superficie presentan radicales hidrolizables, que son lipófilos, el cual comprende a) la hidrólisis y condensación de uno o varios compuestos hidrolizables, que comprenden al menos un grupo lipófilo hidrolizable, con una cantidad subestequiométrica de agua, y b) la separación de los disolventes para obtener en forma de un polvo las partículas anfífilas con radicales hidrolizables, obtenidas.

PDF original: ES-2616696_T3.pdf

Procedimiento para la fabricación de redes de nanopartículas de metal.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(12/10/2016). Inventor/es: BRODOCEANU,DANIEL, KRAUS,TOBIAS, FANG,CHENG, VÖLCKER,NICOLAS HANS. Clasificación: C23C26/00, C23C14/02, C23C14/16, B82Y40/00.

Procedimiento para la fabricación de redes de nanopartículas de metal , caracterizado por que - mediante disposición convectiva se deposita una dispersión coloidal de microesferas sobre un sustrato como monocapa empaquetada de manera compacta , - tras lo cual se reviste la monocapa depositada con al menos una capa de nanopartículas de metal depositada delgada por medio de un procedimiento de deposición física y - tras lo cual las microesferas revestidas con la al menos una capa de nanopartículas de metal , que se han depositado sobre el sustrato como monocapa , se retiran por medio de descomposición térmica , de manera que la al menos una capa de nanopartículas de metal se sinteriza con el sustrato.

PDF original: ES-2607204_T3.pdf

Material compuesto tribológico pigmentado y finamente estructurado.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(14/09/2016). Inventor/es: BECKER-WILLINGER, CARSTEN, HOLLMANN,FRANK, KASPER,CHRISTOPH. Clasificación: C09D5/00.

Composición para producir un material compuesto tribológico, que comprende a) al menos un lubricante sólido en forma de plaquitas; b) al menos un tipo de partículas de pigmento inorgánicas en forma de plaquitas, en donde las partículas de pigmento presentan un espesor de 0,5 μm a 2 μm y una relación de aspecto media de 10; c) al menos un compuesto tensioactivo que dispone de al menos un grupo hidrofílico y al menos un grupo hidrofóbico, eligiéndose el compuesto tensioactivo del grupo que comprende compuestos alquílicos de amonio, compuestos alquílicos de fosfonio, compuestos alquílicos de sulfonio, compuestos de imidazolinio, compuestos de piridinio, compuestos de pirrolidinio, líquidos iónicos, polímeros fluorados funcionalizados, poliésteres y polisiloxanos funcionalizados; d) un sistema aglutinante endurecible que comprende al menos un polímero u oligómero orgánico con uno o varios grupos funcionales o un precursor de los mismos.

PDF original: ES-2606878_T3.pdf

Procedimiento para la preparación de superficies finamente estructuradas.

(07/09/2016) Procedimiento para la preparación de superficies finamente estructuradas recubiertas, con una relación de aspecto de al menos 0,5 para influir sobre la adhesión, que comprende las etapas a) aplicación de al menos una masa para recubrimiento sobre al menos un sustrato; b) conformación de una fina estructura por una matriz que presenta el negativo de una fina estructura, en donde b1) la matriz se presiona contra la masa para recubrimiento sobre el sustrato o b 2) el sustrato de la etapa a) contiene la matriz; c) curado de la masa para recubrimiento finamente estructurada, así obtenida, por lo que se obtiene un recubrimiento curado; d) separación del recubrimiento finamente estructurado de la matriz, pudiéndose…

Revestimiento antirreflexivo.

Secciones de la CIP Física Química y metalurgia

(17/08/2016). Inventor/es: KONIG, PETER, DR., DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, CARVALHO MENEZES,ELISABETE HENRIQUETTA SOARES DE, JILAVI,MOHAMMAD. Clasificación: G03F7/09, C09D5/00, G02B1/11.

Una composición para la producción de un revestimiento antirreflexivo, caracterizada por que la composición abarca los siguientes componentes a) por lo menos un compuesto de silano hidrolizable; b) por lo menos un compuesto metálico hidrolizable, pudiendo presentarse el compuesto también parcialmente hidrolizado y/o condensado; c) por lo menos un compuesto orgánico con por lo menos dos grupos de coordinación funcionales o unos compuestos precursores de éstos; y d) por lo menos un disolvente, pudiendo formar los componentes a), b) y c) por lo menos parcialmente un polímero de coordinación.

PDF original: ES-2603192_T3.pdf

Síntesis de nanopartículas mediante líquidos iónicos.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(17/08/2016). Inventor/es: VEITH,MICHAEL, LIN,HECHUN, OLIVEIRA,PETER WILLIAM DE. Clasificación: C01G25/02, C01G1/02, C01G23/04.

Procedimiento para la producción de partículas a escala nanométrica, que contiene las siguientes etapas: a) preparación de una composición a partir de un compuesto de metal hidrolizable, al menos un líquido iónico y al menos un compuesto con al menos un grupo hidroxilo, en donde el contenido en agua del compuesto con al menos un grupo hidroxilo se encuentra por debajo de 10% en peso (medido con el método Karl-Fischer); b) tratamiento hidrotérmico de la composición; c) aislamiento de las partículas a escala nanométrica.

PDF original: ES-2602828_T3.pdf

Agente de consolidación y su uso para la consolidación de cuerpos moldeados y formaciones geológicas que consisten en materiales porosos o en partículas.

(08/07/2015) Agente de consolidación exento de partículas para cuerpos moldeados y formaciones geológicas que consisten en materiales porosos o en partículas, que contienen un hidrolizado o precondensado de (a) al menos un organosilano de la fórmula general (I) RnSiX4-n (I) en la que los restos R son iguales o diferentes y representan grupos no disociables por hidrólisis, los restos X son iguales o diferentes y representan grupos disociables por hidrólisis o grupos hidroxilo y n tiene los valores 1, 2 o 3; y (b) al menos un silano hidrolizable de la fórmula general (II) SiX4 (II) en la que los restos X tienen el significado anterior, conteniendo el hidrolizado o el precondensado un producto…

Piezas de moldeo y capas nanoestructuradas y su elaboración mediante precursores hidrosolubles estables.

(20/11/2013) Procedimiento para elaborar una composición destinada a la preparación de piezas moldeadas y capas nanoestructuradas, el cual comprende la puesta en contacto de un sol acuoso y/o alcohólico de un compuesto de un elemento escogido entre el silicio y los metales de los grupos principales y secundarios, con compuestos provistos de grupos alcoxi hidrolizables que incluyen al menos un alcoxisilano orgánicamente modificado o un precondensado derivado del mismo, en condiciones que producen la hidrólisis (continua) de dichos compuestos; y la subsiguiente eliminación del alcohol formado y eventualmente presente desde el inicio; caracterizado porque se…

Elementos ópticos con estructura de gradiente así como procedimiento para su producción.

(09/04/2013) Procedimiento para preparar elementos ópticos con estructura de gradiente, en particular para aplicacionesholográficas, en el que la estructura de gradiente se forma a través de un gradiente de índices de refracción con lassiguientes etapas: (a) preparar una composición que comprende uno o varios monómeros orgánicos polimerizables o policondensablesy al menos un líquido iónico; (b) generar una diferencia de potencial para la difusión dirigida de los monómeros con formación de un gradientede índices de refracción mediante la inducción de una polimerización local o una policondensaciónlocal.

SUSTRATOS CON UN RECUBRIMIENTO INHIBIDOR DE BIOPELÍCULA.

(28/12/2011) Sustrato que tiene un recubrimiento inhibidor de biopelícula que comprende un condensado inorgánico modificado con grupos orgánicos y consiste en uno o más compuestos inorgánicos hidrolizables que tienen por lo menos un sustituyente no hidrolizable, en donde los compuestos inorgánicos hidrolizables comprenden uno o más fluorosilanos de la fórmula general (II): Rf(R)bSiX(3-b) (II) en donde los restos R son iguales o diferentes y representan grupos no hidrolizables, los restos X son iguales o diferentes y significan grupos hidrolizables o hidroxilo, Rf es un grupo no hidrolizable, que presenta 1 a 30 átomos de flúor unidos a átomos de carbono alifáticos, y b es 0, 1 o 2, y el recubrimiento contiene coloides…

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA FABRICAR MATERIALES ÓPTICOS ESTRUCTURADOS.

(05/12/2011) Procedimiento para fabricar materiales ópticos estructurados, caracterizado porque sobre un cilindro de máscara giratorio de material transparente, que se presiona contra al menos dos rodillos de soporte , se aplica material óptico , porque se realiza una estructuración del material óptico en la zona entre los rodillos de soporte , y porque a continuación el material óptico estructurado se deslamina del cilindro de máscara

MATERIALES COMPUESTOS.

(06/07/2011) UN MATERIAL COMPUESTO SE CARACTERIZA POR UN SUBSTRATO Y POR UN NANOCOMPUESTO EN CONTACTO FUNCIONAL CON EL MISMO, OBTENIDO POR MODIFICACION SUPERFICIAL DE (A) PARTICULAS INORGANICAS COLOIDALES, CON (B) UNO O VARIOS SILANOS DE FORMULA GENERAL (I): R X - S I - A 4-X , EN LA QUE LOS RADICALES A SON IGUALES O DIFERENTES, Y REPRESENTAN GRUPOS HIDROXILO O GRUPOS QUE PUEDEN DIVIDIRSE HIDROLITICAMENTE, EXCEPTUADO EL METOXI, LOS RADICALES R SON IGUALES O DIFERENTES, Y REPRESENTAN GRUPOS QUE NO PUEDEN DIVIDIRSE HIDROLITICAMENTE, Y X ES IGUAL A 0, 1, 2 O 3 X ( 1 EN AL MENOS EL 50% EN VOLUMEN DE LOS SILANOS, EN LAS CONDICIONES DE UN PROCESO DE SOL - GEL CON UNA CANTIDAD SUBESTEQUIOMETRICA DE AGUA, EN RELACION CON LOS GRUPOS HIDROLIZABLES DISPONIBLES, A FIN DE FORMAR UN SOL NANOCOMPUESTO. SI ES PRECISO, EL SOL…

PLACA ESTRUCTURADA REGENERABLE CON CATALIZADORES DE OXIDACIÓN.

(26/04/2011) Procedimiento para la producción de una placa regenerable con superficie estructurada de regiones hidrófilas e hidrófobas, en el que se recubre con una capa hidrófoba la superficie de la placa regenerable, que comprende un sustrato y una capa porosa que está sobre él con una superficie específica de la capa de 20 m 2 /g a 250 m 2 /g, determinada según el procedimiento BET con nitrógeno, de una masa que contiene catalizador de oxidación hidrófilo, y se expone fotográficamente, en donde el catalizador y la capa en las regiones iluminadas se calientan por la exposición, de modo que la capa hidrófoba en las regiones iluminadas se descompone oxidativamente…

SUSTRATO CON CAPA FOTOCATALITICA DE TIO2.

(17/02/2010) Procedimiento para la fabricación de un sustrato con una capa fotocatalítica que comprende TiO 2 activo fotocatalítico y un material de matriz, en el que el TiO2 está presente a un gradiente de concentración tal que está concentrado en la superficie de la capa fotocatalítica, comprendiendo las etapas: a) fabricación de una mezcla que comprende al menos un compuesto de titanio hidrolizable, un disolvente orgánico y agua en una cantidad subestequiométrica, referida a los grupos hidrolizables del compuesto de titanio; b) tratamiento de la mezcla resultante a una temperatura de al menos 60ºC con formación de una dispersión o un precipitado…

MATERIAL AISLANTE.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/03/2008). Inventor/es: SCHMIDT, HELMUT, ENDRES, KLAUS, REINHARD,BERND, GOEDICKE,STEFAN. Clasificación: C04B20/00, C04B38/00, C04B20/10, C04B38/06.

Material aislante que consta de una estructura (matriz) porosa inorgánica, que puede obtenerse por moldeo o por aplicación sobre un sustrato de una composición que contiene a) como ligante un sol que contiene nanopartículas y/o policondensados o productos previos de los mismos y b) un agente formador de poros sólido, y se reticula la composición formándose una estructura porosa y poros adicionales debidos al agente formador de poros.

CAPA ANTIADHERENTE RESISTENTE A ALTA TEMPERATURA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/08/2007). Inventor/es: SCHMIDT, HELMUT, DRUMM, ROBERT, ENDRES, KLAUS, ASLAN,MESUT, NAIR,HAREESH, REINHARD,BERND. Clasificación: C09D7/12, C09D5/18, C10M173/02, C10M141/02.

Sustrato con un recubrimiento antiadherente, que se obtiene mediante aplicación y endurecimiento de una composición de recubrimiento sobre un sustrato, comprendiendo dicha composición de recubrimiento: a) partículas sólidas de un agente separador, a excepción de nitruro de boro, y b) un aglutinante que contiene partículas de sólidos a nanoescala, cuya superficie ha sido modificada.

 

Patentes más consultadas

 

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