(16/10/2019) Portasustratos para disponerlo en un reactor CVD o PVD , especialmente para la deposición de nanotubos de carbono y grafeno, con una primera superficie de lado ancho para recibir un sustrato a revestir y con una segunda superficie de lado ancho que mira hacia fuera de la primera superficie de lado ancho , en el que la primera superficie de lado ancho y la segunda superficie de lado ancho presentan sendas zonas de alojamiento de sustrato en las que están previstos elementos de inmovilización (14, 14', 15) con los cuales se puede fijar siempre un sustrato o secciones de un sustrato a la superficie de lado ancho , y en el que la zona…

(04/09/2019) Un sistema de deposición , que comprende: una carcasa del sistema que tiene un armazón de la carcasa, unos paneles de la carcasa soportados por dicho armazón de la carcasa y un interior de la carcasa ; un conjunto de transferencia de utillajes de sujeción que tiene un carril inclinado de transferencia de utillajes de sujeción en general alargado soportado por el armazón del sistema y que se extiende a través del interior de la carcasa; una pluralidad de cámaras de deposición ordenadas de manera secuencial soportadas por el carril de transferencia de utillajes de sujeción en el interior de la carcasa; un controlador que está interconectado…

(24/07/2019) Un conjunto de metalizador en línea que comprende: una pluralidad de portapiezas , cada uno adaptado para contener una pluralidad de piezas, comprendiendo los portapiezas una pluralidad de fijaciones de pasador rotatorias , un cuerpo de elevación , un bastidor de soporte , que está separado del cuerpo de elevación, y un elemento de empuje que comprende un pasador que está adaptado para deslizarse en relación con al menos uno del cuerpo de elevación o el bastidor de soporte del portapiezas y un resorte que está configurado para aplicar un fuerza al cuerpo de elevación o al bastidor de soporte, en el que el elemento de empuje puede comprimirse de tal manera que una posición relativa entre el cuerpo de elevación y el bastidor de soporte pueda recolocarse a lo largo del pasador, en el que las fijaciones de pasador rotatorias…

(08/05/2019) Un aparato de procesamiento PVD para realizar la formación de revestimiento sobre superficies respectivas de una pluralidad de sustratos (W), el aparato de procesamiento PVD comprendiendo: una cámara de vacío conteniendo en su interior la pluralidad de sustratos (W); una mesa giratoria provista en la cámara de vacío y configurada para soportar la pluralidad de sustratos (W) y para hacer girar los sustratos soportados (W) alrededor de un eje de revolución ; una pluralidad de mesas rotatorias configuradas para soportar los sustratos respectivos (W) de la pluralidad de sustratos (W) y rotar los sustratos soportados (W), sobre la mesa giratoria , sobre sus respectivos ejes de rotación paralelos al…

(12/03/2019) Un sistema de accesorio que comprende varias partes, siendo al menos una de las partes una pieza de sujeción para sujetar una pieza de trabajo que comprende sustancias ferromagnéticas, comprendiendo dicha pieza de trabajo un cuerpo con dos extremos y exhibiendo a lo largo de un eje giratorio una forma simétrica con una dimensión radial y con superficies que pueden tratarse por medio de un proceso de tratamiento de vacío asistido por plasma, comprendiendo dicha parte de retención medios magnéticos que generan un campo magnético con una fuerza magnética en la dirección del eje rotatorio que es lo suficientemente alta para sostener la pieza de trabajo si la pieza de trabajo se coloca en una…

(28/02/2019) Sistema de recubrimiento depositado sobre una superficie de un sustrato que comprende al menos una película de varias capas formada de nanocapas A y B alternadas depositadas una sobre otra, en el que las nanocapas A contienen nitruro de boro aluminio y cromo y las nanocapas B contienen nitruro de aluminio y cromo, pero no contienen boro, caracterizado porque las nanocapas A tienen una región con el mayor contenido de boro y una región con un menor contenido de boro, en el que la región que tiene menor contenido de boro es la región adyacente a las nanocapas B, en la que la suma del espesor de una nanocapa A y el espesor de una nanocapa B depositadas una sobre otra en la película de varias capas…

(27/02/2019) Dispositivo de soporte para sustratos a revestir que comprende un dispositivo de apoyo para el sustrato a revestir, que presenta una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato , así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera con una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato, así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera, en donde está presente al menos una abertura pasante, que une las dos caras del dispositivo de apoyo , a través de la cual es posible una regulación de la presión de gas que reina en la cara del sustrato , caracterizado por que el dispositivo de apoyo está delimitado por al menos dos elementos de soporte dispuestos de manera enfrentada, en donde los elementos de soporte están formados…

(13/02/2019) Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos, según el cual - los sustratos se disponen sobre soportes de sustratos , que están instalados respectivamente en un carro y están montados de modo que circulan a través de las cámaras de proceso en un orden determinado, y - los soportes de sustratos se conducen a través de las cámaras de proceso según el orden, en donde se realiza el revestimiento en las cámaras de proceso con ayuda de dispositivos de proceso incorporados en ellas, y - en donde los soportes de sustratos están configurados en forma de tambores giratorios, - en donde los tambores giratorios se conducen a este respecto a través de campos de tratamiento de los dispositivos de proceso en paralelo al eje de giro de los tambores de giro y durante el paso a través de las cámaras de proceso se giran con…

(08/03/2017) Soporte para sustentar taladros en una instalación de revestimiento, con una primera pared perforada con primeros orificios y una segunda pared perforada, separada con respecto a la primera pared, con segundos orificios o hendiduras, que están armonizados con respecto a los primeros orificios, de manera tal que los taladros pueden introducirse de manera correspondiente en los primeros orificios y los mismos taladros puedan introducirse simultáneamente en los segundos orificios o hendiduras comprendiendo el soporte por lo menos una tercera pared separada con respecto a la segunda pared, que es adecuada para…

(14/12/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición física de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición física de vapor incluye al menos un blanco de material de recubrimiento que comprende una fuente del material de recubrimiento resistente al desgaste que va…

(27/07/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición en fase de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición en fase de vapor incluye al menos un blanco…

(13/04/2016) Un dispositivo de deposición que realiza un tratamiento de deposición mientras se enfrían las piezas de trabajo (W), comprendiendo el dispositivo de deposición : una cámara que tiene un espacio (2e) en el que se acomodan las piezas de trabajo (W) y en el que se realiza el tratamiento de deposición de las piezas de trabajo (W); una unidad de enfriamiento que enfría las piezas de trabajo (W) dentro del espacio (2e); una mesa giratoria que gira alrededor de un eje vertical (C) en un estado en el que las piezas de trabajo (W) están colocadas sobre la misma y que tiene una porción de colocación de la unidad de enfriamiento configurada para permitir que la unidad de enfriamiento se coloque sobre la misma y porciones de colocación de las piezas de trabajo que están dispuestas para rodear la periferia de la porción de colocación …

(23/02/2016) Procedimiento de producción de un sistema de administración de fármacos, que comprende las etapas de: (a) seleccionar una primera sustancia de fármaco; (b) depositar la primera sustancia farmacológica sobre al menos una zona de la superficie de un producto sanitario a fin de formar una primera capa de fármaco depositado; (c) formar un primer haz de iones de clúster de gas en una cámara de vacío; (d) posicionar al menos una zona de la superficie del producto sanitario en la cámara de vacío para irradiación mediante el primer haz de iones de clúster de gas; (e) irradiar la primera capa de fármaco depositado…

(20/05/2015) Instalación de recubrimiento en vacío en-línea con una cámara de recubrimiento en vacío con al menos una unidad de recubrimiento así como con un carro desplazable a través de la cámara de recubrimiento en vacío para el alojamiento de sustratos en forma de tubo giratorios alrededor de su eje longitudinal, caracterizada por un árbol dentado giratorio instalado fijo estacionario y conectado con un accionamiento giratorio y por medio de una rueda dentada que se puede llevar a engrane con el árbol dentado y que está alojada de forma giratoria en el carro , cuya rueda dentada es desplazable cargada por resorte en contra de la dirección de la marcha del carro longitudinalmente en una extensión predeterminada.

(08/04/2015) Portapiezas de trabajo para un sistema de revestimiento, que comprende una base y un barra anclada o montada en la misma y una pluralidad de discos que se suceden a lo largo de la barra y pueden rotar respecto a la base y que en cada caso están provistos de una pluralidad de soportes distribuidos en la circunferencia del disco , inclinados hacia fuera oblicuamente, separados de la barra , y destinados a una pieza de trabajo , caracterizado porque dicho portapiezas tiene una envoltura que rodea la barra y los discos y deja libres grupos de aberturas que están distribuidas en la circunferencia y separadas en cada caso por almas, a través de cuyas aberturas sobresalen en cada caso los soportes que pertenecen a uno de los discos , y que se compone de una pluralidad de anillos que se…

(28/05/2014) Manipulador de componentes para el posicionamiento dinámico de un sustrato que debe tratarse en un proceso de tratamiento térmico, en el que el manipulador de componentes comprende un eje de accionamiento principal giratorio alrededor de un eje de giro principal , un elemento de acoplamiento y un soporte del sustrato , que se puede conectar con el elemento de acoplamiento , caracterizado porque el elemento de acoplamiento es un elemento de acoplamiento cerámico y un segmento de conexión del soporte del sustrato está dispuesto de manera que se puede conectar por medio de una conexión giratoria de enchufe de forma fija contra tracción…

(26/03/2013) Dispositivo de soporte de sustrato, que comprende: un marco que presenta una cara posterior y por lo menos una abertura pasante , estando dichaabertura adaptada para soportar el borde de un sustrato colocado sobre la abertura por la cara posterior de dichomarco; caracterizado porque presenta: un conjunto de grapa elástica compuesta destinado a proporcionar una fuerza para forzar el sustrato contra el marco, que incluye: un resorte de lámina , que presenta una constante de resorte de lámina, con un extremo sujetado y unextremo en voladizo, estando dicho resorte de lámina adaptado para proporcionar una fuerza de sujeción desustrato en un sustrato en contacto con el extremo en voladizo, un brazo de palanca que sobresale alejándose del marco, un elemento de soporte de grapa que conecta el brazo de palanca al extremo sujetado,…

(19/04/2012) Método para depositar un material de una diana sobre una superficie de una muestra, método que comprende las etapas de: - Irradiar una superficie de la diana con un rayo láser o de electrones para generar un penacho de partículas del material diana; - Posicionar la muestra cerca del penacho, tal que las partículas del material diana se depositen sobre la superficie de la muestra; - Hacer girar la muestra alrededor de un eje de rotación que es perpendicular a la superficie de la muestra sobre las cual se depositan las partículas; - Mover el rayo láser o de electrones a lo largo de la superficie de la diana, tal que el penacho se mueva en una dirección…

(16/11/2006) Método de deposición de película para formar una película esparciendo un material de deposición desde una superficie de un material seleccionado y depositando el material de deposición esparcido sobre una superficie de un sustrato , comprendiendo el método: - una fase que consiste en disponer dicho sustrato y dicho material seleccionado de manera que la superficie de dicho sustrato forme ángulo con la superficie del material seleccionado ; y - una fase de deposición que consiste en formar dicha película sobre dicho sustrato de manera que el área de la superficie de dicha película aumenta continuamente en dirección bidimensional, mientras que al mismo tiempo la posición relativa de dicho sustrato se desplaza…

(16/04/2004) Aparato para aplicar al menos un revestimiento a objetos por medio de deposición en fase vapor (PVD) al vacío, que comprende: – un dispositivo de PVD para revestir el objeto al vacío; – al menos una cámara intermedia que separa el dispositivo de PVD del ambiente; – un dispositivo de transporte que se extiende a través del dispositivo de PVD y hacia dentro de la cámara intermedia; – en el que el dispositivo de transporte está destinado a transportar objetos dispuestos sobre portadores; – el dispositivo de PVD está destinado a tratamiento semicontinuo de objetos dispuestos sobre los portadores; – un dispositivo de pretratamiento para realizar un pretratamiento en el objeto; – un dispositivo de postratamiento para postratar los objetos;…

(16/06/2003) Instalación de recubrimiento a vacío con al menos: - una cámara de distribución central que se puede evacuar con una disposición de transporte de piezas de trabajo accionada controlada esencialmente a lo largo de un plano; - al menos una cámara de control para las cámaras de distribución así como al menos dos cámaras de tratamiento para producto a tratar, cuyas al menos tres cámaras se comunican a través de aberturas de control con la cámara de distribución, a través de cuyas aberturas se pueden transportar piezas de trabajo desde una cámara a la otra por medio de la disposición de transporte, caracterizada porque - están presentes soportes de piezas…

(01/02/1995) DISPOSITIVO (FIGURA 2) PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS (31, 31', ...) EN UNA CAMARA DE VACIO CON UN PORTASUBSTRATOS ALOJADO EN ELLA, CON UN DISPOSITIVO PARA GENERAR UNA NUBE DE PLASMA Y CON IMANES , QUE DESVIAN LA NUBE DE PLASMA HACIA LA SUPERFICIE DE LOS SUBSTRATOS (31, 31', ...). EL DISPOSITIVO PARA GENERAR LA NUBE DE PLASMA POSEE UN EMISOR DE ELECTRONES CON UN ANODO TUBULAR SITUADO DETRAS PROVISTO DE UNA ENTRADA PARA EL GAS DE PROCESO PARA LA IGNICION DEL PLASMA. PARA LA ORIENTACION Y LA CONDUCCION DEL PLASMA A TRAVES DEL ANODO TUBULAR HACIA LA CAMARA DE PROCESO SE PREVEN IMANES . EN LA…

(01/12/1993) EL INVENTO SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA SUJETAR Y GIRAR LENTES EN UNA INSTALACION DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL. EL INVENTO SE CARACTERIZA PORQUE EL DISPOSITIVO, DISPONE DE UN PAR DE ANILLOS QUE SOPORTAN LA LENTE A SUJETAR Y SE ALOJAN EN UN SUJETADOR EN FORMA DE SUSTRATO, QUE ESTA SITUADO EN LA CAMARA DE PROCESO DE LA INSTALACION A ALTO VACIO. EL DISPOSITIVO TIENE UNAS PIEZAS DE CHAPA QUE SE CONFORMAN A MODO DE SEMI CARCASA, FORMAN EL SUJETADOR QUE TIENE FORMA DE SUSTRATO Y GIRA ALREDEDOR DE UN EJE (33, 33') VERTICAL Y SE SOLAPAN A PARTIR DE CORTE DE CHAPA EN FORMA DE HOZ, PARA CONFORMAR UN RASTRILLO . EL RASTRILLO SE MANTIENE Y SE GUIA A PARTIR DE UN MANGUITO QUE SE DESPLAZA EN DIRECCION DEL EJE (33, 33') DE ROTACION Y DE UN MIEMBRO ELEVADOR…