(21/03/2019). Solicitante/s: AGFA-GEVAERT.. Inventor/es: LOUWET, FRANK, BOLLENS,LOUIS.

Composición que comprende un polianión y un polímero o copolímero de un tiofeno sustituido o no sustituido como solución o dispersión en un medio líquido y al menos un compuesto con al menos dos grupos vinilo, en la que dicho medio líquido comprende al menos un disolvente no acuoso y contiene menos del 30% en peso de agua, y dicha composición comprende más del 0,1% en peso del polímero o copolímero de un tiofeno sustituido o no sustituido con respecto al peso total de la composición y es capaz de ser fotopolimerizada por radiación UV debido al hecho de que dicha composición comprende al menos un compuesto vinílico capaz de iniciar la fotopolimerización por radiación UV y/o al menos un fotoiniciador UV, y en la que dicha composición comprende además al menos un compuesto con un grupo vinilo que es capaz de copolimerizarse con dicho al menos un compuesto con al menos dos grupos vinilo.

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(21/03/2019). Solicitante/s: BECA GRAFIC, S.A. Inventor/es: ALMORÍN NAVARRETE,Juan.

La presente invención se refiere a una plancha de impresión autoadhesiva multicapas, con una capa de fotopolímero sólido. La invención se refiere especialmente a una estructura multicapas con una capa de fotopolímero sólido , que tiene una capa superior hecha de una película de poliéster que protege la emulsión y una capa inferior de poliéster que comprende una laminación de cola adhesiva destinada a fijar las planchas de impresión sobre un cilindro de impresión o cliché.

(06/09/2017). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, KAWAKAMI,TETSUMA, YAWATA,YUKIMI.

Una placa original de impresión flexográfica fotosensible y revelable por agua, en la que están estratificados sucesivamente al menos un miembro de soporte, una capa de resina fotosensible, una capa protectora y una capa de máscara, caracterizada porque, la capa protectora contiene: (A) alcohol polivinílico, (B) plastificante y (C) látex dispersable en agua en la siguiente proporción: alcohol polivinílico (A): 25 a 80 partes en peso plastificante (B): 15 a 60 partes en peso y látex dispersable en agua (C): 5 a 40 partes en peso, en la que la capa de resina fotosensible comprende un látex, un compuesto insaturado fotopolimerizable y un iniciador de fotopolimerización; y en el que el grado de saponificación del alcohol polivinílico (A) es del 60% al 90%.

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(21/09/2016). Solicitante/s: Mylan Group. Inventor/es: NGUYEN, MY, T., DANG,THUONG T, PHAN,KHAI N.

Una plancha de impresión litográfica laminada que comprende: una capa de aluminio que tiene un primer lado y un segundo lado, una primera capa de óxido de aluminio que recubre el primer lado de la capa de aluminio, una segunda capa de óxido de aluminio que recubre el segundo lado de la capa de aluminio, una capa de formación de imágenes que recubre la primera capa de óxido de aluminio, una capa adhesiva que se adhiere a dicha segunda capa de óxido de aluminio y una capa base que recubre la capa adhesiva, siendo la capa adhesiva accesible a e insoluble en tintas oleófilas y soluciones fuente acuosas alcalinas o ácidas utilizadas durante la impresión con la plancha de impresión, y reveladores acuosos alcalinos o ácidos utilizados durante el revelado de la plancha de impresión, y siendo la capa adhesiva una capa amoldable de adhesivo seco que tiene una dureza de 60 Shore-A o inferior, permitiendo de este modo la deslaminación de la plancha de impresión.

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(17/08/2016). Solicitante/s: LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH. Inventor/es: KONIG, PETER, DR., DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, CARVALHO MENEZES,ELISABETE HENRIQUETTA SOARES DE, JILAVI,MOHAMMAD.

Una composición para la producción de un revestimiento antirreflexivo, caracterizada por que la composición abarca los siguientes componentes a) por lo menos un compuesto de silano hidrolizable; b) por lo menos un compuesto metálico hidrolizable, pudiendo presentarse el compuesto también parcialmente hidrolizado y/o condensado; c) por lo menos un compuesto orgánico con por lo menos dos grupos de coordinación funcionales o unos compuestos precursores de éstos; y d) por lo menos un disolvente, pudiendo formar los componentes a), b) y c) por lo menos parcialmente un polímero de coordinación.

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(16/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: EASTMAN KODAK COMPANY. Inventor/es: BROWN, DAVID, ALI,M, FOHRENKAMM,ELSIE, HELLER,MICHAEL.

Un método de elaboración de una imagen en relieve, comprendiendo el método: (a) proporcionar una película que comprende un material capaz de formar imágenes dispuesto sobre una lámina portadora; (b) formar una imagen de máscara sobre la lámina portadora produciendo zonas expuestas y no expuestas del material capaz de formar imágenes, formando una máscara transferible; (c) poner la máscara transferible que tiene la imagen de máscara próxima a un material fotosensible y transferir la imagen de máscara al material fotosensible que es sensible a radiación curadora UV, de tal modo que el material capaz de formar imágenes se adhiera más al material fotosensible que a la lámina portadora; (d) exponer el material fotosensible a la radiación curadora UV a través de la imagen de máscara, formando un artículo con imagen, en el que la imagen de máscara es sustancialmente opaca a la radiación curadora UV; y (e) revelar el artículo con imagen, formando la imagen en relieve.

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(09/03/2016). Solicitante/s: NAPP SYSTEMS INC. Inventor/es: ROBERTS,David H, HU,GEOFFREY YUXIN.

Un elemento de impresión en relieve capaz de formar imágenes digitales que comprende: a) un soporte; b) una capa reflectante, donde la capa reflectante es un imprimador que comprende pigmentos seleccionados del grupo que consiste en aluminio, mica, bismuto, y mezclas de los anteriores, dispersos en un imprimador y colocados sobre el soporte; c) al menos una capa fotocurable encima de dicha capa reflectante; y d) opcionalmente, una cubierta extraíble encima de dicha al menos una capa fotocurable; donde se obtiene la imagen de dicho elemento de impresión usando una fuente digital de radiación actínica.

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(01/05/2007). Solicitante/s: S. C. JOHNSON & SON, INC.. Inventor/es: SCHRAMM, HEATHER, R., WALTER, SCOTT, D., JAWORSKI, THOMAS, HELF, THOMAS, A., PORCHIA, JOSE, MARTENS, EDWARD, J., III, TOMKINS, DAVID, A..

Un método de preparación de una placa de impresión con imágenes digitales en relieve que comprende las etapas de: a) extruir una capa curable por UV que puede colapsarse que comprende (i) un elastómero curable por UV, (ii) un colorante de infrarrojo, y (iii) microesferas, entre una hoja de recubrimiento y una hoja de refuerzo para formar una placa de impresión; b) exponer la capa curable por UV que puede colapsarse a través de la hoja de refuerzo para establecer una capa de fondo; c) retirar la hoja de recubrimiento de la placa de impresión; d) usar un láser para colapsar y fundir porciones de la capa curable por UV que puede colapsarse para formar una imagen en relieve sobre la placa de impresión; y e) curar por UV dicha capa curable por UV por exposición superficial para reticular y curar dicha imagen formada en relieve.

(01/05/2004). Solicitante/s: MACDERMID GRAPHIC ARTS S.A. Inventor/es: KUCZYNSKI, JERZY, SCHANEN, MICHEL, TEIXERA, LAURENT, RICH, GERARD, SERAIN, HUGUES.

Placa de impresión flexográfica compresible, destinada a posicionarse sobre un cilindro de soporte de una máquina de imprimir, comprendiendo esta placa una capa de fotopolímero y una capa compresible de un material que presenta huecos que forman entre el 10 y el 60% en volumen de esta capa compresible, incluyendo el material al menos el 70% en peso de un polímero o de una mezcla de polímeros que es químicamente compatible con el fotopolímero.

(01/02/2001). Solicitante/s: CLONDIAG CHIP TECHNOLOGIES GMBH. Inventor/es: SCHULZ, TORSTEN, ERMANTRAUT, EUGEN, WOHLFART, KLAUS, KIHLER, JOHANN, MICHAEL.

LA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS TIPOS DE BAÑOS PARA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS, QUE SON NECESARIA EN LOS CAMPOS MAS VARIADO DE APLICACION DE TECNICAS DE MICROSISTEMAS Y MICROESTRUCTURACION. LA INVENCION TIENE COMO OBJETIVO EL SUMINISTRAR NUEVOS TIPOS DE BAÑOS PARA LA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS QUE SUMINISTRAN UNA SOLUCION MAS ECONOMICA Y, SOBRE TODO, UNA SOLUCION MAS LIMPIA A LOS PROBLEMAS DE ELIMINACION QUE TIENEN TODOS LOS PROCEDIMIENTOS CONOCIDOS PREVIAMENTE PARA LA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS. ESTE OBJETIVO SE CONSIGUE DE TAL MODO QUE AL MENOS UN CATALIZADOR BIOGENICO (EN PARTICULAR, UNA ENZIMA) SE AÑADE AL BAÑO PARTICULAR QUE ACTUA SOBRE UNA PELICULA DELGADA PREVIAMENTE DETERMINADA.

(01/12/2000). Solicitante/s: FLAIM, TONY D. MEADOR, JIM D. SHAO, XIE BREWER, TERRY L. Inventor/es: FLAIM, TONY D., MEADOR, JIM D., SHAO, XIE, BREWER, TERRY L.

SE DESCRIBEN UN RECUBRIMIENTO ANTIREFLECTIVO TERMOESTABLE Y UN METODO PARA FABRICAR Y USAR EL MISMO EN UN AMPLIO RANGO DE LONGITUDES DE ONDA DE EXPOSICION, CONTENIENDO DICHO RECUBRIMIENTO UN CATALIZADOR DE CURADO ACTIVO, PUENTES ETER O ESTER DERIVADOS DE FUNCIONALIDAD EPOXI POR ENCIMA DE 2,0, UN OLIGOMERO DE FUNCIONALIDAD HIDROXILO ACOPLADO A COLORANTES, Y UN AGENTE RETICULANTE AMINOPLASTO ALQUILADO, PRESENTES TODOS EN UN SOLVENTE CON UN CONTENIDO EN ALCOHOL DE MEDIO A BAJO.

(01/11/1997). Solicitante/s: AT&T CORP.. Inventor/es: CUTHBERT, JOHN DAVID, FAVREAU, DAVID PAUL.

SE UTILIZA UNA CAPA DE CRISTAL COMO MASCARA DURA PARA DISEÑAR UNA CAPA SUBYACENTE DE POLISILICIO. EL POLISILICIO DISEÑADO PUEDE UTILIZARSE EN ESTRUCTURA DE PUERTAS DE TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO.

(01/12/1994). Solicitante/s: NIPPON PAINT CO., LTD.. Inventor/es: UMEDA, YASUSHI.

UN MATERIAL DE IMPRENTA A BASE DE RESINA FOTOSENSIBLE EN FORMA DE LAMINA, QUE COMPRENDE, EN ORDEN SUCESIVO, UN SOPORTE, UNA CAPA DE RESINA FOTOSENSIBLE, UNA DELGADA CAPA DE UNA SUSTANCIA DE PESO MOLECULAR ELEVADO, QUE ES SOLUBLE O SUMERGIBLE EN UN DESARROLLANTE, UNA CAPA DE EMISION OPCIONAL, Y UNA HOJA O PELICULA DE LECHO PROTECTOR, QUE SE CARACTERIZA POR QUE SE INCLUYE EN DICHA CAPA DELGADA UN COLORANTE, EN UNA CANTIDAD DE 0,02 A 20% EN PESO DE LA SUSTANCIA DE PESO MOLECULAR ELEVADO. EL PRESENTE MATERIAL DE IMPRENTA ES ESPECIFICAMENTE EXCELENTE PARA RESOLUCION Y MUY MEJORADO CUANDO SE COMPARA CON EL MATERIAL DE IMPRENTA PROPUESTO HASTA AHORA RESPECTO DE LA MANIPULACION Y DE LAS PROPIEDADES DE INSPECCION VISUAL.

(01/07/1987). Solicitante/s: AMERICAN TELEPHONE AND TELEGRAPH COMPANY.

METODO DE FABRICAR DISPOSITIVOS SEMI-CONDUCTORES. CONSISTE EN MODELAR UN SUSTRATO CON UNA SUPERFICIE ESCALONADA MEDIANTE EL EMPLEO DE UNA CAPA PROTECTORA DE TRES NIVELES QUE INCLUYE UNA REGION DE PLANARIZACION QUE RESIDE POR ENCIMA DE LA SUPERFICIE , LA REGION DE SUSTITUTO DE DIOXIDO DE SILICIO QUE RESIDE POR ENCIMA DE LA REGION Y UNA REGION DE MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA QUE RESIDE POR ENCIMA DE LA REGION ; INCLUYENDO: LA REGION UNA RESINA DE NOVOLACA QUE PUEDE DEPOSITARSE POR MEDIOS ROTATIVOS; Y LA REGION UNA CAPA PROTECTORA DE POLIMERO ORGANICO CONVENCIONAL. TIENE APLICACIONES EN EL CAMPO DE LA ELECTRONICA.

(01/08/1983). Solicitante/s: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION.

METODO PARA FORMAR UN DIBUJO O MODELO DE ABERTURAS EN UNA CAPA DE UN SISTEME DE RESERVA POSITIVO. SE FORMA UNA CAPA DE UN SISTEMA DE RESERVA POSITIVO SENSIBILIZADO CON DIAZOBENZOFENONA SOBRE UN SUBSTRATO Y SE EXPONE A UN HAZ DE ELECTRONES EN UN DIBUJO O MODELO DE ABERTURAS PREDETERMINADO. LA RESERVA EXPUESTA SE REVELA EN UN MEDIO ALCALINO, A UNA TEMPERATURA DE 13 A 15 C, DETERMINANDOSE EL TIEMPO PARA COMPLETAR EL REVELADO DE UNA DE LAS ABERTURAS SOBRE UNA PORCION DE SUBSTRATO, CONTINUANDOSE EL REVELADO DE LA RESERVA DURANTE UN 10 A 100% MAS DE DICHO TIEMPO. SE CALIENTA EL DIBUJO DURANTE UN TIEMPO DE 20 A 60 MINUTOS, HASTA UNA TEMPERATURA FINAL DE 120 A 160 C Y SE SOMETE LA RESERVA A COCCION DURANTE UN TIEMPO DE 10 A 20 MINUTOS. EL RECUBRIMIENTO SE GRABA QUIMICAMENTE CON IONES REACTIVOS PARA FORMAR ORIFICIOS DE PASO EN PUNTOS PREVIAMENTE DETERMINADOS.

(01/04/1980). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

Procedimiento de fabricación de circuitos integrados utilizando patrones gruesos de gran resolución especialmente para formar un modelo de gran resolución sobre una superficie de un cuerpo una capa relativamente delgada, mordentar de una forma selectiva la capa delgada para formar el modelo o patrón y utilizar la capa mordentada de una forma selectiva como máscara que formar el modelo en la superficie del cuerpo, caracterizado porque se interpone una capa relativamente gruesa entre la superficie del cuerpo y la capa relativamente delgada se utiliza la capa relativamente delgado como máscara para formar el modelo o patrón en la capa gruesa, de modo que el modelo quede definido por paredes prácticamente verticales, y se utiliza la capa relativamente gruesa como máscara para formar el modelo o patrón en la superficie del cuerpo.

(01/12/1977). Solicitante/s: SHIPLEY COMPANY INC..

Resumen no disponible.

(16/04/1977). Solicitante/s: SHIPLEY COMPANY INC..

Resumen no disponible.