PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE ELEMENTOS DE GRABADO SENSIBLES A LA LUZ.

Procedimiento para la obtención de moldes de impresión o en relieve o plantillas rígidas mediante la irradiación según una imagen con luz actínica y revelado de un elemento de grabado sensible a la luz con
(a) un soporte dimensionalmente estable,


(b) una capa de grabado sensible a la luz sólida, aplicada sobre el soporte, así como, en caso dado,
(c) una o varias capas intermedias entre el soporte y la capa de grabado sensible a la luz, conteniendo el elemento de grabado sensible a la luz en la capa de grabado sensible a la luz y/o en una capa intermedia presente en caso dado, un colorante, caracterizado porque como colorante está contenido un compuesto de la fórmula general (I) **formula**
X significa un agrupamiento azo o azoxi,
M significa un átomo de hidrógeno, un catión de metal al calino, el catión amonio o un catión de amina,
R, R1 son iguales o diferentes y significan independientemente entre sí, un grupo -NO2, un grupo -NH2, un grupo -NHCOR2 (con R2 = unátomo de hidrógeno, un resto alquilo en caso dado substituído, un resto cicloalquilo en caso dado substituído, un resto fenilo en caso dado substituído, un resto alcoxi, un resto fenoxi, un resto heteroaromático concinco o seis miembros, un grupo -NH2 o un grupo -COOH), un grupo -NHSO2R3 (con R3 = un resto alquilo o fenilo) o un grupo -N=N-R4 (con R4 = el resto de un componente de copulación),
n significa un número entero de 1 a 6 y en el caso de que R y/o R1 signifiquen un grupo -N=N-R4 , significa también 0.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: BASF AKTIENGESELLSCHAFT.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: CARL-BOSCH-STRASSE 38, W-6700 LUDWIGSHAFEN.

Inventor/es: NEUMANN, PETER, HANSEN, GUENTER, DR., WALLBILLICH, GUENTER, DR.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 26 de Junio de 1991.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/004 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
  • G03F7/09 G03F 7/00 […] › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).

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