PROCEDIMIENTO Y UNIDAD PARA PRODUCIR PLANCHAS DE IMPRESION.
Un sistema de producción de planchas de impresión fotopolimerizadas reticuladas,
dicho sistema se caracteriza por: A) un primer (40) y un segundo (42) bancos enfrentados de luz UV para reticular selectivamente una capa (R) de una resina fotopolimerizada; B) una primera (20) y una segunda (28) planchas de soporte entre dichos primer y segundo bancos de luces para confinar la capa de resina durante la producción de una plancha de impresión; C) un primer negativo (44) interpuesto entre la capa de resina y dicho primer banco, incluyendo dicho primer negativo porciones transparentes (46) y porciones opacas (48), pudiéndose usar dichas porciones transparentes para definir superficies de impresión de resina reticulada (10) sobre la plancha (2) que se está formando y pudiéndose usar dichas porciones opacas para definir áreas en la plancha en las que la resina no se reticulará; y D) un segundo negativo (38) interpuesto entre dicha segunda plancha de soporte (28) y dicho segundo banco de luz (42), incluyendo dicho segundo negativo porciones transparentes (50) y porciones opacas (52), estando alineadas dichas porciones transparentes (50) en dicho segundo negativo (38) con dichas porciones transparentes (46) en dicho primer negativo (44) de modo que definen suelos de resina individuales reticulados (12) sobre la plancha (2) que adoptan la forma de las superficies de impresión pero son mayores que las superficies de impresión (10), y pudiéndose usar dichas porciones opacas (52) sobre dicho segundo negativo (38) para definir áreas en la plancha en las que la resina no se reticulará.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MACDERMID IMAGING TECHNOLOGY INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 245 FREIGHT STREET,WATERBURY, CT 06702.
Inventor/es: STRONG, KENNETH, M.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 28 de Septiembre de 1998.
Fecha Concesión Europea: 16 de Noviembre de 2005.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/09 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
- G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
Países PCT: Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Oficina Europea de Patentes.
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