CIP-2021 : G03F 7/20 : Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/20 · Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Método de mejorar el rendimiento de impresión en las planchas de impresión flexográfica.
(20/04/2016) Un método para controlar la forma de una pluralidad de puntos en relieve creados en una pieza en bruto de impresión fotosensible durante un proceso de producción de planchas digital, comprendiendo dicha pieza en bruto de impresión fotosensible una capa de máscara erosionable por láser dispuesta directa o indirectamente por encima de al menos una capa fotocurable, comprendiendo el método las etapas de:
a) erosionar por láser la capa de máscara erosionable por láser para crear un negativo in situ en la capa de máscara erosionable por láser;
b) aplicar una membrana de barrera a la pieza en bruto de impresión fotosensible;
c) exponer la al…
Sistema de ajuste para alinear elementos ópticos o muestras en vacío.
(31/03/2016) Sistema de ajuste para alinear elementos ópticos y muestras al vacío para proyectar radiación óptica o electromagnética, que consiste en
- al menos una cámara (3") de vacío,
- al menos un espejo (3') ajustable en la dirección espacial, y/o de
- al menos un elemento óptico ajustable en la dirección espacial, y/o de
- al menos una muestra ajustable en dirección espacial,
donde en el estado no desviado (estado inactivo) se proporcionan accionadores (X1, X2, Z1, Y, Z2, Z3) traslacionales para ajustar la alineación de al menos un espejo (3') ajustable en la dirección espacial y/o de al menos un elemento óptico ajustable en la dirección espacial o de al menos una muestra ajustable en la dirección espacial en un máximo de tres direcciones (X, Y, Z) espaciales esencialmente mutuamente perpendiculares,
…
Método de producción de una imagen en relieve.
(16/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: EASTMAN KODAK COMPANY. Inventor/es: BROWN, DAVID, ALI,M, FOHRENKAMM,ELSIE, HELLER,MICHAEL.
Un método de elaboración de una imagen en relieve, comprendiendo el método:
(a) proporcionar una película que comprende un material capaz de formar imágenes dispuesto sobre una lámina portadora;
(b) formar una imagen de máscara sobre la lámina portadora produciendo zonas expuestas y no expuestas del material capaz de formar imágenes, formando una máscara transferible;
(c) poner la máscara transferible que tiene la imagen de máscara próxima a un material fotosensible y transferir la imagen de máscara al material fotosensible que es sensible a radiación curadora UV, de tal modo que el material capaz de formar imágenes se adhiera más al material fotosensible que a la lámina portadora;
(d) exponer el material fotosensible a la radiación curadora UV a través de la imagen de máscara, formando un artículo con imagen, en el que la imagen de máscara es sustancialmente opaca a la radiación curadora UV; y
(e) revelar el artículo con imagen, formando la imagen en relieve.
PDF original: ES-2569920_T3.pdf
Fotoiniciadores polimerizables para composiciones curables por LED.
(16/03/2016) Fotoiniciador polimerizable según la Fórmula (I): **Fórmula**
, en la que :
R1 y R2 se seleccionan independientemente del grupo que consta de hidrógeno, un grupo alquilo no sustituido, un grupo alquenilo no sustituido, un grupo alquinilo no sustituido, un grupo aralquilo no sustituido, un grupo alcarilo no sustituido, un grupo arilo no sustituido o un grupo heteroarilo no sustituido, un halógeno, un grupo éter, un grupo tioéter, un grupo aldehído, un grupo cetona, un grupo éster, un grupo amida, un grupo amina y un grupo nitro,
R1 y R2 pueden representar los átomos necesarios para formar un anillo de 5 a 8 miembros,
L representa un grupo de enlace n+m-valente que comprende 1 a 30 átomos de carbono,
A representa un grupo polimerizable por radicales seleccionado…
Composición, proceso de preparación y método de aplicación y exposición para papel de formación de imágenes mediante luz.
(02/12/2015) Un artículo que comprende: una partícula que comprende una matriz de material polimérico y que contiene: uno o más agentes de formación de imágenes; y un agente foto-oxidante, donde la partícula permite que el agente foto-oxidante se difunda por el interior de la partícula en dirección al uno o más agentes de formación de imágenes cuando la partícula se expone a una temperatura mayor que el Tg del material polimérico, donde las partículas tienen un diámetro de aproximadamente 10 μm o menos, y donde el agente foto-oxidante difundido es activado por luz que tiene una longitud de onda de entre 200 a 450 nm para así provocar que el uno o más agentes de formación de imágenes formen una o más imágenes.
Método para preexponer una plancha de impresión de imagen en relieve.
(05/08/2015) Un método de producir un elemento de impresión de imagen en relieve incluyendo:
proporcionar un elemento de impresión fotosensible, incluyendo dicho elemento de impresión fotosensible una capa fotosensible dispuesta sobre un sustrato base;
preexponer selectivamente zonas de características finas en una superficie de dicha capa fotosensible con radiación actínica a una primera intensidad seleccionada de una fuente de radiación;
exponer selectivamente como imagen dicha superficie de dicha capa fotosensible con radiación actínica a una segunda intensidad seleccionada de una fuente de radiación creando por ello zonas curadas y no curadas; y
quitar selectivamente…
Método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva.
(26/05/2015) Método para fabricar un material de plancha de impresión litográfico fotosensible positivo, comprendiendo dicho método los pasos de
- granular un soporte de aluminio mediante pulido con cepillo o grabado electrolítico en una solución de ácido clorhídrico o ácido nítrico,
- anodizar el soporte de aluminio granulado en un disolvente de ácido sulfúrico,
- recubrir la superficie del soporte con una solución de una composición fotosensible positiva en un disolvente, y
- secar,
en el que la solubilidad en un revelador alcalino de dicha composición, durante una exposición por barrido a la luz en el intervalo de longitud de onda de 650 a 1.300 nm, aumenta en la área expuesta, lo que permite formar una imagen mediante un revelador alcalino,
en el que la composición contiene como componentes esenciales inductores de dicho…
Procedimiento para producir un molde de impresión.
(11/02/2015) Procedimiento para producir un molde de impresión, en el que
- a una primera capa de laca fotosensible (4') sensible a la radiación dispuesta sobre un tamiz (1') de una laca reticulable se aplica mediante recubrimiento por inmersión una capa cobertora , en donde la capa cobertora contiene unas finas partículas absorbedoras o reflectoras de luz, que están suspendidas en gelatina o alcohol polivinílico,
- la capa cobertora aplicada se estructura después de un paso de secado de forma correspondiente a un modelo, en donde para estructurar la capa cobertora , condicionado por el modelo, las partes a extraer de la capa cobertora se desmontan directamente utilizando…
Composición de partículas de formación de imágenes y procedimiento de formación de imágenes usando luz a dos longitudes de onda.
(17/12/2014) Una composición de formación de imágenes que comprende:
un disolvente; y
una pluralidad de partículas que forman imágenes a dos longitudes de onda dispersas en el disolvente, en la que cada partícula de la pluralidad de partículas comprende una matriz de material polimérico y contiene:
uno o más agentes de formación de imágenes que se seleccionan de leucocolorantes activables por la luz y un agente foto-oxidante que es activable a una primera longitud de onda de la luz para provocar que el uno o más agentes que forman imágenes formen una o más imágenes; y
un agente reductor que es activable a una segunda longitud de onda de la luz para provocar la terminación de la formación de la una o más imágenes;
en la que el agente foto-oxidante es activable a una longitud…
Procedimiento que comprende irradiación UV-LED para la fabricación de placas de impresión flexográficas.
(09/07/2014) Procedimiento para la fabricación de placas de impresión flexográficas, en el que se usa como material de partida un elemento de impresión flexográfico que puede fotopolimerizarse, que comprende dispuestos uno sobre otro al menos
* un soporte de dimensión estable y
* al menos una capa formadora de relieve que puede fotopolimerizarse, al menos que comprende un aglutinante elastomérico, un compuesto etilénicamente insaturado y un fotoiniciador,
* opcionalmente una capa rugosa permeable a UV, al menos que comprende una sustancia particulada,
* una capa que puede ilustrarse digitalmente,
y el procedimiento comprende al menos las siguientes etapas:
(a) generar una máscara mediante ilustración de la capa que puede ilustrarse…
Sistema para la transferencia de datos y su utilización.
(16/10/2013) Sistema para la transferencia de datos a portadores (23, 23') de datos con forma de plancha, que comprende unsoporte (22, 22') conformado al menos parcialmente como cilindro interior para la disposición de los portadores de datos- cuyo lado previsto para recoger los datos está orientado hacia el eje del cilindro del soporte (22, 22') - y unacabeza de transferencia giratoria alrededor de este eje del cilindro con al menos dos medios (24, 24') detransferencia - para la transferencia de los datos al portador de datos - siendo desplazables el soporte (22, 22') y lacabeza de transferencia también en la dirección del eje del cilindro…
Una placa original de impresión flexográfica fotosensible.
(03/05/2013). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: MOTOI, KEIICHI, WADA, TORU, YOSHIMOTO,KAZUYA, KAWAKAMI,TETSUMA, MUNEKUNI,YASUYUKI, YAWATA,YUKIMI.
Una placa original de impresión flexográfica fotosensible que incluye al menos (A) un miembro de soporte, (B) una capa de resina fotosensible, (C) una capa protectora y (D) una capa de enmascaramiento sensible al calor que son sucesivamente estratificadas, en que la capa de enmascaramiento sensible al calor (D) contiene negro de carbono y, como un aglutinante de dispersión para el mismo, una resina de butiral así como una poliamida que contiene un grupo polar seleccionada entre el grupo que consiste en poliamida que contiene un grupo amino terciario, poliamida que contiene un grupo de sal de amonio cuaternario, poliamida que contiene un grupo éter y poliamida que contiene un grupo sulfónico.
PDF original: ES-2402440_T3.pdf
Método para fabricar estructuras tridimensionales complejas a escala submicrométrica mediante litografía combinada de dos capas resistentes.
(23/04/2013) Método litográfico para fabricar estructuras tridimensionales a escala micrométrica y a escala submicrométrica,que incluye las operaciones de:
- proporcionar un sustrato (S),
- depositar sobre el dicho sustrato (S) una capa (L1) de un primer material polimérico (R1) sensible a la exposición apartículas cargadas o a una radiación electromagnética,
- depositar, sobre la capa (L1) del primer material (R1), una capa (L') de un segundo material polimérico (R2)sensible a la exposición a partículas cargadas o a una radiación electromagnética, de una manera diferente a laprimera, de modo que los procesos de exposición y desarrollo de los dos materiales (R1, R2) son mutuamenteincompatibles hasta el punto en que la exposición o desarrollo…
Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica.
(01/03/2013) Método para fabricar una plancha de impresión litográfica que comprende las etapas de:
a) proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende
(i) un soporte que tiene una superficie hidrófila o que está provisto de una capa hidrófila,
(ii) un recubrimiento sobre dicho soporte que comprende una capa fotopolimerizable que comprende un compuesto polimerizable, un iniciador de polimerización y un aglutinante,
b) exponer a modo de imagen dicho recubrimiento en una filmadora,
c) calentar el precursor en una unidad de precalentamiento,
d) tratar el precursor en una estación de engomado que comprende al menos una primera unidad de engomado, aplicando una solución de…
Método para habilitar la transmisión de cantidades de energía prácticamente idénticas.
(18/04/2012) Método para habilitar la transmisión de cantidades de energía prácticamente idénticas desde al menos unafuente de luz (LS) hasta al menos dos puntos sensibles a la luz (LSP), en el que una intensidad luminosa resultantede la fuente de luz (LS) es un modo de onda sustancialmente continua (cw) y comprende variaciones de intensidaden el tiempo en forma de picos de intensidad sustancialmente periódicos, controlándose dicha transmisión medianteal menos una disposición de iluminación , y comprendiendo dicho método el establecimiento de una correlaciónentre dichas variaciones de intensidad y al menos una característica de dicha disposición de iluminación, por lo cualdicha…
Aparato de aplicación de haz de electrones para grabar información.
(07/03/2012) Un aparato de aplicación de haz de electrones para aplicar un haz de electrones a la superficie de un material para grabar información sobre la superficie del material, que comprende:
una fuente de electrones de tipo emisión de campo térmico que emite un haz de electrones, una lente electrostática , dispuesta inmediatamente debajo de la fuente de electrones, que actúa como un electrodo de condensación para condensar en una segunda abertura angular más pequeña que una primera abertura angular el haz de electrones emitido por la fuente de electrones en la primera abertura angular, una lente condensadora ,…
PROCEDIMIENTO PARA LA GENERACION DE ABERRACIONES OPTICAS DE MAGNITUD VARIABLE MEDIANTE ROTACION DE COMPONENTES OPTICOS Y DISPOSITIVO PARA SU PUESTA EN PRACTICA.
(24/07/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSIDADE DE SANTIAGO DE COMPOSTELA. Inventor/es: ACOSTA PLAZA, EVA, BARA VIÑAS, SALVADOR XURXO.
Procedimiento para la generación de aberraciones ópticas de magnitud variable mediante rotación de componentes ópticos, y dispositivo para su puesta en práctica. Caracterizado por hacer pasar un haz de luz a través de dos o más componentes ópticos, refractivos y/o difractivos, que superpuestos y rotados en direcciones opuestas permiten introducir en el haz incidente una cantidad adicional de aberración cuyo tipo y magnitud depende de los componentes utilizados y del ángulo de giro. El módulo básico, compuesto por dos elementos ópticos, permite la generación de cualquier tipo individual de aberración óptico de magnitud variable. Un conjunto de módulos acoplados permite obtener cualquier aberración compleja que consista en la suma de aberraciones individuales. Es de aplicación para la compensación de las aberraciones del ojo humano o de cualquier otro sistema óptico y para la generación de aberraciones de referencia utilizadas para la calibración de diversos tipos de aberrómetros.
PRODUCCION CONTINUA DE IMAGENES EN RELIEVE DE RESINA RETICULADA PARA PLACAS DE IMPRESION.
(16/08/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: MACDERMID IMAGING TECHNOLOGY INC. Inventor/es: GILLETTE, PAUL C., WALSH, ROBERT, M.
LAS PLANCHAS ESTAN FORMADAS A PARTIR DE UNA CAPA DE RESINA FOTOPOLIMERIZABLE MEDIANTE UN PROCESO Y UN ENSAMBLAJE QUE CONSISTE EN PASAR UNA CAPA DE RESINA POR DELANTE DE UNA FUENTE DE LUZ DE INTENSIDAD VARIABLE PARA RETICULAR LA CAPA DE RESINA SECUENCIAL Y SELECTIVAMENTE. LA FUENTE DE LUZ DE INTENSIDAD VARIABLE SE PUEDE OBTENER MEDIANTE UNA BATERIA DE LUCES QUE SE PUEDE CONTROLAR MEDIANTE CONMUTADORES CONTROLADOS POR ORDENADOR PARA QUE LAS LUCES INDIVIDUALES DE LA BATERIA SE PUEDAN ENCENDER Y APAGAR, SEGUN SEA PRECISO, Y FORMAR UN MOTIVO RETICULADO PRESELECCIONADO EN LA CAPA DE RESINA QUE PRODUCIRA LAS PLANCHAS DESEADAS. LA VELOCIDAD DE MOVIMIENTO DE LA CAPA DE RESINA ANTE LA BATERIA DE LUCES SE PUEDE CONTROLAR MEDIANTE EL ORDENADOR PARA QUE LAS LAMINAS INDIVIDUALES DE LA CAPA DE RESINA ESTEN EXPUESTAS A LA BATERIA DURANTE PERIODOS DE TIEMPO ADECUADOS NECESARIOS PARA PRODUCIR EL MOTIVO DESEADO.
PROCEDIMIENTO Y UNIDAD PARA PRODUCIR PLANCHAS DE IMPRESION.
(16/04/2006) Un sistema de producción de planchas de impresión fotopolimerizadas reticuladas, dicho sistema se caracteriza por: A) un primer y un segundo bancos enfrentados de luz UV para reticular selectivamente una capa (R) de una resina fotopolimerizada; B) una primera y una segunda planchas de soporte entre dichos primer y segundo bancos de luces para confinar la capa de resina durante la producción de una plancha de impresión; C) un primer negativo interpuesto entre la capa de resina y dicho primer banco, incluyendo dicho primer negativo porciones transparentes y porciones opacas , pudiéndose usar dichas porciones transparentes para definir superficies de impresión de resina reticulada sobre la plancha que se está formando y pudiéndose usar dichas porciones opacas para definir áreas en la plancha en las que la resina no se reticulará; y D)…
LITOGRAFO Y MICROSCOPIO CON MASCAR4A DE DISPARO UNIDIMENSIONAL Y PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE HOLOGRAMAS DIGITALES DE UN MEDIO DE ALMACENAMIENTO.
(01/12/2005) Procedimiento para la fabricación de hologramas digitales en un medio de almacenamiento - en el que un rayo de escritura se mueve sobre el medio de almacenamiento de modo enfocado y unidimensional de manera relativa al medio de almacenamiento, - en el que un rayo de exploración se mueve de modo enfocado y unidimensional sobre una máscara de disparo que presenta una pluralidad de líneas de disparo de modo transversal a las líneas de disparo, en el que el movimiento del rayo de exploración está acoplado con el movimiento del rayo de escritura, - en el que durante la exploración de las líneas de disparo, dependiendo de la disposición de las líneas de disparo, se genera una señal de disparo temporal, - en el que con la ayuda de la señal de disparo temporal…
METODO Y DISPOSITIVO DE DESPLAZAMIENTO DE FASE EN LA FABRICACION DE UN CIRCUITO.
(01/03/2005). Solicitante/s: NUMERICAL TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: WANG, YAO-TING, PATI, YAGYENSH, C.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA CREAR UNA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE Y UNA MASCARA DE ESTRUCTURA PARA CONTRAER LOS DISEÑOS DE CIRCUITOS INTEGRADOS. UNA REALIZACION DE LA INVENCION INCLUYE UTILIZAR UN PROCESO DE DOS MASCARAS. LA PRIMERA MASCARA ES UNA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO EN FASE Y LA SEGUNDA ES UNA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE. LA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE DEFINE PRINCIPALMENTE LAS ZONAS QUE REQUIEREN DESPLAZAMIENTO DE FASE. LA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE DEFINE PRINCIPALMENTE LAS ZONAS QUE NO PRECISAN DEL DESPLAZAMIENTO DE FASE. LA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE PREVIENE TAMBIEN QUE SE BORREN LAS ZONAS DE DESPLAZAMIENTO DE FASE Y EVITA LA CREACION DE ZONAS DE ARTEFACTOS NO DESEABLES QUE SE CREARIAN EN CASO CONTRARIO MEDIANTE LA MASCARA CON DESPLAZAMIENTO DE FASE. AMBAS MASCARAS SE DERIVAN DE UN CONJUNTO DE MASCARAS UTILIZADAS EN TECNOLOGIA CON UN PROCESO DE DIMENSIONES MINIMAS MAYOR.
DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA DESACOPLE DE LA LUZ EN FUNCION DE LA LONGITUD ONDA.
(01/03/2004) Dispositivo de exposición con una lámpara y una configuración de condensadores para desacople de la luz en función de longitud de onda, en donde dentro del trayecto de rayos de exposición de la lámpara se ha dispuesto una primera capa de espejos en función de la longitud de onda para dividir el trayecto de rayos en una primera porción ultravioleta reflejada utilizada para la exposición y en una segunda porción espectral visible y/o infrarroja, principalmente transmitida, habiéndose dispuesto un segundo espejo en el trayecto de rayos de la segunda porción espectral que refleja la segunda porción espectral de vuelta a la primera capa de espejos , caracterizado porque en el trayecto de rayos de la porción de luz de la segunda parte espectral reflejada durante el segundo paso por la primera capa de espejos en esta capa de espejos…
PROCEDIMIENTO PARA LA REALIZACION DE UNA PLANTILLA DE SEREGRAFIA.
(16/11/2002). Solicitante/s: SCHABLONENTECHNIK KUFSTEIN AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: FISCHER, HANS, ING.
UN PROCESO SEGUN LA INVENCION PARA LA FABRICACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ, EN PARTICULAR PARA LA ESTAMPACION DE MATERIALES TEXTILES, SE COMPONE DE LOS SIGUIENTES PASOS: A) FORMACION DE UN TAMIZ REDONDEADO CILINDRICO HUECO, B) APLICACION DE UNA CAPA (L) DE LACA FOTOSENSIBLE SOBRE LA SUPERFICIE EXTERIOR DEL TAMIZ REDONDEADO, C) EXPOSICION SELECTIVA DEL LUGAR DE LA CAPA (L) DE LACA POR MEDIO DE UN EQUIPO LASER CON EL FIN DE PRODUCIR LA RETICULACION O DE FORMA CORRESPONDIENTE EL ENDURECIMIENTO DEL LUGAR EXPUESTO DE LA CAPA (L) DE LACA MEDIANTE GIRO DEL TAMIZ REDONDEADO CILINDRICO Y D) DESARROLLO DE LA CAPA (L) DE LACA EXPUESTA.
SISTEMA PARA LA TRANSFERENCIA DE IMAGENES DIGITALIZADAS A UN SOPORTE DE IMAGENES, O VICEVERSA.
(16/12/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: NEW SYSTEM S.R.L.. Inventor/es: FUMO, CESARE, VODOPIVEC, JOZEF.
SE DESCRIBE UN FOTOTRAZADOR ("PLOTTER") A FIN DE OBTENER PELICULAS DE ALTA RESOLUCION A PARTIR DE IMAGENES DIGITALIZADAS (S) DE ORDENADOR, QUE VA EQUIPADO CON UN SISTEMA DE PLACA ACTIVA , UNA SERIE DE FUENTES LUMINOSAS Y UNA CONTRAPLACA , QUE FORMAN UN COJIN DE AIRE EN CUYO INTERIOR SE INSERTA LA PELICULA QUE SE DESEA EXPONER , SOPORTADA POR UN LADO POR UN SISTEMA DE MOVIMIENTO DEL "PLOTTER" QUE LA MUEVE DENTRO DE UN CAMPO DE UNA PARTE (N) DEL TOTAL DE LA IMAGEN, DIVIDIDO EN UNA TRAMA, POR LO QUE LA TOTALIDAD DE LA IMAGEN PUEDE OBTENERSE CON FUENTES LUMINOSAS CORRESPONDIENTES (N).
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UNA PLANTILLA DE SERIGRAFIA.
(16/05/2000). Solicitante/s: SCHABLONENTECHNIK KUFSTEIN AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: FISCHER, HANNES.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA ELABORACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ, EN PARTICULAR PARA LA IMPRESION DE MATERIALES TEXTILES, DONDE EN SU SUPERFICIE EXTERIOR EL CUERPO SOPORTE RECUBIERTO POR UNA CAPA (L) DE LACA SE RADIA CON UN RAYO (S) LASER, A FIN DE APLICAR LA MUESTRA DESEADA, CARACTERIZANDOSE DE TAL MODO QUE LA LONGITUD DE ONDA DE RADIACION DEL RAYO (S) LASER ES MAYOR DE 450 NM.
LITOGRAFIA POR ELECTRONES CON UTILIZACION DE UN FOTOCATODO.
(16/08/1999). Solicitante/s: AT&T CORP.. Inventor/es: BRANDES, GEORGE RAYMOND, PLATZMAN, PHILIP MOSS.
LA DELINEACION DE DISEÑOS SUB-MICROMETRICOS, IMPORTANTES EN LA FABRICACION A GRAN ESCALA DE DISPOSITIVOS INTEGRADOS, ESTA BASADA EN UN FOTOCATODO ESTAMPADO . FUNCIONALMENTE, EN LOS SISTEMAS QUE NOS COMPETEN, EL FOTOCATODO JUEGA EL PAPEL DE MASCARA, BIEN EN IMPRESION POR PROXIMIDAD O EN PROYECCION. EN OPERACION, EL FOTOCATODO SE ILUMINA CON RADIACION ULTRAVIOLETA PARA LIBERAR ELECTRONES QUE SE LLEVAN AL FOCO SOBRE UN DISCO REVESTIDO DE RESISTENCIA CON LA ASISTENCIA DE UN CAMPO MAGNETICO UNIFORME (B) JUNTO CON UN VOLTAJE DE ACELERACION (E) APLICADO.
PREPARACION DE PLACAS PARA IMPRIMIR ELASTOMEROS FOTOPOLIMERIZADOS.
(16/06/1998) LA INVENCION PROVEE UN METODO PARA PROCESAR UNA PLACA DE IMPRESION ELASTOMERA PRE EXPUESTA FOTOPOLIMERIZADA, QUE COMPRENDE ALIMENTAR LA PLACA DENTRO DE UN ALOJAMIENTO A LO LARGO DE UN CAMINO QUE PASA CONSECUTIVAMENTE A TRAVES DE LAS SIGUIENTES ESTACIONES DE PROCESO : (A) UNA SECCION DE ELIMINACION DONDE AREAS INEXPUESTAS DE LA PLACA SE ELIMINAN; (B) UNA SECCION DE ACLARADO; (C) UNA SECCION DE ELIMINACION DE EXCESO DE AGUA; (D) UNA SECCION DE TERMINACION LUMINOSA DONDE LA PLACA ES EXPUESTA SIMULTANEAMENTE A LUZ QUE TIENE UNA LONGITUD DE ONDA DE 300-400 MM PARA EFECTUAR TRATAMIENTO POST-EXPOSICION Y A LUZ QUE TIENE UNA LONGITUD DE ONDA DE 200-300 MM PARA REDUCIR LA ADHESIVIDAD DE LA SUPERFICIE DE LA PLACA; Y FINALMENTE (E) UNA…
PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE CUERPOS MICROESTRUCTURADOS.
(16/03/1998). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: REINECKE, HOLGER, HOFFMANN, GERHARD, HOESSEL, PETER, DR., LANGEN, JUERGEN, DR.
LA INVENCION CONCIERNE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE CUERPOS MICROESTRUCTURADOS, CON PROFUNDIDADES DE ESTRUCTURA DE VARIOS (MU)M HASTA EN EL MARGEN MM, POR MEDIO DE RADIACIONES DE LOS POLIMEROS CON RAYOS X, EN EL QUE SON APLICADOS COMO POLIMEROS, POLIESTERES ALIFATICOS.
COMPENSACION DE EFECTOS DE PROXIMIDAD EN AGUA-FUERTES Y LITOGRAFIAS.
(16/02/1998). Solicitante/s: AT&T CORP.. Inventor/es: EISENBERG, JULI HONG, FRITZINGER, LARRY BRUCE, FU, CHONG-CHENG, KOOK, TAEHO, WOLF, THOMAS MICHAEL.
EN LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS INTEGRADOS, SE EFECTUAN CARACTERISTICAS CON DISEÑO EN UN SUSTRATO GRABANDO AL AGUAFUERTE UNA CAPA DEPOSITADA. EL MODELO COMPRENDE CARACTERISTICAS QUE ESTAN SEPARADAS LIGERAMENTE Y OTRAS MAS AISLADAS. GRABAR AL AGUAFUERTE ESTA EN CONFORMIDAD APROXIMADA CON UN MODELO PROTECTOR DEFINIDO LITOGRAFICAMENTE QUE A SU VEZ ESTA EN APROXIMADA CONFORMIDAD CON UN MODELO DESEADO. SE ELIGE UN PARAMETRO DE PROCESO, TAL COMO EL GROSOR DE LA CAPA PROTECTORA PARA QUE EL MODELO GRABADO QUE SE OBTIENE SE APROXIMA MAS AL PATRON DESEADO QUE A UN MODELO PROTECTOR DEFINIDO LITOGRAFICAMENTE.
METODO PARA FABRICAR UN ESPEJO HOLOGRAFICO.
(01/12/1997). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN VITRAGE VEGLA VEREINIGTE GLASWERKE GMBH VOLKSWAGEN AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: WINDELN, WILBERT, BEECK, MANFRED-ANDREAS, BARTONITSCHECK, NORBERT.
UN ESPEJO HOLOGRAFICO SE CONFECCIONA SEGUN UN METODO DE ESPOSICION CONTINUA. PARA ELLO, LA CAPA FOTOSENSIBLE SE EXPONE BANDA A BANDA EN EL SENTIDO TRANSVERSAL A UN HAZ DE RAYOS LASER BAJO UN ANGULO DE INCIDENCIA (ALFA) PREDEFINIDO. LA PELICULA , QUE LLEVA LA CAPA FOTOSENSIBLE , SE DESPLAZA CONTINUAMENTE EN SENTIDO LONGITUDINAL (F) A UNA VELOCIDAD QUE ASEGURA LA EXPOSICION SUFICIENTE DE LA CAPA. EL METODO PERMITE LA CONFECCION DE HOLOGRAMAS SIN IMPORTAR QUE EXTENSION A LO LARGO EN UNA DIRECCION.
PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR MOLDES DE IMPRESION A TRAVES DE RADIACIONES CONTENIENDO IMAGENES SOBRE MATERIALES DE REGISTRO FOTOPOLIMERIZABLES.
(01/11/1997). Solicitante/s: AGFA-GEVAERT AG. Inventor/es: MATTHIESSEN, PETER, MOHR, DIETER, ZERTANI, RUDOLF, DR.
LA INVENCION: TRATA DE UN PROCEDIMIENTO; QUE SE EMPLEA PARA PRODUCIR MOLDES DE IMPRESION O FOTORESISTENTES A TRAVES DE RADIACIONES CONTENIENDO IMAGENES SOBRE MATERIALES DE REGISTRO FOTOPOLIMERIZABLES; PERMITE UNA PERMITE UNA RADIACION DE IMAGENES EN CORTO TIEMPO; ES APROPIADO PARA LA EXPOSICION LASER O DE PROYECCION DE LAS PLACAS DE IMPRESION Y CONSISTE EN, CALENTAR EL MATERIAL DURANTE POCO TIEMPO CON RESPECTO A LAS RADIACIONES CONTENIENDO IMAGENES, EXPONER EL MATERIAL DURANTE UN CORTO TIEMPO Y SIN MOVIMIENTO, ANTES, SIMULTANEAMENTE O DESPUES DE SER IRRADIADO A LUZ VISIBLE CON UNA LONGITUD DE ONDA DE 400 NM Y REVELAR EL MATERIAL Y SE CARACTERIZA PORQUE LA CAPA FOTOPOLIMERIZABLE CONTIENE UN LIGANTE POLIMERICO, UN COMPUESTO INSATURADO ETILENICAMENTE Y POLIMERIZABLE RADICALMENTE QUE TIENE DOBLE ENLACE ETILENICO Y UN COMPUESTO COMPLEJO METALICO COMO FOTOINICIADOR.
DISPOSITIVO PARA LA ELABORACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ.
(16/07/1997) LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA LA ELABORACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ, QUE MUESTRA UNA FUENTE DE LUZ PARA LA EMISION AL EXTERIOR DE UN HAZ DE LUZ, CUYO FOCO SE ENCUENTRA EN LA ZONA DE UNA CAPA SENSIBLE A LA LUZ PRESENTE SOBRE UN TAMIZ DE PLANTILLA. SE DISPONE ADEMAS DE UN EQUIPO PARA LA GENERACION DE UN MOVIMIENTO RELATIVO ENTRE EL HAZ DE LUZ Y EL TAMIZ DE PLANTILLA, DONDE EL HAZ DE LUZ APARECE EN CONCORDANCIA CON UNA MUESTRA DE PLANTILLA DESEADA SOBRE LA CAPA SENSIBLE A LA LUZ. EL HAZ DE LUZ ESTA POLARIZADO AL MENOS EN UN TRAMO LINEAL, DONDE EN ESTE TRAMO SE DISPONE DE UN MODULADOR ELECTROOPTICO PARA EL GIRO DEL PLANO DE OSCILACION DEL HAZ DE LUZ. EN LA VIA DE LUZ DETRAS DEL MODULADOR ELECTROOPTICO SE ENCUENTRA UN ANALIZADOR . EL MODULADOR ELECTROOPTICO GIRA EL PLANO DE OSCILACION DEL HAZ DE LUZ EN…