PREPARACION DE PLACAS PARA IMPRIMIR ELASTOMEROS FOTOPOLIMERIZADOS.

LA INVENCION PROVEE UN METODO PARA PROCESAR UNA PLACA DE IMPRESION ELASTOMERA PRE EXPUESTA FOTOPOLIMERIZADA,

QUE COMPRENDE ALIMENTAR LA PLACA DENTRO DE UN ALOJAMIENTO A LO LARGO DE UN CAMINO QUE PASA CONSECUTIVAMENTE A TRAVES DE LAS SIGUIENTES ESTACIONES DE PROCESO : (A) UNA SECCION DE ELIMINACION DONDE AREAS INEXPUESTAS DE LA PLACA SE ELIMINAN; (B) UNA SECCION DE ACLARADO; (C) UNA SECCION DE ELIMINACION DE EXCESO DE AGUA; (D) UNA SECCION DE TERMINACION LUMINOSA DONDE LA PLACA ES EXPUESTA SIMULTANEAMENTE A LUZ QUE TIENE UNA LONGITUD DE ONDA DE 300-400 MM PARA EFECTUAR TRATAMIENTO POST-EXPOSICION Y A LUZ QUE TIENE UNA LONGITUD DE ONDA DE 200-300 MM PARA REDUCIR LA ADHESIVIDAD DE LA SUPERFICIE DE LA PLACA; Y FINALMENTE (E) UNA SECCION DE SECADO. EL METODO DE ESTA INVENCION PRODUCE PLACAS IMPRESAS TRATADAS DE CARACTERISTICAS FISICAS ENORMEMENTE MEJORADAS Y PARA SER OBTENIDOS OPTIMOS RESULTADOS, EL METODO PRODUCE LOS MEJORES RESULTADOS CUANDO LA PLACA DE IMPRESION ES UNA QUE TIENE UNA CUBIERTA FOTOPOLIMERA, LA CUAL TIENE UNA PROPORCION DE ONDULACION MAXIMA DE 10%, O MENOS CUANDO SE SUMERGE EN DISOLUCION DE ACABADO DURANTE UN PERIODO DE 24 HORAS BAJO TEMPERATURA DE TERMINACION. LA INVENCION TAMBIEN PROVEE APARATO PARA REALIZAR ESTE METODO DE PROCESAMIENTO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: DANTEX GRAPHICS LTD.

Nacionalidad solicitante: Reino Unido.

Dirección: DANON HOUSE, 5 KINGS ROAD,BRADFORD BD2 1EY.

Inventor/es: DANON, RICHARD 2 WIGTON CHASE.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 5 de Junio de 1992.

Fecha Concesión Europea: 18 de Marzo de 1998.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/20 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
  • G03F7/30 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen utilizando medios líquidos.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Oficina Europea de Patentes, Japón, Estados Unidos de América.

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