DISPOSITIVO PARA LA ELABORACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ.

LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA LA ELABORACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ,

QUE MUESTRA UNA FUENTE (1) DE LUZ PARA LA EMISION AL EXTERIOR DE UN HAZ (3) DE LUZ, CUYO FOCO SE ENCUENTRA EN LA ZONA DE UNA CAPA SENSIBLE A LA LUZ PRESENTE SOBRE UN TAMIZ (19) DE PLANTILLA. SE DISPONE ADEMAS DE UN EQUIPO PARA LA GENERACION DE UN MOVIMIENTO RELATIVO ENTRE EL HAZ (3) DE LUZ Y EL TAMIZ (19) DE PLANTILLA, DONDE EL HAZ (3) DE LUZ APARECE EN CONCORDANCIA CON UNA MUESTRA DE PLANTILLA DESEADA SOBRE LA CAPA SENSIBLE A LA LUZ. EL HAZ (3) DE LUZ ESTA POLARIZADO AL MENOS EN UN TRAMO LINEAL, DONDE EN ESTE TRAMO SE DISPONE DE UN MODULADOR (8) ELECTROOPTICO PARA EL GIRO DEL PLANO DE OSCILACION DEL HAZ (3) DE LUZ. EN LA VIA DE LUZ DETRAS DEL MODULADOR (8) ELECTROOPTICO SE ENCUENTRA UN ANALIZADOR (9). EL MODULADOR (8) ELECTROOPTICO GIRA EL PLANO DE OSCILACION DEL HAZ (3) DE LUZ EN CONCORDANCIA CON LOS DATOS DE MUESTRA DE PLANTILLA RECIBIDOS. A TRAVES DEL DISPOSITIVO CONOCIDO SE CONSIGUE, QUE EL HAZ (3) DE LUZ PUEDA SER CONECTADO Y DESCONECTADO DE FORMA RAPIDA, DE MODO QUE SE GUIA ADEMAS FUERA DE LOS CANTOS AGUDOS DE LA ESTRUCTURA DE MUESTRA.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: SCHABLONENTECHNIK KUFSTEIN AKTIENGESELLSCHAFT.

Nacionalidad solicitante: Austria.

Dirección: POSTFACH 26,A-6330 KUFSTEIN.

Inventor/es: HORFARTER, SIEGFRIED ING.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 2 de Abril de 1997.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B41C1/14 SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS.B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › B41C 1/00 Preparación de la forma o del cliché. › para la impresión en esténcil o en pantalla de seda (B41C 1/055 tiene prioridad).
  • G03F7/20 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
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