(15/01/2020) Un revestimiento duro que recubre la superficie de un substrato , de manera que dicho revestimiento duro tiene un espesor total de 0,5-20 μm y comprende una capa A y una capa nanométrica interpuesta laminadas alternadamente por deposición física de vapor, donde dicha capa nanométrica interpuesta incluye una capa B y una capa C laminadas alternadamente; dicha capa A tiene un espesor de 50-1000 nm y es de un nitruro de AlCr(SiC) cuya composición corresponde a la fórmula [Al1-W-XCrW(SiC)X]N, donde la proporción atómica W es de 0,20-0,80 y la proporción atómica X es de 0,01-0,20, y opcionalmente contiene un aditivo α, que es al menos un elemento seleccionado de un grupo integrado por V, Y, Zr, Nb, Mo, Ta y W,…

(15/01/2020) Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento de una atmósfera de gas, que presenta una entrada y una salida para un gas de proceso, así como un ánodo y un cátodo de evaporación cilíndrico realizado como diana , comprendiendo dicho cátodo de evaporación cilíndrico el material diana , estando prevista además una fuente de energía eléctrica para generar una tensión eléctrica entre el ánodo y el cátodo , de manera que por medio de la fuente de energía eléctrica el material diana del cátodo cilíndrico se puede convertir a una fase de vapor, y estando prevista una fuente de campo magnético que genera un campo magnético, estando previstos en la cámara de proceso al mismo tiempo un…

(08/01/2020) Un recubrimiento duro que cubre una superficie de un sustrato, en donde dicho recubrimiento duro tiene un grosor total de 0,5-20 μm e incluye una capa A y una capa con alternancia de nanocapa que se laminan alternativamente por deposición física de vapor, en donde dicha capa con alternancia de nanocapa incluye una capa B y una capa C que se laminan alternativamente, dicha capa A tiene un grosor de 50-1000 nm y es nitruro de AlCr que está representado por una fórmula de composición de [Al1-UCrU]N, en donde una relación U atómica es 0,20-0,80 y que opcionalmente contiene un aditivo α que es al menos un tipo de elemento seleccionado de un grupo que consiste en Si, V, Y, Zr, Nb, Mo, Ta y W, de modo que la relación de contenido de dicho…

(18/12/2019) Una fuente de evaporación por arco, incluyendo: un blanco a fundir y evaporar de una superficie de extremo delantero (3a) del blanco por descarga de arco; y al menos un imán dispuesto en una posición separada de una superficie lateral (3b) del blanco radialmente con respecto al blanco , siendo la superficie lateral (3b) continua con una periferia de la superficie de extremo delantero (3a) del blanco , caracterizada porque el imán está dispuesto con el fin de formar un campo magnético que satisfaga las condiciones a) y b) siguientes, en la superficie lateral (3b) del blanco , en una zona…

(16/10/2019) Una herramienta de corte de metal que comprende un cuerpo principal hecho de carburo cementado, cermet, cerámica, acero o acero de alta velocidad, y un revestimiento multicapa de protección contra el desgaste, en el que el revestimiento de protección contra el desgaste comprende: - una capa inferior (CI) que tiene la composición general TimAl(1-m)N con 0,25 <m <0,55 y un espesor total de la capa inferior (CI) de 500 nm a 3 μm, en donde la capa inferior (CI) consta de 50 a 600 pares de subcapas (A) y (B) apiladas alternativamente con la secuencia (ABAB -...), teniendo las subcapas (A) la composición TiaAl(1-a)N con 0,45 ≤ a ≤ 0,55 y un espesor de 1 nm a 10 nm, en donde la primera subcapa en la pila de capas de las subcapas (A) y (B) tiene un espesor de capa de 5 nm a 50 nm, teniendo las…

(11/09/2019) Método de fabricación de un cuerpo recubierto que tiene al menos una superficie recubierta con un recubrimiento que comprende una estructura nanolaminada de nanocapas A alternas de (AlxTi1-x-yWy)N, con 0.50 ≤ x ≤ 0.65 y 0 5 ≤ y ≤ 0.10, donde los coeficientes dados por x, 1-x-y e y corresponden a la concentración atómica de aluminio, titanio y tungsteno, respectivamente, considerando solo los elementos aluminio, titanio y tungsteno para la cuantificación del elemento en las nanocapas A, y las nanocapas B de (Ti1-z-uSizWu)N, con 0.05 ≤ z ≤ 0.30 y 0 ≤ o ≤ 0.10, donde los coeficientes dados por 1-z-u y u corresponden a la concentración atómica de titanio, silicio y tungsteno, respectivamente, considerando solo los elementos titanio, silicio y tungsteno para la cuantificación del elemento en las nanocapas B, la estructura nanolaminada…

(26/06/2019) Un método para filtrar macropartículas en una deposición física de vapor por arco catódico (PVD) en vacío, comprendiendo dicho método la etapa de evaporar un material de una fuente sólida por medio de una aplicación del arco sobre la fuente, formar un plasma que comprende electrones, micropartículas (vapor) e iones de material evaporado, junto con macropartículas de mayor tamaño que las micropartículas y los iones, - la deposición física de vapor por arco catódico (PVD) es pulsada; - siendo dicho material carbono; caracterizado por que el arco se mueve sobre la fuente a una velocidad Vcs (velocidad superficial) a la que los electrones, las micropartículas y los iones del material evaporado en un punto P2 impulsan,…

(17/05/2019) Herramienta de corte con un sustrato de metal duro, cermet, acero o acero de corte rápido (HSS) y un revestimiento de varias capas precipitado sobre éste en el procedimiento PVD, que comprende la siguiente secuencia de capas partiendo del sustrato: a) una capa básica constituida por una o varias capas iguales o diferentes superpuestas de un nitruro o carbonitruro, que contiene al menos aluminio (Al) y opcionalmente uno o varios metales ulteriores, seleccionados entre Ti, Cr, Si, Y, Ru y Mo, b) una capa intermedia de óxido de aluminio cúbico dispuesta directamente sobre la capa básica, c) una capa funcional que contiene cromo dispuesta sobre la capa intermedia con estructura romboédrica, seleccionada entre óxido de cromo (Cr2O3), oxinitruro de cromo, óxido de…

(28/02/2019) Sistema de recubrimiento depositado sobre una superficie de un sustrato que comprende al menos una película de varias capas formada de nanocapas A y B alternadas depositadas una sobre otra, en el que las nanocapas A contienen nitruro de boro aluminio y cromo y las nanocapas B contienen nitruro de aluminio y cromo, pero no contienen boro, caracterizado porque las nanocapas A tienen una región con el mayor contenido de boro y una región con un menor contenido de boro, en el que la región que tiene menor contenido de boro es la región adyacente a las nanocapas B, en la que la suma del espesor de una nanocapa A y el espesor de una nanocapa B depositadas una sobre otra en la película de varias capas…

(28/02/2018) Una herramienta recubierta que comprende un sustrato y una capa de recubrimiento dispuesta en una superficie del sustrato, la capa de recubrimiento que incluye una primera estructura de pila y una segunda estructura de pila, la primera estructura de pila que tiene una estructura en la que dos o más tipos de capas con diferentes composiciones se apilan periódicamente en donde el espesor medio de capa de cada una de las capas es de 60 nm a 500 nm, la segunda estructura de pila que tiene una estructura en la que dos o más tipos de capas con diferentes composiciones se apilan periódicamente en donde el espesor medio de capa de cada una de las capas es de 2 nm a menos de 60 nm, las capas que constituyen la primera estructura de pila y las capas que constituyen la segunda estructura de pila que incluyen al menos una seleccionada del…

(17/01/2018) Dispositivo de evaporación por arco que comprende - un cátodo que contiene una superficie con aquel material, que va a evaporarse - medios magnéticos que llevan a un campo magnético a lo largo de la superficie del cátodo - un ánodo para la absorción de los electrones, que se extraen del cátodo durante el proceso de evaporación - una fuente de tensión, que permite colocar en potencial positivo al menos durante cierto tiempo el ánodo frente al cátodo caracterizado por que el ánodo está dispuesto en la proximidad inmediata del cátodo y en combinación con el campo magnético generado por los medios magnéticos de tal manera que las líneas del campo magnético…

(14/01/2015) Procedimiento para hacer funcionar una fuente de arcos eléctricos, realizándose que una descarga eléctrica de chispas se enciende o respectivamente se hace funcionar dentro de una atmósfera que comprende un gas reactivo, sobre una superficie de una diana , siendo alimentada la descarga de chispas al mismo tiempo con una corriente continua así como también con una corriente pulsante o respectivamente alterna, caracterizado porque la superficie de la diana es cubierta por lo menos parcialmente mediante un recubrimiento aislante que se forma a partir de una reacción entre el gas reactivo y el material de la diana, realizándose que mediante el recubrimiento aislante se da lugar a un aumento de la proporción de CC de la tensión eléctrica de la fuente, de por lo menos un 10 %, de manera preferida de por lo menos un 20 %, en comparación…

(17/12/2014) Método para depositar un recubrimiento de TiAlN sobre un sustrato de herramienta de corte usando un proceso de deposición por arco catódico y en particular un proceso de deposición por arco catódico de alta intensidad, comprendiendo dicho método los pasos de: - prever un sistema anódico y un blanco con forma de placa que formen una configuración de ánodo-cátodo para deposición por arco catódico dentro de una cámara de vacío, en donde dicho blanco con forma de placa comprende Ti y Al como elementos principales; - prever al menos un sustrato de herramienta de corte en la cámara de vacío que comprende nitrógeno como gas reactivo; y - generar un plasma mediante una descarga de arco visible como al menos un punto de arco en la superficie del blanco con forma de placa a base de…

(22/10/2014) Procedimiento para la obtención de capas aislantes sobre al menos una herramienta por medio de un recubrimiento en vacío, en el que se establece una descarga eléctrica de arco entre al menos un ánodo y un cátodo de una fuente de arco en una atmósfera, que contenga un gas reactivo, y generando en la superficie de un blanco conectado eléctricamente con el cátodo un campo magnético exterior, que comprende una componente Bz perpendicular a la superficie del blanco y una componente Br radial o paralela al la superficie menor que aquella, para la asistencia del proceso de vaporización, por el hecho de que un sistema magnético formado por…

(07/05/2014) Procedimiento para la producción de capas, en particular capas estables a altas temperaturas, por medio de vaporización por arco comprendiendo óxidos ternarios y/o mayores de componentes metálicos o semimetálicos, caracterizado porque una síntesis selectiva de estructuras cristalinas deseadas de la capa se consigue determinando la temperatura de formación necesaria para la síntesis de la estructura cristalina deseada y en base al diagrama de fases determina la selección de la composición de los blancos de aleación binarios (o mayores) de tal manera que el diagrama de fases de los componentes presente en la composición seleccionada la transición de…

(06/11/2013) Procedimiento para el funcionamiento de una fuente de arco, cebando, respectivamente haciendo funcionar unadescarga eléctrica de chispa sobre la superficie de un blanco y alimentando al mismo tiempo la descarga de chispacon una corriente continua a la que se asigna una tensión (DV) continua así como con una corriente pulsatoria aplicadaperiódicamente, caracterizado porque se genera una señal de tensión pulsada con una tensión (PV) del impulso ycon una longitud (Tp) del impulso de varios microsegundos.

(14/08/2013) Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método que consiste en: producir un sustrato de vidrio; utilizar pirólisis de llama para depositar al menos una capa sobre el sustrato de vidrio;y formar una capa antigrabado encima del sustrato de vidrio sobre la capa depositadapor pirólisis de llama, en la que la pirólisis de llama se utiliza para depositar una capaque comprende óxido de silicio sobre el sustrato de vidrio, y en la que la pirólisis dellama utiliza gas TEOS que se introduce al menos en un quemador para depositar lacapa que comprende óxido de silicio y donde el artículo recubierto es una ventana, enla que la capa antigrabado comprende oxicarburo de circonio.

(10/07/2013) Un troquel de corte que comprende un par de sustratos, que se usa para cortar un material de placa o de chapa dispuesto entre los mismos mediante el par de sustratos, donde por lo menos uno de los sustratos se compone de un acero, un carburo cementado o una cerámica, y dicho por lo menos uno de los sustratos comprende un borde de cuchilla que tiene forma de superficie curvada para cortar el material de placa o de chapa y una superficie que continúa a partir de la superficie curvada y que está orientada hacia una superficie del material de placa o de chapa, una película dura que se forma mediante un método de deposición…

(21/06/2013) Un procedimiento para recubrir artículos cerámicos vitrificados con materiales a base de metales por la técnica dedeposición física en fase vapor (PVD), en el que después de situar en el ánodo los artículos cerámicos a recubrir,mientras que los materiales a base de metales son situados en el cátodo, en la cámara de vacío, el procedimientorespectivamente comprende las etapas de: evacuar el aire en la cámara de vacío en las fases primera y segunda; limpiar la superficie catódica por el plasma depositado en la cámara de vacío en la tercera fase; someter lasuperficie cerámica a un procedimiento de ataque químico por iones en las fases cuarta y quinta; recubrir de manerano reactiva la superficie cerámica mediante el plasma en la sexta fase; recubrir de manera reactiva la superficiecerámica mediante…

(18/04/2013) Un aparato de recubrimiento iónico por arco, que comprende: una cámara de vacío ; un miembro móvil para mover un sustrato cargado dentro de dicha cámara de vacío , estando dichomiembro móvil provisto dentro de dicha cámara de vacío ; una fuente de evaporación por arco para bombardeo (9A) para irradiar iones metálicos evaporados mediantedescarga en arco con la superficie de dicho sustrato para limpiar la superficie, estando dicha fuente deevaporación por arco para bombardeo (9A) provista dentro de dicha cámara de vacío ; una pluralidad de fuentes de evaporación por arco para deposición (7A) para depositar iones metálicosevaporados mediante descarga…

(01/08/2012) Herramienta de fresado por generación con un revestimiento, fabricándose el revestimiento mediante un procedimiento de deposición en fase gaseosa por proceso físico, en el que, en una cámara derevestimiento, se genera, en una atmósfera con contenido en nitrógeno, una descarga de arco voltaico en cada casoentre al menos un ánodo, por una parte, y al menos un cátodo de aluminio puro así como al menos un cátodo decromo puro, por otra parte, y, de este modo, se vaporizan el aluminio y el cromo procedente de los cátodos; en elque la herramienta de fresado por generación que ha de revestirse gira en la cámara de revestimiento,conduciéndose sucesivamente por delante de los al menos dos cátodos; y en el que el aluminio…

(16/05/2012) Instalación de procesamiento en vacío con una cámara de vacío para el tratamiento de la superficie de piezas con una fuente de vaporización con arco, que comprende un ánodo y un primer electrodo (5') configurado comoelectrodo de target, estando conectados este ánodo y este electrodo (5') con una fuente de alimentación concorriente continua y con un segundo electrodo dispuesto separado de la fuente de vaporización conarco y de la cámara de vacío, caracterizada porque los dos electrodos (5', 3, 18, 20, 22) están conectados con unafuente bipolar de corriente pulsada para la formación de una vía de descarga adicional.

(21/10/2010) Un aparato para revestir un substrato usando deposición física de vapor, que comprende una cámara de vacío en la que se coloca una bobina para mantener una cantidad de material conductor en levitación y para calentar y evaporar ese material, usando una corriente eléctrica variable en la bobina , en el que se colocan medios en la bobina para aislar la bobina del material levitado, y en el que los medios de aislamiento son parte de un recipiente hecho de material no conductor, teniendo el recipiente por lo menos una abertura para guiar el material conductor evaporado hacia el substrato que se va a revestir, caracterizado porque el recipiente ha…