Recubrimiento de nanocapas para herramientas de alto rendimiento.

Método de fabricación de un cuerpo recubierto que tiene al menos una superficie recubierta con un recubrimiento que comprende una estructura (5) nanolaminada de nanocapas A alternas de (AlxTi1-x-yWy)N,

con 0.50 ≤ x ≤ 0.65 y 0 5 ≤ y ≤ 0.10, donde los coeficientes dados por x, 1-x-y e y corresponden a la concentración atómica de aluminio, titanio y tungsteno, respectivamente, considerando solo los elementos aluminio, titanio y tungsteno para la cuantificación del elemento en las nanocapas A, y las nanocapas B de (Ti1-z-uSizWu)N, con 0.05 ≤ z ≤ 0.30 y 0 ≤ o ≤ 0.10, donde los coeficientes dados por 1-z-u y u corresponden a la concentración atómica de titanio, silicio y tungsteno, respectivamente, considerando solo los elementos titanio, silicio y tungsteno para la cuantificación del elemento en las nanocapas B, la estructura (5) nanolaminada que tiene un espesor entre 0.01 y 30 mm y las nanocapas A y B que tienen un espesor promedio individual entre 1 y 200 nm, en el que al menos una fuente de evaporización de arco que comprende una diana que consiste en material de fuente de recubrimiento se usa para la deposición de la estructura (5) nanolaminada, el método se caracteriza porque la al menos una fuente de evaporización de arco comprende una disposición de campo magnético proporcionada en el objetivo para generar campos magnéticos en y sobre la superficie del objetivo, en el que la disposición del campo magnético comprende imanes permanentes marginales, un imán permanente céntrico y al menos una bobina de anillo colocada detrás del objetivo, cuyo diámetro interno definido por los devanados es menor o igual que, y en cualquier caso no considerablemente más grande que el diámetro del objetivo, y durante la deposición de la estructura nanolaminada, los imanes marginales permanentes se colocan lejos del objetivo, a una distancia de varios milímetros en relación con el objetivo, de tal manera que la proyección de los imanes permanentes marginales en la superficie del objetivo está más lejos del centro de la superficie del objetivo por comparación a la proyección de la bobina de anillo sobre la superficie del objetivo, y el imán permanente céntrico se coloca hacia atrás en relación con el objetivo,

en el que

- la estructura nanolaminada no muestra una estructura columnar pero muestra una estructura de grano fino caracterizada por comprender granos finos cuyo límite de grano no se extiende al sustrato a través del espesor del recubrimiento,

- los granos finos tienen aproximadamente las mismas dimensiones en todas las direcciones,

- la estructura nanolaminada muestra una proporción del ancho de pico PWI_10/90 que es menor que 7.5, preferiblemente menor que 7, donde

-**Fórmula**

- PWI_10% y PWI_90% son el ancho completo del pico 200 al 10% y 90% de la intensidad máxima del pico, respectivamente,

y

- el pico 200 se mide usando difracción de rayos X con radiación CuKα a aproximadamente 43° en el eje 2θ , y la línea de difracción se corrige con respecto a la contribución de la radiación CuKα2, las estadísticas de difracción (suavizado) y el fondo.