Método para filtrar macropartículas en una deposición física de vapor por arco catódico (PVD), en vacío.
Un método para filtrar macropartículas en una deposición física de vapor por arco catódico (PVD) en vacío,
comprendiendo dicho método la etapa de evaporar un material de una fuente sólida (1) por medio de una aplicación del arco sobre la fuente, formar un plasma que comprende electrones, micropartículas (vapor) e iones de material evaporado, junto con macropartículas de mayor tamaño que las micropartículas y los iones,
- la deposición física de vapor por arco catódico (PVD) es pulsada;
- siendo dicho material carbono;
caracterizado por que
el arco se mueve sobre la fuente a una velocidad Vcs (velocidad superficial) a la que los electrones, las micropartículas y los iones del material evaporado en un punto P2 impulsan, de una trayectoria hacia un sustrato (2) a revestir frente a la fuente, las macropartículas formadas en un punto P1 que han pasado previamente por el arco, a fin de auto-limpiar el plasma de las macropartículas y permitir la condensación de solo el plasma limpio sobre el sustrato, y en el que
- el arco tiene un pulso con una corriente mayor que 300 A y concentra el haz de plasma en ausencia del sistema magnético, en el que las macropartículas, debido a su mayor tamaño, tienen un movimiento retrasado con respecto a los electrones, las micropartículas y los iones del plasma, y adquieren una carga positiva fuera del plasma, y en el que
- el arco es pulsado con pulsos de una duración predeterminada (T) y
- un campo electrostático (E) se aplica entre la fuente (1) y el sustrato (2) para mover las macropartículas lejos del substrato durante los intervalos (I) de aplicación de dichos impulsos (T) del arco pulsado, en el que el campo electrostático (E) es generado por un par de electrodos con una diferencia de potencial U mayor que o igual a
U> = (mV2)/2e,
donde m es la masa de una macropartícula, V es su velocidad hacia el sustrato y e es su carga eléctrica, y en el que un electrodo de dicho par de electrodos con un mismo potencial que las macropartículas está asociado con el sustrato (2).
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/IB2014/061393.
Solicitante: Argor Aljba SA.
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: Via Moree 14 6850 Mendrisio SUIZA.
Inventor/es: UKHANOV,SERGEY.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- C23C14/32 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento. › por explosión; por evaporación seguida de una ionización de vapores (C23C 14/34 - C23C 14/48 tienen prioridad).
- C23C14/54 C23C 14/00 […] › Control o regulación de los procesos de revestimiento.
- H01J37/32 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
- H01J37/34 H01J 37/00 […] › que funcionan por pulverización catódica (H01J 37/36 tiene prioridad).
PDF original: ES-2717934_T3.pdf
Patentes similares o relacionadas:
Dispositivo de ablación por chispas y procedimiento de generación de nanopartículas, del 17 de Junio de 2020, de VSParticle Holding B.V: Un dispositivo de ablación por chispas de generación de nanopartículas provisto de una entrada/salida para el gas y que comprende un generador de chispas […]
Dispositivo de recubrimiento por plasma post-descarga para sustratos con forma de alambre, del 29 de Abril de 2020, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Dispositivo de recubrimiento de plasma post-descarga para un sustrato con forma de alambre , que comprende: - un electrodo tubular interno sobre una pared tubular […]
Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato, del 26 de Febrero de 2020, de VAPOR TECHNOLOGIES, INC: Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato […]
Proceso de plasma y reactor para el tratamiento termoquímico de la superficie de piezas metálicas, del 19 de Febrero de 2020, de Universidade Federal De Santa Catarina (UFSC): Proceso para el tratamiento superficial termoquímico de piezas metálicas, en un reactor (R) de plasma que tiene una cámara de reacción (RC) […]
Fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma y un procedimiento de fabricación de un artículo por el uso de la fuente de plasma, del 19 de Febrero de 2020, de AGC Inc: Una fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma, que comprende: un grupo de electrodos que incluye cuatro electrodos, que son un primer electrodo […]
Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 15 de Enero de 2020, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento […]
Fuente de evaporación por arco, del 18 de Diciembre de 2019, de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.): Una fuente de evaporación por arco, incluyendo: un blanco a fundir y evaporar de una superficie de extremo delantero (3a) del blanco […]
Método para el revestimiento de un sustrato con una capa de polímero, del 11 de Diciembre de 2019, de EUROPLASMA NV: Un método para revestir un sustrato con una capa de polímero, donde dicho método comprende la localización de un primer juego de electrodos (14, […]