CIP-2021 : G03F 7/038 : Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad;
azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/038 · · Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Resina que contiene carboxilo, composición de resina para máscara de soldadura y procedimiento de preparación de resina que contiene carboxilo.
(08/07/2020). Solicitante/s: GOO CHEMICAL CO., LTD.. Inventor/es: SAKAI,YOSHIO, HIGUCHI,MICHIYA, SUZUKI,FUMITO, MARUSAWA,HISASHI.
Una resina que contiene carboxilo, que comprende
una estructura resultante de la adición de un ácido monocarboxílico a uno o más de los grupos epoxi y de la adición de un ácido polibásico a uno o más de los otros grupos epoxi de una resina epoxi de bifenil novolac.
PDF original: ES-2813941_T3.pdf
Composición resistente a soldadura líquida y placa de circuito impreso.
(08/04/2020) Una composición resistente a soldadura líquida que comprende:
una resina que contiene grupo un carboxilo (A);
un componente termoendurecible (B);
un componente fotopolimerizable (C); y
un iniciador de fotopolimerización (D),
conteniendo el componente termoendurecible (B) un compuesto epoxi (B1),
conteniendo el compuesto epoxi (B1) un compuesto epoxi en polvo (B11) representado por la siguiente fórmula y un compuesto epoxi (B12) distinto del compuesto epoxi (B11),
**(Ver fórmula)**
siendo R1, R2, R3 y R4 en la fórmula independientemente un grupo metilo, un átomo de hidrógeno o un grupo t-butilo,
teniendo el compuesto epoxi (B11) un punto de fusión dentro de un intervalo de 138 a 145 °C,
estando una cantidad del compuesto epoxi (B11) con respecto a una cantidad total de la resina que contiene un…
Composición resistente de soldadura y placa de circuito impreso cubierta.
(27/11/2019). Solicitante/s: GOO CHEMICAL CO., LTD.. Inventor/es: SAKAI,YOSHIO, HIGUCHI,MICHIYA.
Una composición resistente de soldadura que comprende:
(A) una resina que contiene un grupo carboxilo;
(B) un compuesto epoxídico;
(C) dióxido de titanio;
(D) un iniciador de fotopolimerización; y
(E) un antioxidante,
el componente (B) contiene un compuesto epoxídico de hidroquinona representado por la siguiente fórmula :
**(Ver fórmula)**
el componente (D) contiene (D1) un iniciador de fotopolimerización a base de óxido de bisacilfosfina y (D2) un iniciador de fotopolimerización a base de α-hidroxialquilfenona,
R1, R2, R3 y R4 en la fórmula son independientemente un grupo metilo, un átomo de hidrógeno o un grupo t-butilo; y
un punto de fusión del componente (E) está dentro de un intervalo de 50 a 150 °C.
PDF original: ES-2770707_T3.pdf
Composición de resina para máscaras.
(20/03/2019). Solicitante/s: GOO CHEMICAL CO., LTD.. Inventor/es: SAKAI,YOSHIO, HIGUCHI,MICHIYA, SUZUKI,FUMITO, MARUSAWA,HISASHI.
Una composición de resina para máscaras, que comprende:
una primera resina que se puede obtener mediante una reacción de adición de un anhídrido de ácido polibásico con un aducto de un compuesto etilénicamente insaturado que tiene un grupo carboxilo y una resina epoxi bifuncional; y
una segunda resina que tiene un grupo que se puede obtener por una reacción de adición de un grupo epoxi con un ácido monocarboxílico y un grupo que se puede obtener por una reacción de un grupo epoxi con un ácido polibásico, en la que
el compuesto etilénicamente insaturado contiene un monoacrilato de w-carboxi-policaprolactona representado por la siguiente fórmula general :
H2C-CHCOO(C5H10COO)nH
en la que n es un número entero de 1 o más.
PDF original: ES-2730201_T3.pdf
Composición de resina para fotofabricación de objetos tridimensionales.
(05/07/2017). Solicitante/s: DSM IP ASSETS B.V.. Inventor/es: KATO, YUKITOSHI, UKACHI, TAKASHI, YAMAMURA,TETSUYA, TANABE,TOYOKAZU.
Composición de resina fotocurable para fotofabricación de objetos tridimensionales que comprende (A) 5-80 partes en peso de un compuesto de oxetano, (B) 5-80 partes en peso de un compuesto epoxi, (C) 0, 1-10 partes en peso de un generador de fotoácido, (D) 1-35 partes en peso de partículas elastómeras, (E) 0-35 partes en peso de un compuesto de poliol, (F) 0-45 partes en peso de un monómero etilénicamente insaturado, y (G) 0-10 partes en peso de un iniciador de fotopolimerización por radicales, en donde las partículas elastómeras (D) son partículas núcleo-envoltura que tienen un diámetro medio de partícula de 10-700 nm.
PDF original: ES-2288849_T5.pdf
PDF original: ES-2288849_T3.pdf
Composición de resina sensible a rayos de energía activa, película de resina sensible a rayos de energía activa y método para formar un motivo usando dicha película.
(20/01/2016) Composición de resina sensible a rayos de energía de activación que comprende:
agua,
una resina soluble en agua disuelta en el agua,
un formador de ácido, en forma de partículas sólidas, dispersas en el agua y que genera un ácido cuando se irradia con rayos de energía de activación,
un sensibilizador, en forma de partículas sólidas, dispersas en el agua para sensibilizar la generación de ácido por el formador de ácido, y
un agente de insolubilización reactivo con ácido disuelto o disperso en el agua y que puede insolubilizar dicha resina soluble en agua mediante reacción con la misma en presencia…
Composición de resina curable por radiación y procedimiento para la formación rápida de prototipos utilizando la misma.
(30/05/2013) Composición curable por radiación que comprende, con relación al peso total de la composición
A 0-29% en peso de un componente curable catiónicamente que tiene un grupo éster alifático de enlace
B 10-85% en peso de un componente que contiene grupos epoxi diferente de A
C 1-50% en peso de un componente que contiene grupos oxetano
D 1-25% en peso de un acrilato multifuncional
E un fotoiniciador de radicales libres
F un fotoiniciador catiónico
en la que la cantidad de componentes curables catiónicamente que tienen grupos éster alifáticos de enlace esmenor de 50 meq. de enlace ésteres / 100 g de composición.
Composiciones sensibles a la radiación de trabajo en negativo y materiales imprimibles.
(06/05/2013) Una composición sensible a la radiación que comprende:
un componente polimerizable por radicales libres,
una composición iniciadora de borato de yodonio capaz de generar radicales suficientes para iniciar lapolimerización del mencionado componente radicalmente polimerizable en el momento de la exposición aradiación para formación de imágenes,
un compuesto absorbente de la radiación que es un tinte IR, y
un aglutinante polimérico,
en donde la mencionada composición iniciadora de borato de yodonio comprende un compuesto de borato dediarilyodonio representado por la siguiente Estructura (I):
en donde…
Composición radiosensible.
(18/07/2012) Una composición radiosensible para aplicar sobre un sustrato para formar una capa de imagen, caracterizada porque la composición comprende (a) 30~95% en peso de una resina de novolaca, que es la resina formadora de película, (b) 4~70% en peso de un copolímero que tiene una unidad estructural de ión metálico, (c) 0, 1~45% en peso de un tinte absorbente de radiación y (d) 0, 1~15% en peso de un generador de ácido, en la que el copolímero tiene una unidad estructural de ión metálico representada por la siguiente fórmula (I) :
en la que M es un ión de metal divalente de cinc, magnesio o cobre, X es O, S, N o un grupo poli (óxido de alquileno) y n 1.
COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO ENDURECIBLES MEDIANTE ENERGÍA.
(24/01/2011) Composición de revestimiento endurecible mediante energía composición que comprende un monómero u oligómero de epóxido, un fotoiniciador catiónico y un carbonato cíclico, siempre y cuando la composición no comprenda un 57,1% de carboxilato de 3,4-epoxiciclohexilmetil-3',4'-epoxiclohexano, un 10,0% de oxetano de 3-etil-3-hidroximetilo, un 15,0% de pigmento, un 17,4% de hexafluorofosfato de 10-bifenil-4-il-2-isopropil-9-oxo-9H-tioxanten-10-io como disolución al 23% en carbonato de propileno y un 0,5% de aditivo nivelador, siempre que el carbonato de propileno sea al único carbonato cíclico presente en una cantidad de por lo menos el 12% en peso de la composición total
COMPOSICIÓN DE REVESTIMIENTO ENDURECIBLES MEDIANTE ENERGÍA.
(03/01/2011) Composición de revestimiento endurecible mediante energía que comprende un monómero u oligómero de epóxido, un oxetano multifuncional, un fotoiniciador 5 catiónico y un carbonato cíclico, encontrándose presente el carbonato cíclico en una cantidad de por lo menos el 12% en peso de la composición entera
COMPOSICION LIQUIDA CURABLE POR RADIACION, ESPECIALMENTE PARA ESTEREOLITOGRAFIA.
(14/09/2010) Una composición líquida curable por radiación que comprende:
a) 40 a 80 por ciento en peso de un componente líquido constituido por uno o más de un compuesto polifuncional que tiene al menos dos grupos capaces de reaccionar por o como resultado de un mecanismo de apertura de anillo para formar un retículo de polímero,
b) 0,1 a 10 por ciento en peso de un fotoiniciador catiónico o una mezcla de fotoiniciadores catiónicos,
c) 2 a 30 por ciento en peso de un compuesto que tiene al menos un grupo insaturado y al menos un grupo hidroxi en su molécula,
d) 0 a 40 por ciento en peso de un compuesto hidroxilado que no tiene grupo insaturado alguno,
e) 0 a 30 por ciento en peso de…
COMPOSICION DE MATERIAL COMPUESTO PARA CAPAS MICROPATRONADAS.
(20/05/2010) Una composición de material compuesto que comprende
a) al menos una resina orgánica catiónicamente polimerizable, que sea sólida a temperatura ambiente,
b) un fotoiniciador catiónico,
c) partículas inorgánicas, y
d) un hidrolizado y/o condensado de al menos un compuesto de silano hidrolizable
SALES DE SULFONIO COMO FOTOINICIADORES PARA SISTEMAS QUE SE PUEDEN CURAR POR RADIACION.
(25/11/2009). Solicitante/s: LAMBERTI SPA. Inventor/es: LI BASSI, GIUSEPPE, VISCONTI, MARCO, NORCINI, GABRIELE, CASIRAGHI,ANGELO.
Sales de sulfonio de la fórmula general (III): **(Ver fórmula)** en la que: X se selecciona entre: S, O, CH2, CO, un enlace sencillo, N-R donde R es H, o alquilo o arilo; Y1'', Y2'', Y3'' son iguales o diferentes y se seleccionan entre: H, alquilo C1-C6 lineal o ramificado, cicloalquilo, O-alquilo, hidroxilo, halógeno, S-alquilo, S-arilo, NR1R2 donde R1 y R2 son iguales o diferentes y se seleccionan entre H, alquilo lineal o ramificado, cicloalquilo o arilo; L- es un grupo de la fórmula general MQp en la que M es B, P, As o Sb; Q es F, Cl, Br, I o perfluorofenilo; p es un número entero de 4 a 6; D se selecciona entre: un alcoxilo C2-C6 lineal o ramificado o cicloalcoxilo opcionalmente sustituido con uno o más grupos seleccionados entre OH, OR, NH2, NHR, NR1R2, SH, SR, donde R, R1 y R2 pueden ser iguales o diferentes y se seleccionan entre H, alquilo lineal o ramificado, cicloalquilo o arilo.
COMPOSICION DE RESINA CURABLE MEDIANTE RADIACION PARA OBTENER OBJETOS TRIDIMENSIONALES COLOREADOS.
(01/05/2007) Procedimiento para formar un artículo tridimensional que comprende: recubrir una capa de una composición de resina curable mediante radiación sobre una superficie; exponer la capa como imagen a radiación actínica para formar una sección transversal explorada, en la que la radiación es de intensidad suficiente para producir el curado sustancial de la capa en las zonas expuestas; recubrir una capa de la composición sobre la sección transversal explorada expuesta anteriormente; exponer dicha capa fina de la etapa como imagen a radiación actínica para formar una sección transversal explorada adicional, en la que la radiación es de intensidad suficiente para producir el curado y el coloreado sustanciales de la capa fina en las zonas expuestas y para producir la adhesión de la sección…
CABEZAL DE IMPRESION POR CHORROS DE TINTA Y APARATO DE IMPRESION POR CHORROS DE TINTA CON UN COMPUESTO DE RESINA EPOXI QUE CONTIENE FLUOR.
(16/07/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI, SHIMOMURA, AKIHIKO, IMAMURA, ISAO, SATO, TAMAKI.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION DE RESINA QUE CONTIENE UNA RESINA EPOXIDICA ALIFATICA QUE TIENE TIENE UNA MOLECULA DE AL MENOS UN GRUPO PERFLUORALQUILO QUE TIENE DE 6 A 12 ATOMOS DE CARBONO Y AL MENOS DOS GRUPOS EPOXIDICOS ALICICLICOS, UN CATALIZADOR DE POLIMERIZACION CATIONICA Y, OPCIONALMENTE, UN AGENTE COMPATIBILIZADOR QUE TIENE UN GRUPO EPOXIDICO Y UN GRUPO FLUOROMETILO. DICHA COMPOSICION DE RESINA SE APLICA A UNA SUPERFICIE DE ORIFICIO DE DESCARGA DE UN CABEZAL DE REGISTRO POR CHORRO DE TINTA, A CONTINUACION SE SOMETE A IRRADIACION CON UN RAYO DE ENERGIA DE ACTIVACION CON UN PATRON DETERMINADO, PARA PRODUCIR UNA PELICULA ENDURECIDA SEGUN EL PATRON DESEADO, DE MODO QUE LA SUPERFICIE DEL ORIFICIO DE DESCARGA ESTE DOTADA DE REPELENCIA A LA TINTA.
SISTEMA DE RECUBRIMIENTO UTILIZANDO UN SISTEMA ACUOSO DE UN SOLO COMPONENTE Y QUE COMPRENDE GRUPOS HIDROFILICOS TERMOLABILES.
(01/12/2004). Solicitante/s: MACDERMID ACUMEN INC. GUPTA, GOUTAM. Inventor/es: GUPTA, GOUTAM.
La invención se refiere a resinas hidrofóbicas insaturadas modificadas con grupos hidrofílicos inestables que muestran una solubilidad reversible en agua. Los derivados del beta-dialquilaminocarboxilatos de resinas de novolak son útiles para fabricar esmaltes de cocción y agentes de protección.
COMPOSICION DE RESINA CURABLE POR RADIACION ULTRAVIOLETA Y TINTA PROTECTORA FRENTE A LA FOTOSUELDA QUE USA LA MISMA.
(01/07/2004). Solicitante/s: GOO CHEMICAL CO., LTD.. Inventor/es: KUBO, TATSUYA, FUJIMOTO, MASATOSHI SHINWA-RYO, HASHIMOTO, SOICHI.
Una composición de resina curable por radiación ultravioleta, que incluye: (A) una resina curable por radiación ultravioleta obtenida mediante las etapas de: polimerizar un componente de monómero etilénicamente insaturado que contiene (a) un monómero etilénicamente insaturado que tiene grupo epoxi y (b) un compuesto que tiene al menos dos grupos etilénicamente insaturados en una molécula para preparar un copolímero; hacer reaccionar dicho copolímero con (c) un monómero etilénicamente insaturado que tiene un grupo carboxilo para preparar un producto intermedio químico; y hacer reaccionar dicho producto intermedio químico con (d) uno de anhídridos de ácidos polibásicos saturados e insaturados; (B) un compuesto epoxídico que tiene al menos dos grupos epoxi en una molécula; (C) un iniciador de la fotopolimerización; y (D) un diluyente.
COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE.
(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: KUNIMOTO, KAZUHIKO, OKA,HIDETAKA, OHWA,MASAKI, TANABE,JUNICHI, KURA,HISATOSHI.
Composiciones de resinas fotosensibles. El invento se refiere a composiciones fotosensibles que contienen (A) un compuesto soluble en álcalis; (B) por lo menos un compuesto de fórmula I ó II, en donde R{sub,1}, Ar{sub,1}, X, R{sub,3}, R{sub,4}, R{sub,5} y R{sub,6} tienen el significado expuesto en las reivindicaciones y (C) un compuesto fotopolimerizable. Estas composiciones presentan un buen e inesperado rendimiento, en particular en la tecnología de los fotoresists.
POLIMEROS ELASTOMEROS FOTOCURABLES.
(16/07/2003). Solicitante/s: THE DOW CHEMICAL COMPANY. Inventor/es: UZEE, ANDRE, J., ESNEAULT, CALVIN, P., MYERS, MICHAEL, O.
Un polímero elastómero fotocurable, en el que el polímero: a) es insaturado; b) tiene un peso molecular promedio numérico por lo menos de 30.000; y c) tiene un grupo terminal reactivo en el extremo alfa u omega del polímero, en el que el grupo terminal reactivo es uno capaz de polimerización, copolimerización, oligomerización o dimerización por adición de radicales libres iniciada por un fotoiniciador en presencia de radiación actínica y d) es de la forma I-A-B-A-R, en la que I es el residuo de un iniciador de organolitio, A es un bloque de polímero de estireno, B es un bloque de polímero de butadieno y/o isopreno, y R es un grupo terminal reactivo en el extremo omega del polímero, en el que el grupo terminal reactivo es uno capaz de polimerización, copolimerización, oligomerización o dimerización por adición de radicales libres iniciada por un fotoiniciador en presencia de radiación actínica.
POLIURETANO - METACRILATO FOTOSENSIBLE Y REVELABLE EN AGUA.
(16/05/2003). Solicitante/s: POLYFIBRON TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: KUMPFMILLER, RONALD, JAMES, CARTER, MARTIN, LEWIS.
LA INVENCION SE REFIERE A PRECURSORES POLIMERICOS DE BUTADIENO - POLIETER QUE SE PUEDEN UTILIZAR EN RESINAS FOTOPOLIMERICAS. DICHOS PRECURSORES SE PREPARAN HACIENDO REACCIONAR HOMOPOLIMERO DE BUTADIENO CON UN EXCESO ESTEQUIOMETRICO DE ISOCIANATO Y, A CONTINUACION, HACIENDO REACCIONAR EL PRODUCTO CON DIOL DE POLIETER. A CONTINUACION, DICHA COMPOSICION SE HACE REACCIONAR CON HIDROXIALQUIL(MET)ACRILATO Y ALQUILDIALCANOLAMINA. SE PUEDEN PREPARAR PLACAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICA, UTILIZANDO UNA RESINA QUE COMPRENDE PRECURSORES POLIMERICOS DE BUTADIENO POLIETER.
FORMA IMPRESORA FLEXOGRAFICA PARA TINTAS DE IMPRESION ENDURECIBLES POR UV.
(16/04/2003). Solicitante/s: DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH. Inventor/es: DUDEK, DIETMAR, DR., HINZ, KONRAD, STRUCK, BERND.
PLANCHA IMPRESORA FOTOPOLIMERIZABLE CON UNA RESISTENCIA PERFECCIONADA FRENTE A LA TINTA DE IMPRENTA ENDURECIBLE POR UV QUE CONTIENE EN UNA CAPA ELASTOMERA AL MENOS UN COPOLIMERO DE BLOQUE TERMOPLASTICAMENTE ELASTOMERO, FORMADO POR DOS O MAS BLOQUES DE POLIMEROS COMPUESTOS DE UNIDADES AROMATICAS DE VINILO, Y UNO O VARIOS BLOQUES DE POLIMERO COMPUESTOS DE UNIDADES DE ISOPRENO Y/O ISOPRENO/BUTADIENO, CON UN CONTENIDO DE ENLACE DE VINILO DEL 70 % COMO MAXIMO, CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 20 UNA DISPERSION PRIMARIA DE TAN DE} DE 30.
COMPOSICIONES DIELECTRICAS FOTODEFINIBLES.
(16/12/2002). Solicitante/s: THE B.F. GOODRICH COMPANY. Inventor/es: SHICK, ROBERT, A., JAYARAMAN, SAIKUMAR, ELCE, EDMUND, GOODALL, BRIAN, L.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION DIELECTRICA FOTODEFINIBLE QUE CONTIENE UN FOTOINICIADOR Y UN POLIMERO DE ADICION POLICICLICO QUE COMPRENDE UNIDADES DE REPETICION QUE CONTIENEN SUSTITUYENTES HIDROLIZABLES SUSPENDIDOS CON FUNCIONALIDADES SILILO. TRAS SU EXPOSICION A UNA FUENTE DE RADIACION, EL FOTOINICIADOR CATALIZA LA HIDROLISIS DE LOS GRUPOS HIDROLIZABLES PARA CAUSAR LA CURA DEL POLIMERO Y LA ADHESION DEL POLIMERO A LOS SUBSTRATOS DESEADOS.
NUEVAS PLANTILLAS PARA SERIGRAFIA.
(01/04/2002). Ver ilustración. Solicitante/s: SERICOL LIMITED. Inventor/es: DAVIDSON, ROBERT STEPHEN, PALMER, STUART JOHN, PRATT, JULIE E., WILSON, STEPHEN PAUL.
UNA PANTALLA DE SERIGRAFIA FABRICADA DE UNA COMPOSICION QUE CONSTA DE COMPUESTOS POLIHIDROXIDOS QUE TIENEN UNA PLURALIDAD DE GRUPOS 1,2 - O 1,3 - DIOL A LO LARGO DE UN NUCLEO DE POLIMERO, ESTANDO LOS GRUPOS DE DIOL INJERTADOS ADEMAS EN UN COMPUESTO DE LA FORMULA (I), DONDE A ES UN GRUPO DE ARILENO O DE ALQUILENO; X ES UN ATOMO DE OXIGENO, UN ATOMO DE AZUFRE, UN ENLACE CARBONO CARBONO O UN GRUPO DE FORMULA (A), (B) O (C); R ES UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO DE METILO; R 1 ES UN GRUPO DE ALQUILO (C 1 - C 4 ; M ES UN NUMERO ENTERO DEL 1 AL 8; N ES UN NUMERO ENTERO DEL 1 AL 3; Y P ES 1 O 2); O UN ACETAL DEL COMPUESTO POLIHIDROXILO CON ETILENOGLICOL.
PROCEDIMIENTO DE FOTOENMASCARAMIENTO DE POLIIMIDAS FOTOSENSIBLES CON COMPUESTOS ORGANOMETALICOS PARA PROCESOS FOTOLITOGRAFICOS EN TECNOLOGIA DE SILICIO.
(16/03/2001). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: DOMINGUEZ HORNA,CARLOS, MUÑOZ PASCUAL,FRANCISCO J.
Procedimiento de fotoenmascaramiento de poliimidas fotosensibles con compuestos organometálicos para procesos fotolitográficos en tecnología de silicio. Es un proceso fotolitográfico monocapa sobre topografías irregulares que se basa en la silanización superficial de los grupos metacrilato del ácido poliámico precursor de la poliimida fotosensible para que actúen como máscara ante el revelado por plasma en modo RIE, con oxígeno como gas reactivo. El proceso permite la obtención de motivos positivos o negativos, con respecto a la máscara, utilizando los mismos precursores fotosensibles ya que esto depende únicamente de la secuencia con que se realicen los pasos de exposición y silanización. Este proceso puede aplicarle a la fotodefinición de capas poliméricas de cualquier espesor. Aplicación en la encapsulación se sensores químicos, módulos multichip, tecnología microelectrónica, sectores electrónicos, óptica integrada.
(16/11/2000). Solicitante/s: SMITH & NEPHEW PLC. Inventor/es: WEBSTER, IAIN.
SE DESCRIBEN NUEVOS ADHESIVOS AUTOADHERENTES QUE COMPRENDEN POLIURETANOS, POLIACRILATOS, SILICONAS Y POLIESTERES, QUE SON ACTIVADOS POR UV EN UN SISTEMA SIN DISOLVENTE. SE DESCRIBEN ASIMISMO NUEVOS PRECURSORES DE DICHOS ADHESIVOS AUTOADHERENTES, METODOS DE FABRICACION DE LOS MISMOS Y ARTICULOS QUE LOS COMPRENDEN.
COMPOSICION LIQUIDA RETICULABLE POR RADIACION, EN ESPECIAL PARA ESTEREOLITOGRAFIA.
(16/06/2000) COMPOSICION LIQUIDA, ENDURECIBLE POR RADIACION, QUE JUNTO CON UN COMPONENTE LIQUIDO, POLIMERIZABLE POR RADICAL, CONTIENE ADEMAS LOS SIGUIENTES COMPONENTES COMO MINIMO: (A) DE UN 40 A UN 80 % EN PESO DE UNA RESINA EPOXIDO LIQUIDA DIFUNCIONAL O DE ELEVADA FUNCIONALIDAD O UNA MEZCLA LIQUIDA COMPUESTA DE RESINAS EPOXIDO LIQUIDAS DIFUNCIONALES O DE ELEVADA FUNCIONALIDAD; (B) DE UN 0,1 A UN 10 % EN PESO DE UN FOTOINICIADOR CATIONICO O UNA MEZCLA DE FOTOINICIADORES CATIONICOS; Y (C) DE UN 0,1 A UN 10 % EN PESO DE UN FOTOINICIADOR RADICAL O UNA MEZCLA DE FOTOINICIADORES RADICALES; Y (D) HASTA UN 40 % EN PESO DE UNA COMPOSICION DE HIDROXILO, CARACTERIZADA PORQUE EL COMPONENTE (D)…
PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE IMAGENES SOBRE PLACAS DE IMPRESION DE FOTOPOLIMEROS LIQUIDOS.
(01/02/2000) UN METODO PARA CURAR UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE QUE INCLUYE EL USO DE UNA PELICULA COVERTORA PROTECTORA DE APRECIACION FINA, PREFERIBLEMENTE INCORPORANDO UN RECUBRIMIENTO PARA PERMITIR LA FACILIDAD DE EXTRACCION DESPUES DE LA REALIZACION DE IMAGENES. EL METODO TAMBIEN UTILIZA UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE QUE INCORPORA UNA CAPA SUPERIOR MODIFICADA DE FOTOVELOCIDAD PARA RETARDAR SELECTIVAMENTE EL CRECIMIENTO DE LA IMAGEN DURANTE LA EXPOSICION. PARA ELIMINAR EFECTOS INDESEABLES EN EL FOTOPOLIMERO CURADO UNA PLANCHA DE VIDRIO QUE HABIA CONTACTADO ANTES Y APLANADO LA COMPOSICION, SE SEPARA DE LA COMPOSICION POR AL MENOS 0.064 CM (0.064CM AL MENOS 0.025 PULGADAS) DESPUES DE CURAR PARCIALMENTE LA COMPOSICION PERO ANTES DE CURAR TOTALMENTE LA MISMA. LA CURA PARCIAL DE LA COMPOSICION SE CONSIGUE DIRIGIENDO LUZ A LA MISMA…
COMPOSICION POLIMERICA FOTOSENSIBLE PARA PLACAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICAS EN MEDIO ACUOSO.
(16/09/1999). Solicitante/s: PT SUB, INC. Inventor/es: MIRLE, SRINIVAS K., HUYNH-TRAN, TRU-CHI THI.
UNA COMPOSICION FOTOCURABLE USADA PARA PREPARAR PLACAS DE IMPRESION SOLIDA DESARROLLABLE EN AGUA SE PREPARA MEZCLANDO UN PREPOLIMERO DE (META)ACRILATO URETANO CON UN POLIMERO COMPLEJO BASADO EN COMPOSICION DE POLI(VINILO PIRROLIDONA). LA COMPOSICION RESULTANTE ES ADECUADAMENTE FORMULADA CON MONOMEROS U OLIGOMEROS DE (META)ACRILATO FOTOACTIVO Y FOTOINICIADOR PARA MODELADO O EXTRUSION SOBRE UN SUSTRATO PARA FORMAR UNA PLACA DE IMPRESION FLEXOGRAFICA. A CONTINUACION DE LA EXPOSICION A UV DE LA PLACA A TRAVES DE UN NEGATIVO, AREAS NO EXPUESTAS PUEDEN SER ELIMINADAS POR LAVADO CON MEDIO ACUOSO, PARA DAR UNA PLACA CON UNA IMAGEN REALZADA DESEABLE. EL USO DE LA SOLUCION ACUOSA DE CANCELACION AL CONTRARIO QUE CON DISOLVENTES ORGANICOS MINIMIZA LOS PROBLEMAS DE POLUCION. EL USO DEL POLIMERO COMPLEJO REDUCE SIGNIFICATIVAMENTE LA PLASTICIDAD EN FRIO DE LA PLACA NO CURADA E INCREMENTA TANTO LA TENACIDAD COMO REDUCE LA VISCOSIDAD DE LA PLACA CURADA.
PLACAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICA DE COMPOSICIONES ELASTOMERAS FOTOCURABLES.
(16/06/1998) PLACAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICA, OBTENIBLES MEDIANTE LA EXPOSICION A IRRADIACION DE UV DE UNA COMPOSICION DE POLIMERO FOTOCURABLE QUE COMPRENDE AL MENOS (A) 100 PARTES POR PESO (PPP) DE UN COPOLIMERO DE BLOQUE QUE CONTIENE AL MENOS TRES BLOQUES POLI(DIENO CONJUGADO) Y AL MENOS UN BLOQUE SELECCIONADO DE BLOQUES POLI(MONOVINILAROMATICOS) , Y QUE TIENEN UNA ESTRUCTURA RAMIFICADA O RADIAL, DE LA FORMULA GENERAL [[]AB[[]{SUB, P}[[]C[[]{SUB, Q}X EN DONDE CADA A REPRESENTA UN BLOQUE PREDOMINANTEMENTE POLI(MONOVINILO- AROMATICO), CADA B Y C REPRESENTAN UN BLOQUE POLI(DIENO CONJUGADO), P Y Q REPRESENTAN CADA UNO UN ENTERO DE 1 O SUPERIOR Y LA SUMA DE LOS CUALES ESTA EN EL RANGO DE 3 A 20 Y PREFERIBLEMENTE DE 4 A 8, Y EN DONDE X REPRESENTA EL RESIDUO DE UN AGENTE DE ACOPLAMIENTO POLIFUNCIONAL, CUALQUIER BLOQUE B Y C DE POLI(BUTADIENO) PRESENTE EN LOS…
NUEVOS COMPUESTOS EPOXIDOS CICLOALIFATICOS.
(01/06/1998). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., WOLF, JEAN-PIERRE, STEINMANN, BETTINA, HUNZIKER, MAX, DR..
NUEVOS COMPUESTOS EPOXIDOS CICLOALIFATICOS QUE CONTIENEN EN LA MOLECULA POR LO MENOS UN GRUPO ACRILATO Y POR LO MENOS UN GRUPO EPOXIDO CICLOALIFATICO, PUEDEN EMPLEARSE PARA PRODUCIR MEDIOS DE RECUBRIMIENTO, ADHESIVOS, FOTORESISTENTE O EN LA ESTEROLITOGRAFIA QUE CONTIENEN UNA ESTRUCTURA HOMOGENEA FUNDAMENTAL PRESENTANDO EL MOLDE UNA BUENA RESISTENCIA FUNDAMENTAL Y BUENAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA.
COMPUESTOS FOTOPOLIMERIZABLES.
(01/03/1998). Solicitante/s: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. Inventor/es: OHTA, KATSUYUKI, TAKAGI, TOSHIYA, AOYAMA, TOSHIMI.
COMPUESTOS QUE COMPRENDEN UN POLIMERO DE BASE LINEAL, UN COMPUESTO POLIMERIZABLE POR ADICION, INSATURADO ETILENICAMENTE Y UNA COMBINACION DE (A) UN 1-BENZOILOENZILALKANO CON (B) UN (ALFA) -FENIL-(ALFA), (ALFA)-DIALKOXIACETOFENONA COMO INICIADORA DE LA FOTOPOLIMERIZACION IDONEAS PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION DE PELICULA GRUESA.
