Composiciones sensibles a la radiación de trabajo en negativo y materiales imprimibles.
Una composición sensible a la radiación que comprende:
un componente polimerizable por radicales libres,
una composición iniciadora de borato de yodonio capaz de generar radicales suficientes para iniciar lapolimerización del mencionado componente radicalmente polimerizable en el momento de la exposición aradiación para formación de imágenes,
un compuesto absorbente de la radiación que es un tinte IR, y
un aglutinante polimérico,
en donde la mencionada composición iniciadora de borato de yodonio comprende un compuesto de borato dediarilyodonio representado por la siguiente Estructura (I):
en donde X e Y son independientemente halógeno, grupos alquilo sustituidos o no sustituidos que tienen de 1 a 20átomos de carbono, grupos alquiloxi sustituidos o no sustituidos que tienen de 1 a 20 átomos de carbono, gruposcicloalquilo sustituidos o no sustituidos que tienen de 3 a 8 átomos de carbono en la estructura del anillo o dos o másgrupos X o Y adyacentes se pueden combinar para formar un anillo fusionado con sus anillos fenilo respectivos, p yq son independientemente 0 o enteros del 1 al 5, siempre que p o q sea al menos 1 y la suma de los átomos decarbono en los sustituyentes de X e Y o el anillo fusionado sea al menos 6, y
Z- es un anión orgánico representado por la siguiente Estructura (II). **Fórmula**
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2007/011528.
Solicitante: EASTMAN KODAK COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 343 STATE STREET ROCHESTER NY 14650-2201 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.
Inventor/es: TAO,TING, BECKLEY,SCOTT A.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
- G03F7/029 G03F 7/00 […] › Compuestos inorgánicos; Compuestos de onio; Compuestos orgánicos que contienen heteroátomos diferentes del oxígeno, nitrógeno o azufre.
- G03F7/038 G03F 7/00 […] › Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).
PDF original: ES-2402583_T3.pdf
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