COMPOSICION DE RESINA CURABLE MEDIANTE RADIACION PARA OBTENER OBJETOS TRIDIMENSIONALES COLOREADOS.

Procedimiento para formar un artículo tridimensional que comprende:

(1) recubrir una capa de una composición de resina curable mediante radiación sobre una superficie; (2) exponer la capa como imagen a radiación actínica para formar una sección transversal explorada, en la que la radiación es de intensidad suficiente para producir el curado sustancial de la capa en las zonas expuestas; (3) recubrir una capa de la composición sobre la sección transversal explorada expuesta anteriormente; (4) exponer dicha capa fina de la etapa (3) como imagen a radiación actínica para formar una sección transversal explorada adicional, en la que la radiación es de intensidad suficiente para producir el curado y el coloreado sustanciales de la capa fina en las zonas expuestas y para producir la adhesión de la sección transversal explorada expuesta anteriormente; (5) repetir las etapas (3) y (4) un número de veces suficiente con el fin de construir el artículo tridimensional; en el que la composición de resina curable por radiación comprende A) al menos un compuesto epoxídico B) un fotoiniciador catiónico, y C) un componente colorante latente, y en el que la composición de resina tiene un primer color o ausencia de color antes del curado y en el que un objeto tridimensional obtenido a partir de la resina sometiendo la resina a radiación muestra un segundo color que es diferente del color de la composición de resina antes del curado y en el que la cantidad del componente C está entre el 0, 0001 y 0, 1% en peso.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: DSM IP ASSETS B.V..

Nacionalidad solicitante: Países Bajos.

Dirección: HET OVERLOON 1,6411 TE.

Inventor/es: THOMMES, GLEN, ANTHONY, LAWTON, JOHN, ALAN, YOU, XIAORONG.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 27 de Noviembre de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C08G59/68 QUIMICA; METALURGIA.C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES.C08G COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES DISTINTAS A AQUELLAS EN LAS QUE INTERVIENEN SOLAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para sintetizar un compuesto dado o una composición dada o para la separación de isómeros ópticos a partir de una mezcla racémica C12P). › C08G 59/00 Policondensados que contienen varios grupos epoxi por molécula; Macromoléculas obtenidas por reacción de policondensados poliepoxi con compuestos monofuncionales de bajo peso molecular; Macromoléculas obtenidas por polimerización de compuestos que contienen más de un grupo epoxi por molécula utilizando agentes de endurecimiento o catalizadores que reaccionan con los grupos epoxi. › caracterizados por los catalizadores utilizados.
  • G03F7/004 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
  • G03F7/038 G03F 7/00 […] › Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).

Clasificación PCT:

  • C08G59/68 C08G 59/00 […] › caracterizados por los catalizadores utilizados.
  • G03F7/004 G03F 7/00 […] › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
  • G03F7/038 G03F 7/00 […] › Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania.

Patentes similares o relacionadas:

Composición resistente a soldadura líquida y placa de circuito impreso, del 8 de Abril de 2020, de GOO CHEMICAL CO., LTD.: Una composición resistente a soldadura líquida que comprende: una resina que contiene grupo un carboxilo (A); un componente termoendurecible […]

Método para elaborar placas de impresión de imágenes en relieve, del 25 de Marzo de 2020, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para exponer selectivamente un blanco de impresión de fotopolímero líquido a radiación actínica para crear una placa de impresión […]

Composición de protección de soldadura líquida y placa de circuito impreso, del 11 de Marzo de 2020, de GOO CHEMICAL CO., LTD.: Una composición de protecciónde soldadura líquida que comprende: una resina que contiene el grupo carboxílico (A); un componente termoendurecible (B); […]

Composición resistente de soldadura y placa de circuito impreso cubierta, del 27 de Noviembre de 2019, de GOO CHEMICAL CO., LTD.: Una composición resistente de soldadura que comprende: (A) una resina que contiene un grupo carboxilo; (B) un compuesto epoxídico; […]

Formulación de fotopolímero para la producción de medios holográficos con polímeros de matriz altamente reticulados, del 24 de Junio de 2019, de Covestro Deutschland AG: Formulación de fotopolímero que comprende un componente de poliol, un componente de poliisocianato, un monómero de escritura y un fotoiniciador que contiene un coiniciador […]

Laca de estampado y procedimiento de estampado, del 5 de Junio de 2019, de Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH: Laca de estampado basada en una composición prepolimérica polimerizable UV que contiene por lo menos un monómero de acrilato, caracterizada […]

Composición de poli- o prepolímero o laca de estampado, que comprende una composición de este tipo y utilización de la misma, del 5 de Junio de 2019, de Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH: Composición prepolimérica que contiene por lo menos un componente mono- u oligomérico con por lo menos un doble enlace C-C polimerizable y por lo menos un componente […]

Barbotina de cerámica y vitrocerámica para estereolitografía, del 24 de Abril de 2019, de IVOCLAR VIVADENT AG: Barbotina para la fabricación estereolitográfica de piezas moldeadas de cerámica o vitrocerámica, que contiene (a) por lo menos un monómero polimerizable por radicales, […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .