Composición de resina sensible a rayos de energía activa, película de resina sensible a rayos de energía activa y método para formar un motivo usando dicha película.

Composición de resina sensible a rayos de energía de activación que comprende:

agua,

una resina soluble en agua disuelta en el agua,

un formador de ácido, en forma de partículas sólidas, dispersas en el agua y que genera un ácido cuando se irradia con rayos de energía de activación,

un sensibilizador, en forma de partículas sólidas, dispersas en el agua para sensibilizar la generación de ácido por el formador de ácido, y

un agente de insolubilización reactivo con ácido disuelto o disperso en el agua y que puede insolubilizar dicha resina soluble en agua mediante reacción con la misma en presencia de dicho ácido, en la que dicho agente de insolubilización reactivo con ácido es un compuesto que contiene nitrógeno N-metilolado o Nalcoximetilado, un derivado de fenol hidroximetilado o una resina de tipo resol; un compuesto que tiene al menos un grupo oxetano, grupo viniloxilo, grupo isopropeniloxilo o grupo ortoéster; o un compuesto que tiene al menos un grupo formilo, en la que cada uno de dichos formador de ácido y sensibilizador tiene un diámetro de partícula promedio de 1,5 μm o menos.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2003/008539.

Solicitante: Murakami Co., Ltd.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 5-3-10m, Yokokawa Sumida-ku Tokyo 130-0003 JAPON.

Inventor/es: INOUE, KAZUO, ICHIMURA,KUNIHIRO, MORITA,TOMOYUKI, KAWANOBE,JUNICHI, ADACHI,DAISAKU.

Fecha de Publicación: 20 de Enero de 2016.

Clasificación Internacional de Patentes:

C08F8/30 QUIMICA; METALURGIA. › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08F COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO (producción de mezclas de hidrocarburos líquidos a partir de hidrocarburos de número reducido de átomos de carbono, p. ej. por oligomerización, C10G 50/00; Procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la síntesis de un compuesto químico dado o de una composición dada, o para la separación de isómeros ópticos a partir de una mezcla racémica C12P; polimerización por injerto de monómeros, que contienen uniones insaturadas carbono-carbono, sobre fibras, hilos, hilados, tejidos o artículos fibrosos hechos de estas materias D06M 14/00). › C08F 8/00 Modificación química por tratamiento posterior (polímeros injertados, polímeros en bloque, reticulados con monómeros insaturados o con polímeros C08F 251/00 - C08F 299/00; de cauchos de dieno conjugados C08C). › Introducción de átomos de nitrógeno o grupos que contienen nitrógeno.
G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
G03F7/038 G03F 7/00 […] › Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).
G03F7/12 G03F 7/00 […] › Producción de formas de impresión para serigrafía o de formas de impresión similares, p. ej. clichés de multicopista.

PDF original: ES-2564145_T3.pdf

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