PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE IMAGENES SOBRE PLACAS DE IMPRESION DE FOTOPOLIMEROS LIQUIDOS.
UN METODO PARA CURAR UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE QUE INCLUYE EL USO DE UNA PELICULA COVERTORA PROTECTORA DE APRECIACION FINA,
PREFERIBLEMENTE INCORPORANDO UN RECUBRIMIENTO PARA PERMITIR LA FACILIDAD DE EXTRACCION DESPUES DE LA REALIZACION DE IMAGENES. EL METODO TAMBIEN UTILIZA UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE QUE INCORPORA UNA CAPA SUPERIOR MODIFICADA DE FOTOVELOCIDAD PARA RETARDAR SELECTIVAMENTE EL CRECIMIENTO DE LA IMAGEN DURANTE LA EXPOSICION. PARA ELIMINAR EFECTOS INDESEABLES EN EL FOTOPOLIMERO CURADO UNA PLANCHA DE VIDRIO QUE HABIA CONTACTADO ANTES Y APLANADO LA COMPOSICION, SE SEPARA DE LA COMPOSICION POR AL MENOS 0.064 CM (0.064CM AL MENOS 0.025 PULGADAS) DESPUES DE CURAR PARCIALMENTE LA COMPOSICION PERO ANTES DE CURAR TOTALMENTE LA MISMA. LA CURA PARCIAL DE LA COMPOSICION SE CONSIGUE DIRIGIENDO LUZ A LA MISMA DESDE UNA FUENTE DE RADIACION ACTINICA COLOCADA APROX. 15.2 - 76.2 CM. (6 A 30 PULGADAS) DE LA COMPOSICION DE RESINA, DONDE LA RADIACION ACTINICA POSEE UNA LONGITUD DE ONDA DE UNA INTENSIDAD MAXIMA DE APROX. 365 A 375NM.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MACDERMID IMAGING TECHNOLOGY INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 245 FREIGHT STREET,WATERBURY, CT 06702.
Inventor/es: CASALETTO, NICOLA, GIBBONS, WAYNE M., RACH, JOSEPH F.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 6 de Octubre de 1999.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/038 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).
- G03F7/11 G03F 7/00 […] › con capas de recubrimiento o capas intermedias, p. ej. capas de anclaje.
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