CIP 2015 : C23C 14/04 : Revestimiento de partes determinadas de la superficie, p. ej. por medio de máscaras.

CIP2015CC23C23CC23C 14/00C23C 14/04[1] › Revestimiento de partes determinadas de la superficie, p. ej. por medio de máscaras.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento (tubos de descarga provistos de medios que permiten la introducción de objetos o de un material para ser expuestos a la descarga H01J 37/00).

C23C 14/04 · Revestimiento de partes determinadas de la superficie, p. ej. por medio de máscaras.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Procedimiento de realización de al menos un microcomponente con una máscara única.

(20/11/2013) Procedimiento de realización de un microcomponente que comprende un apilamiento sobre un sustrato , incluyendo el apilamiento una primera capa depositada según un primer motivo y una segunda capa depositada según un segundo motivo, diferente del primer motivo, caracterizado porque el primer motivo está formado a través de una abertura de una máscara llevada a una primera temperatura (T1), y porque el segundo motivo está formado a través de la misma abertura de la misma máscara llevada a una segunda temperatura (T2), diferente de la primera temperatura.

Procedimiento para la fabricación de una placa de aparato doméstico.

(23/04/2013) Procedimiento para la fabricación de una placa de aparato doméstico. La invención parte de un procedimiento para la fabricación de una placa de aparato doméstico, en el que al menos un área parcial de una placa bruta es sometida a un tratamiento térmico . Con el fin de mejorar un procedimiento genérico, se propone que, antes del tratamiento térmico , mediante deposición física en fase gaseosa se lleve a cabo con una capa un recubrimiento de la superficie de, al menos, un área parcial superficial de la placa bruta .

Procedimiento para la fabricación de una placa de aparato doméstico.

(23/04/2013) Procedimiento para la fabricación de una placa de aparato doméstico. La invención parte de un procedimiento para la fabricación de una placa de aparato doméstico, en el que mediante deposición física en fase gaseosa se lleva a cabo con una capa un recubrimiento de la superficie de, al menos, un área parcial superficial de una placa bruta . Para mejorar un procedimiento genérico, se propone que, tras el recubrimiento de la superficie , se realice un recorte de la placa bruta a un tamaño deseado.

Lámina metalizada y procedimiento para su fabricación, así como su uso.

(20/06/2012) Procedimiento de fabricación de una lámina parcialmente metalizada destinada a ser usada como hilo, banda oparche para billetes de banco, papeles negociables y tarjetas de crédito, como antena de RF paratranspondedores, tarjetas inteligentes, etiquetas inteligentes y marbetes, como antena de RF en etiquetasantirrobo, o como etiquetas de control para el aseguramiento de la calidad, caracterizado por el hecho de quesobre una lámina de soporte se imprime un dibujo con una tinta soluble (tinta eliminable por lavado), una capade tinta pigmentada, una capa puramente de pigmento o pigmentos en suspensión, a continuación la lámina de soporte pretratada es limpiada…

DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA APLICACION DIRIGIDA DE UN MATERIAL DE DEPOSITO SOBRE UN SUSTRATO.

(01/04/2007). Solicitante/s: SCHEUTEN GLASGROEP. Inventor/es: KAAS, PATRICK, GEYER, VOLKER.

Procedimiento de aplicación dirigida de material de depósito sobre un sustrato en una instalación de depósito en fase vapor, en el que los chorros de partículas proyectados por un blanco de proyección de un cátodo de pulverización son dirigidos sobre el sustrato a través de un filtro con varias estructuras individuales en forma de canal, donde el flujo de partículas proyectadas se limita a una zona angular estrecha, caracterizado porque los chorros de material son aplicados en el interior de un dispositivo en una primera estación siguiendo un ángulo ? y en una segunda estación siguiendo un ángulo ?, siendo diferentes entre sí los ángulos de incidencia.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE PIEZAS CERAMICAS, DE VIDRIO O PORCELANICAS CON METALIZACION PARCIAL POR DEPOSICION EN FASE VAPOR Y PRODUCTO ASI OBTENIDO.

(01/06/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: CERAMICA TRES ESTILOS, S.L.. Inventor/es: LOZANO PROSPER,RAFAEL.

Procedimiento para la fabricación de piezas cerámicas, de vidrio o porcelánicas con metalización parcial por deposición en fase vapor y producto así obtenido. El procedimiento para la metalización parcial de la superficie de una pieza por deposición física en fase vapor (PVD) comprende las etapas: a) tratamiento de la pieza por serigrafía para definir el área que estará libre de metalización, b) tratamiento de la pieza serigrafiada para forzar la evaporación de los gases de la pintura de serigrafía, c) tratamiento de la pieza en una cámara de PVD para recubrir la superficie con un metalizado, y d) eliminación del metalizado en el área tratada por serigrafía. Dicho procedimiento permite metalizar parcialmente objetos y producir objetos con recubrimiento metalizado parcial, por ejemplo, piezas cerámicas, de vidrio o porcelánicas.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN DISPOSITIVO MICROMECANICO.

(16/12/2002). Solicitante/s: ROBERT BOSCH GMBH. Inventor/es: HIRTREITER, JOSEF, ELSNER, BERNHARD.

Procedimiento para la fabricación de un dispositivo micromecánico con las etapas: preparación de un substrato con una región de anclaje , formación de una capa de sacrificio sobre el substrato dejando libre la región de anclaje ; deposición de una capa adhesiva sobre la capa de sacrificio y la región de anclaje ; formación de una máscara sobre la capa adhesiva ; deposición de una capa galvánica sobre la región no enmascarada de la capa adhesiva ; y retirada de la máscara y de la capa de sacrificio.

PROCEDIMIENTO PARA EL DEPOSITO BAJO VACIO DE UN SUSTRATO CURVO.

(01/12/2002). Solicitante/s: ESSILOR INTERNATIONAL COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE. Inventor/es: KELLER, GERHARD, COMBLE, PASCAL, MOUHOT, FREDERIC.

Procedimiento para el tratamiento bajo vacío de cualquier sustrato curvo, del tipo según el cual se provoca la pulverización catódica de un material procedente de una fuente de material dada, sobre este sustrato curvo , para formar un depósito, sobre dicho sustrato curvo de una capa de dicho material, caracterizado porque se interpone, entre el sustrato curvo y la fuente de material , a distancia del sustrato curvo , un protector fijo con relación al sustrato curvo , y cuya proyección sobre un plano según una dirección perpendicular a este plano tiene una superficie inferior al 10 % de la superficie de la proyección del sustrato curvo sobre este mismo plano.

RECIPIENTES CON SUPERFICIE INTERIOR INERTE O IMPERMEABLE POR DEPOSITO, ASISTIDO CON PLASMA, DE UNA SUSTANCIA PRINCIPALMENTE INORGANICA.

(16/12/2001) LA DEPOSICION AYUDADA CON PLASMA DE UN REVESTIMIENTO SUPERFICIAL INTERIOR MUY FINO DENTRO DE UN ENVASE DE PLASTICO O DE METAL SE CONSIGUE UTILIZANDO SUBSTANCIAS INORGANICAS, INERTES, INSOLUBLES, TALES COMO SILICE, U OXIDOS DE METAL INSOLUBLES, O UTILIZANDO MEZCLAS DE SUBSTANCIAS, POR EJEMPLO DE METALES, OXIDOS DE METAL, SALES DE METAL Y RADICALES DE CARBONO Y/O ORGANICOS. DE MANERA QUE SE FORMA UNA CELOSIA O ESTRUCTURA FLEXIBLE, UTILIZANDO DIFERENTES CAPAS DE TALES ESTRUCTURAS. ESTO COMPRENDE LA COLOCACION DEL ENVASE EN UN CERRAMIENTO EN EL QUE SE HA OBTENIDO EL VACIO, LA COLOCACION DE UN VAPORIZADOR QUE CONTENGA EL MATERIAL INORGANICO, INERTE DE UNA CONSTITUCION PREDETERMINADA DENTRO DEL ENVASE, LA GENERACION DE UN VAPOR DE DICHO MATERIAL, LA FORMACION DE UN PLASMA DE DICHO VAPOR, LA DEPOSICION…

Cobertor de repartición para el depósito por evaporación bajo vacío.

(01/12/2001). Solicitante/s: ESSILOR INTERNATIONAL COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE. Inventor/es: CONTE, DOMINIQUE, BEINAT, OLIVIER.

Cobertor de repartición a utilizar para el control del depósito por evaporación de un revestimiento cualquiera sobre un substrato cualquiera, comprendiendo éste cobertor de repartición por lo menos un panel de ocultación móvil, caracterizado porque comprende por lo menos dos paneles de ocultación , llamados a continuación paneles de ocultación laterales, que son sensiblemente coplanarios y que están montados pivotantes con respecto a una base que forma un tercer panel de ocultación fijo, para pivotar bajo el control de un mando que les es común, de manera continua, entre dos posiciones extremas, a saber una posición aproximada, para la cual el espacio (E) entre ellos es mínimo, y una posición separada, para la cual este espacio (E) es por el contrario máximo.

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE CAPAS FUNCIONALES DE METAL, CERAMICA O CERAMICA/METAL EN LA PARED INTERNA DE CUERPOS HUECOS.

(01/11/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: DAIMLERCHRYSLER AG. Inventor/es: POMPE, WOLFGANG, BEYER, STEFFEN, DIETSCH, REINER, MAI, HERMANN.

SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA CONSEGUIR CAPAS FUNCIONALES DE METAL, CERAMICA O CERAMICA/METAL SOBRE LA PARED INTERNA DE CUERPOS HUECOS UTILIZANDO EL PROCEDIMIENTO DE LA DEPOSICION POR LASER PULSADO (PLD), UTILIZANDOSE EN COMBINACION CON UN TRATAMIENTO DE CAPA FINA POR LASER DENSIDADES DE CORRIENTE DE ENERGIA Y DE MATERIA COMO FUNCION DE LA SEPARACION DE LAS ZONAS DE CONDENSACION DE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO, UTILIZANDOSE IMPULSOS DE LASER CON ENERGIAS DE 1 - 2 JULIOS EN TASAS DE IMPULSOS DE REPETICION DE 10 HZ HASTA 50 HZ, Y FORMANDOSE UN REVESTIMIENTO DIRECTO INTERNO SEGUN LA LONGITUD DEL IMPULSO ELEGIDO Y LA ATMOSFERA DE GAS RESIDUAL EN LA CAMARA DE SEDIMENTACION EN VACIO MEDIANTE CORRIENTE DE PLASMA UNA ESTRUCTURA TIPICA EN CAPAS, VIDRIOSA - AMORFA, COLUMNAR O POLICRISTALINA, Y ESTANDO FORMADO EL MATERIAL DE LA CAPA O EL MATERIAL DIANA TANTO POR SUSTANCIAS CONDUCTORAS COMO TAMBIEN POR SUSTANCIAS AISLANTES.

PIEZA DE ALUMINIO FUNDIDO Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.

(01/09/2001). Solicitante/s: VAW MOTOR GMBH. Inventor/es: ERBSLOH, HERMANN W., DR.-ING., FEIKUS, FRANZ JOSEF, DR.-ING., LUGSCHEIDER, ERICH, PROF. DR., LOFFLER, FRANK, DR.-ING., WOLFF, C., DIPL.-ING.

EN UNA PIEZA FUNDIDA DE ALUMINIO CON UNA SUPERFICIE INTERIOR DESLIZANTE CILINDRICA Y BRUÑIDA, QUE MUESTRA UN PERFIL DE PROFUNDIDAD DE RUGOSIDAD DE R{SUB,K} = 0,5 K} = 0,1 SOBRE LA ESTRUCTURA SUPERFICIAL PURIFICADA MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO DE CAUTERIZACION DE IONES UNA CAPA DE MATERIA EXTRADURA CON UN PROCEDIMIENTO DE RECUBRIMIENTO QUE FORMA SUPERFICIES, A TEMPERATURAS INFERIORES A LOS 250 (GRADOS) C DE LA FASE GASEOSA, FORMANDOSE UNA CAPA SUPERFICIAL CON UNA PORCION DE MATERIA EXTRADURA SUPERIOR AL 80 AT. %.

DISPOSITIVO DE POSICIONAMIENTO DE TIRAS-ESCUDO EN UNA MAQUINA DE METALIZACION.

(01/11/1997). Solicitante/s: THOMSON-CSF PASSIVE COMPONENTS. Inventor/es: MOUNOUSSAMY, ANDRE, BOUCHARD, JEAN-PAUL, FERAL, THIERRY.

LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO DE POSICIONAMIENTO DE AL MENOS UNA TIRA-ESCUDO EN UNA MAQUINA DE METALIZACION DE PELICULA DE ANCHO GRANDE QUE PERMITE OBTENER EN LA SALIDA UNA PELICULA QUE PRESENTA ZONAS METALIZADAS Y ZONAS NO METALIZADAS. ESTE DISPOSITIVO ESTA CONSTITUIDO POR AL MENOS DOS RODILLOS DE ARRASTRE DE LAS TIRAS-ESCUDO QUE PRESENTAN UNA SUPERFICIE LISA, ESTANDO POSICIONADOS LOS RODILLOS DE ARRASTRE PARA LLEVAR LAS TIRAS-ESCUDO EN FRENTE DE LA PELICULA DURANTE LA METALIZACION, Y POR AL MENOS UN PEINE FIJO DE POSICIONAMIENTO Y DE GUIA DE DICHAS TIRAS. LA INVENCION SE APLICA EN LAS MAQUINAS DE METALIZACION DE PELICULAS PLASTICAS UTILIZADAS EN PARTICULAR EN LA FABRICACION DE CONDENSADORES DE CHIPS.

METODO PARA REVESTIR SUSTRATOS CON COMPUESTOS A BASE DE SILICIO.

(01/06/1995). Solicitante/s: THE BOC GROUP, INC.. Inventor/es: WOLFE, JESSE D., BOEHMLER, CAROLYNN, HOFMANN, JAMES, J.

UN METODO PARA DEPOSITAR PELICULAS FINAS DE COMPUESTOS CON BASE DE SILICIO, PARTICULARMENTE DIOXIDO DE SILICIO, MEDIANTE PULVERIZACION CATODO REACTIVA, QUE UTILIZA UN MAGNETRON CILINDRICO ROTATORIO IMPULSADO POR UN POTENCIAL DE C.A. . EL RESULTADO ES UNA TECNICA DE FORMACION DE UNA PELICULA UNIFORME EN SUSTRATOS GRANDES CON VELOCIDADES ALTAS DE DEPOSICION. LA FORMACION DE CHISPAS NORMALMENTE ASOCIADA CON LA PULVERIZACION DIFICULTOSA EN RECUBRIMIENTOS DIELECTRICOS TALES COMO OXIDOS DE SILICIO, SE ELIMINA SUSTANCIALMENTE.

UTIL DE CORTE Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.

(01/01/1994). Solicitante/s: KRUPP WIDIA GMBH. Inventor/es: KONIG, UDO.

PARA AUMENTAR LA RESISTENCIA AL IMPACTO Y A LA FRACTURA DE LOS ENCASTRES CORTANTES DEL METODO ANTERIOR SE PROPONE QUE SUS SUPERFICIES DE CORTE, EN PARTICULAR LAS SUPERFICIES PRINCIPALES, QUE ESTAN SUJETAS AL MAYOR TENSOR Y A TENSIONES DE COMPRESION DURANTE EL CORTE NO DEBERIAN ESTAR REVESTIDOS. EL REVESTIMIENTO SE APLICA SOLO EN LA REGION DEL CORTE CORTANTE EFECTIVO, PREFERENTEMENTE POR PLASMA CVD.

APARATO Y PROCESO PARA LA DEPOSICION DE UN LECHO FINO SOBRE UN SUSTRATO TRANSPARENTE, EN PARTICULAR, PARA LA MANUFACTURA DE HOJAS DE VIDRIO.

(01/11/1993). Solicitante/s: SOCIETA' ITALIANA VETRO- SIV-SPA. Inventor/es: MASSARELLI, LIBERTO, SEBASTIANO, FRANCESCO.

UN APARATO QUE COMPRENDE PLATOS CATODICOS ASI SITUADOS COMO PARA FORMAR LAS PAREDES DE UN PARALELEPIPEDO RECTANGULAR, CAPAZ DE PRODUCIR UN DESTELLANTE ATOMO PARA LA FORMACION DE UN LECHO FINO DEPOSITADO SOBRE UN SUSTRATO Y SIMULTANEAMENTE UN ION DESTELLANTE PARA EL BOMBEO DEL LECHO DURANTE SU FORMACION. EL PROCESO PARA LA DEPOSICION TAMBIEN SE DESCRIBE. LOS LECHOS FINOS PUEDEN FORMARSE SOBRE SUSTRATOS TRANSPARENTES DE GRAN TAMAÑO, PARA UTILIZARSE COMO HOJAS DE VIDRIO PARA EDIFICIOS Y VEHICULOS.

PERFECCIONAMIENTOS INTRODUCIDOS EN COLECTORES FOCALES DE RADIACION SOLAR.

(01/09/1987). Solicitante/s: ROSENDE BARTUREN,F JAVIER.

COLECTOR FOCAL DE RADIACION SOLAR. CONSTA DE UNA CAPA TRANSPARENTE A LA RADIACION SOLAR Y DE ESPESOR LO MAS FINO POSIBLE PARA DISMINUIR SU EMITANCIA, APLICADA SOBRE LA SUPERFICIE LISA DEL MATERIAL DEL RECEPTOR , TENIENDO QUE SER LA SUPERFICIE EXTERNA DE LA CAPA TRANSPARENTE PERFECTAMENTE PARALELA A LA SUPERFICIE DEL RECEPTOR. ENTRE LA SUPERFICIE DEL RECEPTOR Y LA CAPA TRANSPARENTE SE INTERCALA UNA CAPA METALICA.