Composición fotosensible sensible a los infrarrojos y precursor de placa litográfica fabricada usando el mismo.

Composición fotosensible sensible a los infrarrojos, que comprende una composición por su porcentaje en peso de:



* 30-70 % de resina reticulante térmica soluble en agua, dicha resina reticulante térmica soluble en agua es copolímero A multicomponente de vinilo uretanizado e insaturado con un peso molecular promedio en peso comprendido entre 5000 y 200000, que tiene una estructura química de:**Fórmula**

en la que R1 y R2 son hidrógeno o metilo, R3 es un grupo CH2≥C(CH3)COOCH2CH2NCO, R4 es un agrupo amida, un grupo éter polietoxilado o pirrolidona,

en la que m es el 40~70 % en peso de la unidad de copolímero, n es el 10~30 % en peso de la unidad de copolímero, o es el 10~30 % en peso de la unidad de copolímero, p es el 10~30 % en peso de la unidad de copolímero;

* 1-20 % de resina foto reticulante o polimérica soluble en agua, dicha resina foto reticulante o polimérica soluble en agua es un grupo de ácido sulfónico que contiene un copolímero B insaturado y soluble en agua, que tiene una estructura química de:**Fórmula**

en la que R3 es un grupo CH2≥C(CH3)COOCH2CH2NCO, R5 y R6 son hidrógeno o metilo, en la que x es el 20~40 % en peso de la unidad de copolímero, y es el 10~30 % en peso de la unidad de copolímero, z es el 30~50 % en peso de la unidad de copolímero;

* 10-50 % de oligómero fotopolimerizable;

* 1-30 % de monómero multifuncional;

* 1-20 % de iniciador de fotopolimerización catiónico, dicho iniciador de fotopolimerización catiónico es una sal de onio; y 1-20 % de tinte de absorción de irradiación infrarroja seleccionado a partir del grupo de: tintes azo, tintes de triarilamina, tintes de oxonol, tintes de cianina, tintes de merocianina, tintes de indocianina, tintes de ftalocianina, tintes de politiofeno, tintes azo de pirazolina, tintes de oxazina, tintes de naftoquinona, tintes de antraquinona, tintes de quinoneimina, tintes de metina y tintes de porfirina.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/CN2011/084553.

Solicitante: Lucky Huaguang Graphics Co., Ltd.

Nacionalidad solicitante: China.

Dirección: No.718 Station South Road Wolong District Nanyang Henan 473003 CHINA.

Inventor/es: WU,JUNJUN, TENG,FANGQIAN, YANG,QINGHAI, SONG,XIAOWEI, LI,HECHENG, WU,ZHAOYANG, CHEN,XIAOHONG, LIU,DONGLI.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B41C1/10 SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS.B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › B41C 1/00 Preparación de la forma o del cliché. › para la impresión litográfica; Hojas matriz para la transferencia de una imagen litográfica a la forma (B41C 1/055 tiene prioridad; neutralización o tratamientos similares de diferenciación de formas de impresión litográfica B41N 3/08).
  • G03F7/004 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
  • G03F7/027 G03F 7/00 […] › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).

PDF original: ES-2644505_T3.pdf

 

  • Fb
  • Twitter
  • G+
  • 📞

Patentes similares o relacionadas:

Procedimiento para la producción de elementos ópticos con estructura en gradiente y elemento óptico con estructura en gradiente, del 6 de Diciembre de 2017, de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH: Procedimiento para la obtención de elementos ópticos con estructura en gradiente, formándose la estructura en gradiente por medio de un gradiente de índice de […]

Composición para la producción de elementos ópticos con una estructura en gradiente, del 9 de Agosto de 2017, de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH: Composición para la producción de elementos ópticos con un gradiente de índices de refracción, caracterizada por que la composición comprende a) […]

Composición líquida resistente a soldadura y tarjeta de circuitos impresos revestida, del 3 de Mayo de 2017, de GOO CHEMICAL CO., LTD.: Una composición líquida resistente a soldadura que comprende: una resina que contiene grupos carboxilo; un compuesto fotopolimerizable que contiene al menos un […]

Placas de impresión sensibles a IR revelables en prensa que utilizan resinas ligantes que tienen segmentos de óxido de polietileno, del 22 de Junio de 2016, de EASTMAN KODAK COMPANY: Una placa de impresión litográfica de trabajo negativo que comprende (a) un sustrato y (b) aplicada al sustrato una capa de trabajo negativo que comprende […]

Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras, del 24 de Mayo de 2016, de UNIVERSIDAD AUTONOMA DE MADRID: Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras. La presente invención se refiere a una resina negativa fotosensible […]

Composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica, del 17 de Febrero de 2016, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica, caracterizada por que la composición contiene (A) polímeros hidrófobos obtenidos a […]

Copolímeros para composiciones de revestimiento sensibles a radiación en el infrarrojo cercano para planchas de impresión litográfica térmicas positivas, del 17 de Febrero de 2016, de Mylan Group: Un copolímero que tiene la estructura general:**Fórmula** en la que a, b y d son relaciones molares que varían entre 0,01 y 0,90 y […]

Imagen de 'PLACA ESTRUCTURADA REGENERABLE CON CATALIZADORES DE OXIDACIÓN' PLACA ESTRUCTURADA REGENERABLE CON CATALIZADORES DE OXIDACIÓN, del 26 de Abril de 2011, de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH: Procedimiento para la producción de una placa regenerable con superficie estructurada de regiones hidrófilas e hidrófobas, en el que se recubre con una capa […]