Barbotina de cerámica y vitrocerámica para estereolitografía.

Barbotina para la fabricación estereolitográfica de piezas moldeadas de cerámica o vitrocerámica,

que contiene

(a) por lo menos un monómero polimerizable por radicales,

(b) por lo menos un fotoiniciador y

(c) unas partículas de cerámica y/o de vitrocerámica,

caracterizada por que la misma contiene

(d) por lo menos un tensioactivo no iónico con un punto de fusión comprendido entre 30 ºC y 120 ºC.

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E15186958.

Solicitante: IVOCLAR VIVADENT AG.

Nacionalidad solicitante: Liechtensein.

Dirección: Bendererstrasse 2 9494 Schaan LIECHTENSTEIN.

Inventor/es: LAUBERSHEIMER,JÜRGEN, BONDERER,LORENZ JOSEF.

Fecha de Publicación: 24 de Abril de 2019.

Clasificación Internacional de Patentes:

A61K6/02
A61K6/027
G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F7/004 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
G03F7/027 G03F 7/00 […] › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).

PDF original: ES-2733838_T3.pdf

Patentes similares o relacionadas:

Procedimiento y dispositivo para producir un objeto multicelular tridimensional, del 29 de Julio de 2020, de TECHNISCHE UNIVERSITAT BERLIN: Procedimiento para producir un objeto multicelular tridimensional, con los pasos siguientes: a) introducción de un primer líquido fotopolimerizable […]

Proceso de moldeo por microtransferencia y sustrato modelado obtenible a partir del mismo, del 11 de Septiembre de 2019, de Université d'Aix-Marseille: Proceso que comprende las siguientes etapas sucesivas: (a) impregnar un molde blando provisto de al menos una cavidad con una capa de sol-gel recubierta sobre […]

Aparato para marcar substratos discretos con un sello flexible discreto, del 11 de Septiembre de 2019, de Morphotonics Holding B.V: Un aparato para el marcado sobre un substrato discreto con un sello flexible discreto que comprende a) al menos un primer sello flexible rectangular que tiene […]

CREACIÓN DE LENTES REGRABABLES, del 29 de Agosto de 2019, de INDIZEN OPTICAL TECHNOLOGIES OF AMERICA, LLC: Se describen procedimientos para la configuración de lentes. Un procedimiento incluye el borrado de una lente calentando la lente a una temperatura de borrado definida y grabando […]

Método para mejorar el rendimiento de impresión en placas de impresión flexográfica, del 21 de Agosto de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método de adaptación de la forma de una pluralidad de puntos de impresión en relieve creados en una preforma de impresión fotosensible durante un proceso de producción de […]

Formulación de fotopolímero para la producción de medios holográficos con polímeros de matriz altamente reticulados, del 24 de Junio de 2019, de Covestro Deutschland AG: Formulación de fotopolímero que comprende un componente de poliol, un componente de poliisocianato, un monómero de escritura y un fotoiniciador que contiene un coiniciador […]

Composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve y una placa original de impresión en relieve obtenida a partir de la misma, del 12 de Junio de 2019, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve que contiene como ingredientes esenciales poliamida soluble en agua o […]

Composición de poli- o prepolímero o laca de estampado, que comprende una composición de este tipo y utilización de la misma, del 5 de Junio de 2019, de Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH: Composición prepolimérica que contiene por lo menos un componente mono- u oligomérico con por lo menos un doble enlace C-C polimerizable y por lo menos un componente […]