Barbotina de cerámica y vitrocerámica para estereolitografía.

Barbotina para la fabricación estereolitográfica de piezas moldeadas de cerámica o vitrocerámica,

que contiene

(a) por lo menos un monómero polimerizable por radicales,

(b) por lo menos un fotoiniciador y

(c) unas partículas de cerámica y/o de vitrocerámica,

caracterizada por que la misma contiene

(d) por lo menos un tensioactivo no iónico con un punto de fusión comprendido entre 30 ºC y 120 ºC.

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E15186958.

Solicitante: IVOCLAR VIVADENT AG.

Nacionalidad solicitante: Liechtensein.

Dirección: Bendererstrasse 2 9494 Schaan LIECHTENSTEIN.

Inventor/es: LAUBERSHEIMER,JÜRGEN, BONDERER,LORENZ JOSEF.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • A61K6/02
  • A61K6/027
  • G03F7/00 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
  • G03F7/004 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
  • G03F7/027 G03F 7/00 […] › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).

PDF original: ES-2733838_T3.pdf

 

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