Procedimiento para fabricar formas de impresión flexográfica mediante exposición múltiple con LED de UV.
Procedimiento para fabricar formas de impresión flexográfica, en el cual se emplea como material de partida un elemento fotopolimerizable para impresión flexográfica que comprende al menos, de manera superpuesta:
• un soporte dimensionalmente estable y
• al menos una capa fotopolimerizable formadora de relieve, que comprende al menos un agente aglutinante elastomérico, un compuesto etilénicamente insaturado y un fotoiniciador,
• una capa apta para la formación digital de imágenes,
y el procedimiento comprende al menos los siguientes pasos:
(a) producir una máscara mediante formación de imagen en la capa apta para la formación digital de imágenes,
(b) exponer con luz actínica a través de la máscara la capa fotopolimerizable formadora de relieve, y fotopolimerizar las zonas de imagen de la capa, y
(c) revelar la capa fotopolimerizada mediante arrastre por lavado de las zonas no fotopolimerizadas de la capa formadora de relieve con un disolvente orgánico o mediante revelado térmico, caracterizado por que
el paso (b) comprende dos o más ciclos (b-1) a (b-n) de exposición con luz actínica de una intensidad de 100 a 5.000 mW/cm2 desde una pluralidad de LED de UV, ascendiendo la energía aplicada a la capa fotopolimerizable formadora de relieve, por cada ciclo de exposición, a 0,1 hasta 5 J/cm2.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2015/079930.
Solicitante: FLINT GROUP GERMANY GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: SIEGLESTRASSE 25 70469 STUTTGART ALEMANIA.
Inventor/es: BEYER,MATTHIAS, FRONCZKIEWICZ,PETER, WENDLAND,THORBEN.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/027 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).
- G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
- G03F7/32 G03F 7/00 […] › Composiciones líquidas a este efecto, p. ej. reveladores.
- G03F7/36 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen no cubierta por los grupos G03F 7/30 - G03F 7/34, p. ej. utilizando una corriente gaseosa, un plasma.
PDF original: ES-2786320_T3.pdf
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