Composición de resina fotosensible para placa original de impresión flexográfica CTP, y placa original de impresión flexográfica preparada a partir de ella.

Una composición de resina fotosensible para la placa original de impresión flexográfica CTP que contiene al menos un polímero hidrófobo obtenido a partir de látex dispersable en agua (A),

un polímero hidrófilo (B), un compuesto insaturado fotopolimerizable (C) y un iniciador de fotopolimerización (D), caracterizada por que, el compuesto fotopolimerizable insaturado (C) comprende un oligómero fotopolimerizable que no contiene grupo hidroxilo (C-1), un monómero fotopolimerizable que contiene grupo hidroxilo que tiene un peso molecular promedio en peso de 200 a 1500 y que tiene un esqueleto de pentaeritritol, un esqueleto de dipentaeritritol o un esqueleto de glicerol (C-2) y, opcionalmente, un monómero fotopolimerizable que no contiene grupo hidroxilo (C-3), en donde el contenido del grupo hidroxilo que contiene monómero fotopolimerizable (C-2) es del 1 al 20% en masa de la composición de resina fotosensible, en donde la composición contiene además caucho (E) para impartir elasticidad al caucho a la composición de resina fotosensible y el contenido del caucho (E) es del 0,5 al 15% en masa de la composición de resina fotosensible.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2013/058284.

Solicitante: TOYOBO CO., LTD..

Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, YAWATA,YUKIMI, YAMADA,HIROTO.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
  • G03F7/027 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).

PDF original: ES-2735628_T3.pdf

 

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