Composición de resina fotosensible para placa original de impresión flexográfica CTP, y placa original de impresión flexográfica preparada a partir de ella.

Una composición de resina fotosensible para la placa original de impresión flexográfica CTP que contiene al menos un polímero hidrófobo obtenido a partir de látex dispersable en agua (A),

un polímero hidrófilo (B), un compuesto insaturado fotopolimerizable (C) y un iniciador de fotopolimerización (D), caracterizada por que, el compuesto fotopolimerizable insaturado (C) comprende un oligómero fotopolimerizable que no contiene grupo hidroxilo (C-1), un monómero fotopolimerizable que contiene grupo hidroxilo que tiene un peso molecular promedio en peso de 200 a 1500 y que tiene un esqueleto de pentaeritritol, un esqueleto de dipentaeritritol o un esqueleto de glicerol (C-2) y, opcionalmente, un monómero fotopolimerizable que no contiene grupo hidroxilo (C-3), en donde el contenido del grupo hidroxilo que contiene monómero fotopolimerizable (C-2) es del 1 al 20% en masa de la composición de resina fotosensible, en donde la composición contiene además caucho (E) para impartir elasticidad al caucho a la composición de resina fotosensible y el contenido del caucho (E) es del 0,5 al 15% en masa de la composición de resina fotosensible.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2013/058284.

Solicitante: TOYOBO CO., LTD..

Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, YAWATA,YUKIMI, YAMADA,HIROTO.

Fecha de Publicación: 5 de Junio de 2019.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F7/027 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).

PDF original: ES-2735628_T3.pdf

Patentes similares o relacionadas:

Procedimiento y dispositivo para producir un objeto multicelular tridimensional, del 29 de Julio de 2020, de TECHNISCHE UNIVERSITAT BERLIN: Procedimiento para producir un objeto multicelular tridimensional, con los pasos siguientes: a) introducción de un primer líquido fotopolimerizable […]

Proceso de moldeo por microtransferencia y sustrato modelado obtenible a partir del mismo, del 11 de Septiembre de 2019, de Université d'Aix-Marseille: Proceso que comprende las siguientes etapas sucesivas: (a) impregnar un molde blando provisto de al menos una cavidad con una capa de sol-gel recubierta sobre […]

Aparato para marcar substratos discretos con un sello flexible discreto, del 11 de Septiembre de 2019, de Morphotonics Holding B.V: Un aparato para el marcado sobre un substrato discreto con un sello flexible discreto que comprende a) al menos un primer sello flexible rectangular que tiene […]

CREACIÓN DE LENTES REGRABABLES, del 29 de Agosto de 2019, de INDIZEN OPTICAL TECHNOLOGIES OF AMERICA, LLC: Se describen procedimientos para la configuración de lentes. Un procedimiento incluye el borrado de una lente calentando la lente a una temperatura de borrado definida y grabando […]

Método para mejorar el rendimiento de impresión en placas de impresión flexográfica, del 21 de Agosto de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método de adaptación de la forma de una pluralidad de puntos de impresión en relieve creados en una preforma de impresión fotosensible durante un proceso de producción de […]

Formulación de fotopolímero para la producción de medios holográficos con polímeros de matriz altamente reticulados, del 24 de Junio de 2019, de Covestro Deutschland AG: Formulación de fotopolímero que comprende un componente de poliol, un componente de poliisocianato, un monómero de escritura y un fotoiniciador que contiene un coiniciador […]

Composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve y una placa original de impresión en relieve obtenida a partir de la misma, del 12 de Junio de 2019, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve que contiene como ingredientes esenciales poliamida soluble en agua o […]

Composición de poli- o prepolímero o laca de estampado, que comprende una composición de este tipo y utilización de la misma, del 5 de Junio de 2019, de Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH: Composición prepolimérica que contiene por lo menos un componente mono- u oligomérico con por lo menos un doble enlace C-C polimerizable y por lo menos un componente […]