PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE ESTRUCTURAS POLIMERICAS MICROFLUIDICAS.

La presente invención se refiere a un procedimiento para la fabricación de estructuras microfluídicas de alta resolución mediante la modificación de la temperatura de sellado y de fotolitografía.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: IKERLAN, CENTRO DE INVESTIGACIONES TECNOLOGICAS, S.COOP.

Nacionalidad solicitante: España.

Provincia: GUIPÚZCOA.

Inventor/es: BLANCO BARRO,FRANCISCO JAVIE, ELIZALDE GARCIA,JORGE, RUANO LOPEZ,JESUS MIGUEL.

Fecha de Solicitud: 12 de Enero de 2006.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 10 de Julio de 2007.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B81C1/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B81 TECNOLOGIA DE LAS MICROESTRUCTURAS.B81C PROCEDIMIENTOS O APARATOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA LA FABRICACION O EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS O SISTEMAS DE MICROESTRUCTURA (fabricación de microcápsulas o de microbolas B01J 13/02; procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de elementos piezoeléctricos o electroestrictivos o magnetoestrictivos en sí H01L 41/22). › Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).
  • B81C3/00 B81C […] › Unión de dispositivos o de sistemas a partir de componentes que han recibido un tratamiento individual.
  • G03F7/11 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › con capas de recubrimiento o capas intermedias, p. ej. capas de anclaje.
  • G03F7/26 G03F 7/00 […] › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
  • G03F7/30 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen utilizando medios líquidos.

Clasificación PCT:

  • B81C1/00 B81C […] › Fabricación o tratamiento de dispositivos o de sistemas en o sobre un substrato (B81C 3/00 tiene prioridad).
  • B81C3/00 B81C […] › Unión de dispositivos o de sistemas a partir de componentes que han recibido un tratamiento individual.
  • G03F7/11 G03F 7/00 […] › con capas de recubrimiento o capas intermedias, p. ej. capas de anclaje.
  • G03F7/26 G03F 7/00 […] › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
  • G03F7/30 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen utilizando medios líquidos.
PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE ESTRUCTURAS POLIMERICAS MICROFLUIDICAS.

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