Método y aparato para la fotopolimerización y el lavado en serie de planchas de impresión digital para flexografía.

Método para la fotopolimerización y el lavado en serie de planchas de impresión flexográficas que comprende las siguientes etapas:



- disponer en serie una unidad de exposición (2) y una estación de lavado (3) que comprende un medio de alimentación (4) de la plancha de impresión (10), adaptado para mover dicha plancha desde dicha unidad de exposición (2) hasta dicha estación de lavado (3);

- determinar una velocidad de alimentación (Va) de la plancha de impresión de acuerdo con los parámetros de lavado;

- detectar, mediante un sensor de luminosidad (6), la intensidad luminosa (I5R) de la fuente de luz (5) de la unidad de exposición;

- comparar, mediante una unidad de control central, el valor de intensidad luminosa detectado (I5R) y el valor de velocidad de alimentación (Va) con los valores de intensidad luminosa deseados (I5D) en función del tiempo de exposición almacenado de forma preventiva en la unidad de control;

- ajustar la intensidad luminosa de la fuente de luz (5) de la unidad de exposición hasta que la intensidad luminosa detectada sea igual al valor de intensidad luminosa deseado (I5R ≥ I5D).

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/IB2013/053042.

Solicitante: SASU VIANORD ENGINEERING.

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: 3e Casier Ilot U Lot 17 Z.I. 1ere Avenue 4889 06510 Carros FRANCIA.

Inventor/es: DE CARIA,RICCARDO.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/20 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
  • G03F7/30 G03F 7/00 […] › Eliminación según la imagen utilizando medios líquidos.

PDF original: ES-2663880_T3.pdf

 

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