152 patentes, modelos y diseños de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH

(22/07/2020) Un método para incrementar la resistencia a la corrosión de un sustrato que comprende una capa de aleación de cromo externa, el método comprende las etapas de (i) proporcionar un sustrato que comprende dicha capa externa, la capa - - tiene un espacio de color definido por CIELAB con una luminosidad L* de 79 o más, - comprende oxígeno y carbono, y - comprende hierro en una cantidad total de 0% átomos a 1% átomos, basado en el número total de átomos en dicha capa externa, (ii) proporcionar una disolución de pasivación ácida acuosa, la disolución comprende - iones de cromo trivalente, - iones fosfato, - uno o más de un anión de un resto de ácido orgánico, (iii) poner en contacto el sustrato con la disolución de pasivación y hacer…

(25/03/2020) Un método de recuperación de iones de níquel de un baño de electrodeposición de níquel o un baño de niquelado no electrolítico o un agua de enjuague de níquel que contiene los iones de níquel, comprendiendo el método: a) cargar los iones de níquel, en una etapa de carga, en al menos un material de intercambio catiónico que forma al menos un lecho de adsorción (SB) que tiene un volumen de lecho de adsorción que está comprendido en al menos un recipiente (C) poniendo el baño de electrodeposición de níquel o el baño de niquelado no electrolítico o el agua de enjuague de níquel que contiene los iones de níquel en contacto con dicho al menos un material de intercambio catiónico, en donde dicho lecho de adsorción (SB) tiene una altura de lecho de adsorción y una anchura de lecho de adsorción,…

(11/03/2020) Baño electrolítico para la electrodeposición de una capa de zinc o de aleación de zinc, en donde el baño electrolítico contiene un polímero con la siguiente Fórmula I A -[-L-A-]n-L-A (I) en donde A representa una unidad que se deriva de un compuesto diamino de una de las siguientes Fórmulas II a VII **(Ver fórmula)** en donde X e Y pueden ser en cada caso iguales o diferentes y representan O o NR, en donde R es H o alquilo C1-C6, Z puede ser en cada caso igual o diferente y representa O o S, R1, R2, R5 y R6 pueden ser en cada caso iguales o diferentes y representan un radical hidrocarbonado sustituido o no sustituido que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, y R3, R4, R8 pueden ser en cada caso iguales o diferentes y representan (CH2)p, en donde p representa un número entero de 2 a 12, o un grupo -[CH2CH2O]n-CH2CH2-,…

(08/01/2020) Una composición decapante no acuosa, que comprende: A- al menos un disolvente de alto punto de ebullición a una concentración de 70% en peso a 95% en peso, seleccionado entre el grupo que consiste en alcoholes que tienen la fórmula química general R-OH, donde R es un grupo hidrocarbonado C4-C30, donde el disolvente de alto punto de ebullición tiene un punto 5 de ebullición de al menos 100 ºC; B- al menos un co-disolvente de alto punto de ebullición a una concentración de 2% en peso a 20% en peso, seleccionado entre el grupo que consiste en compuestos glicoles, éteres de glicol y amina de alto punto de ebullición,…

(18/12/2019) Un baño de galvanoplastia para deposición de una capa de cromo oscuro sobre una pieza de trabajo, comprendiendo el baño de galvanoplastia: (A) iones de cromo trivalente; (B) iones carboxilato que son iones citrato, iones malato o mezclas de los mismos; (C) al menos una sustancia amortiguadora de pH; y (D) una mezcla de uno o más agentes de coloración seleccionados del grupo de compuestos que contienen azufre según la Fórmula (I) con uno o más agentes de coloración seleccionados del grupo de compuestos que contienen azufre según la Fórmula (II) **(Ver fórmula)** donde n, p, q son, independientemente…

(18/09/2019) Baño de galvanoplastia de cobre ácido acuoso que comprende: - iones cobre; - al menos un ácido; - iones haluro; - al menos un compuesto que contiene azufre seleccionado del grupo que consiste en 3-mercaptopropilsulfonato de sodio, disulfuro de bis(sodiosulfopropilo), ácido 3-(N,N-dimetiltiocarbamoil)-tiopropanosulfónico o la sal de sodio respectiva de los mismos y mezclas de los mencionados anteriormente; - al menos un producto de reacción de amina de dietilamina con epiclorhidrina o un producto de reacción de amina de isobutilamina con epiclorhidrina o mezclas de estos productos de reacción en donde el al menos un producto de reacción de amina de…

(04/09/2019) Método para depositar electrolíticamente una capa de aleación de zinc-níquel en al menos un sustrato a tratar, en el que el método comprende las siguientes etapas del método: i. proporcionar un recipiente de reacción de electrólisis que comprende al menos un ánodo de zinc soluble y al menos un ánodo de níquel soluble; ii. proporcionar un electrolito ácido que comprende al menos una fuente de iones de zinc y al menos una fuente de iones de níquel; iii. llenar el recipiente de reacción de electrólisis de la etapa (i) del método con el electrolito ácido de la etapa (ii) del método; iv. proporcionar al menos un sustrato…

(18/06/2019) Un método para pasivar electrolíticamente una capa de aleación de cromo más externa o de cromo más externa para incrementar la resistencia a la corrosión de la misma, comprendiendo el método las etapas de (i) proporcionar un sustrato que comprende dicha capa de aleación de cromo más externa o de cromo más externa, (ii) proporcionar o preparar una disolución de pasivación ácida acuosa, comprendiendo la disolución - iones cromo trivalente, - iones fosfato, - un o más de un anión de resto ácido orgánico, (iii) poner en contacto el sustrato con la disolución de pasivación y hacer pasar una corriente eléctrica entre el sustrato como cátodo y un ánodo en la disolución de pasivación tal…

(15/05/2019) Una composición de electrodeposición para la deposición electrolítica de cobre, que comprende iones de cobre, iones haluro y al menos un ácido, caracterizada por que la composición de electrodeposición comprende, además (a) al menos un compuesto de benzotiazol representado por la siguiente fórmula (BT) **(Ver fórmula)** en donde RBT1 se selecciona del grupo que consiste en grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo arilo sustituido y no sustituido y grupo alcarilo sustituido y no sustituido; RBT2 y RBT3 son independientemente grupos alquilo sustituidos y no sustituidos; cada uno de RBT4, RBT5, RBT6 y RBT7 se selecciona independientemente del grupo que consiste en hidrógeno, grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo oxialquilo sustituido y no sustituido y **(Ver…

(13/05/2019) Un procedimiento para el recubrimiento no electrolítico (autocatalítico) de metales y aleaciones metálicas, en este orden, las etapas de i. Proporcionar un sustrato que comprende una superficie modelada de cobre, ii. Poner en contacto dicho sustrato con una composición que contiene iones de un metal noble, iii. Poner en contacto dicho sustrato con una composición acuosa de pretratamiento que comprende un ácido, una fuente de iones haluro y un aditivo seleccionado del grupo que consiste en tiourea, compuestos de acuerdo con la fórmula **Fórmula** 10 en donde R1, R2 y R3 se seleccionan independientemente del grupo que consiste en H, alquilo de C1 a C6 sustituido y alquilo…

(01/05/2019) método para monitorizar la cantidad total de abrillantadores presentes en un baño de recubrimiento ácido de cobre o de una aleación de cobre, durante un proceso de recubrimiento de cobre/aleación de cobre, en donde el método comprende las siguientes etapas: (a) proporcionar una muestra del baño de recubrimiento de dicho baño de recubrimiento, en donde el baño de recubrimiento comprende lo siguiente: (a-1) un abrillantador o más, seleccionado del grupo que consiste en**Fórmula** y**Fórmula** en donde: n y m son independientemente 1, 2, 3, 4 o 5 y p es independientemente 0, 1 o 2, (a-2) iones de cobre (a-3) iones de cloruro, (b) añadir a la muestra…

(22/03/2019) Un método de galvanizado para la fabricación de contactos eléctricos en un módulo solar , comprendiendo el método, en este orden, las etapas de (i) proporcionar un panel de células solares montado sobre un sustrato de soporte , las células solares separadas entre sí por una separación horizontal , que tiene una superficie expuesta que comprende al menos una zona de contacto en cada célula solar, y en donde las células solares son células solares de contacto posterior a base de silicio, (ii) depositar un protector antigalvánico sobre la superficie expuesta del panel de células solares y la separación horizontal entre las células solares, (iii) formar al menos primera y segunda aberturas en el protector antigalvánico, en donde las segundas aberturas están formadas para…

(07/11/2018) Un baño de chapado no electrolítico de níquel, exento de amoníaco y plomo, para el revestimiento de aleaciones fosforosas de níquel que tienen un contenido fosforoso de 5 a 11% en peso, que comprende I un origen de iones níquel, II un origen de iones hipofosfitos, III una mezcla de complejantes que comprende (a) por lo menos un primer complejante seleccionado del grupo que consiste en ácidos hidroxicarboxílicos, ácidos dihidroxicarboxílicos y sus sales, en el que la concentración del por lo menos un primer complejante está en el intervalo de 1 a 50 g/l, y (b) por lo menos un segundo complejante seleccionado del grupo que consiste en ácido iminosuccínico, ácido…

(19/09/2018) Una composición de baño ácido para recubrimiento con zinc o una aleación de zinc-níquel que comprende una fuente de iones de zinc, una fuente de iones cloruro y que tiene un valor de pH en el intervalo de 2 a 6,5, la concentración de iones de zinc oscila entre 5 y 100 g/L, en donde la composición de baño ácido para recubrimiento con aleación de zinc-níquel comprende además una fuente de iones de níquel, y en donde la composición de baño ácido para recubrimiento con zinc o aleación de zinc-níquel comprende además al menos un ácido ditiocarbamil alquil sulfónico, o una sal del mismo, representado por la fórmula (I) (R1R2)N-C(S)S-R3-SO3R4 (I) en donde R1 y R2…

(16/11/2016) Aparato para un revestimiento galvánico de un producto a tratar que presenta una cavidad con una superficie interior a recubrir, configurándose el aparato para un acoplamiento separable a un recipiente de tratamiento y comprendiendo: una primera parte de bastidor que presenta un primer electrodo para sujetar y contactar eléctricamente el producto a tratar , y una segunda parte de bastidor que presenta un soporte para un segundo electrodo , configurándose el soporte para fijar el segundo electrodo de manera que el segundo electrodo penetre en la cavidad del producto a tratar sujetado por el primer electrodo sin entrar en contacto con el producto a tratar , siendo el soporte un perno de contacto , uniéndose mecánicamente entre sí la primera parte del bastidor y el soporte y asilándose eléctricamente de forma recíproca…

(05/10/2016) Baño galvánico de electrodeposición con níquel o aleación de níquel para depositar un revestimiento de níquel semibrillante o aleación de níquel caracterizado porque el baño de electrodeposición comprende al menos un compuesto que tiene la fórmula general (I)**Fórmula** en la que R1 ≥ un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo SO3 -, un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo carboxílico, o un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un al menos un grupo aromático y/o un grupo heteroaromático; R2 ≥ un resto NR3R4, un resto OR5, o un resto cíclico NR6, en donde R3, R4, R5 ≥ hidrógeno o un resto de…

(20/07/2016) Un método para aumentar la adherencia entre una superficie de cromo y un barniz que comprende, en este orden, las etapas de (i) proporcionar un sustrato que comprende una superficie de cromo, (ii) poner en contacto dicho sustrato con una disolución acuosa que comprende al menos un compuesto de fósforo según las fórmulas 1 y/o 2 R1-P(O)(OR2R3) 1 R1-O-P(O)(OR2R3) 2 en donde R1 es un grupo alquilo C1 a C12, lineal, ramificado o cíclico, y que comprende al menos un resto seleccionado del grupo que consiste en fosfonato, fosfato, carboxilato, carboxilo, hidroxilo, amino, amida, tiol, nitrilo, isonitrilo, cianato, isocianato, epoxi, halogenuro, alquenilo, ureido y tioureido, y R2 y R3 se seleccionan independientemente del grupo que consiste en hidrógeno, litio, sodio, potasio, amonio…

(22/06/2016) Un baño de chapado no electrolítico para la deposición de cobre, níquel, cobalto o sus aleaciones que comprende por lo menos una fuente de iones metálicos y por lo menos un agente reductor, caracterizado por el hecho de que el baño de chapado no electrolítico comprende además un modificador de la velocidad de chapado según la fórmula (I)**Fórmula** en la que los restos monovalentes de R1 a R2, el grupo terminal Y y un grupo separador divalente Z y un índice n se seleccionan de los siguientes grupos - R1 se selecciona del grupo que consiste en -O-R3 y -NH-R4 en la que R3 se selecciona de hidrógeno, litio, sodio, potasio, rubidio, cesio, amonio, alquilo, arilo, y R4 se selecciona de hidrógeno, alquilo y arilo; - R2 se selecciona del grupo que consiste en hidrógeno,…

(25/05/2016) Un método para la protección de una superficie de cromo contra la corrosión catódica, comprendiendo el método, en este orden, las etapas de: (i) proporcionar un sustrato con una superficie de cromo y al menos una capa intermedia entre el sustrato y la superficie de cromo, seleccionada del grupo que consiste en níquel, aleaciones de níquel, cobre y aleaciones de cobre, (ii) poner en contacto dicho sustrato con una disolución acuosa que comprende al menos un compuesto que contiene fósforo conforme a las fórmulas II y V**Fórmula** en las que R se selecciona del grupo que consiste en H, alquilo C1-C20 sin sustituir, lineal o ramificado, alquil(C1-C6)arilo sin sustituir, lineal o ramificado,…