Composiciones de electrodeposición para deposición electrolítica de cobre, su uso y un método para depositar electrolíticamente una capa de cobre o aleación de cobre sobre al menos una superficie de un sustrato.

Una composición de electrodeposición para la deposición electrolítica de cobre,

que comprende iones de cobre, iones haluro y al menos un ácido,

caracterizada por que la composición de electrodeposición comprende, además

(a) al menos un compuesto de benzotiazol representado por la siguiente fórmula (BT)

**(Ver fórmula)**

en donde RBT1 se selecciona del grupo que consiste en grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo arilo sustituido y no sustituido y grupo alcarilo sustituido y no sustituido;

RBT2 y RBT3 son independientemente grupos alquilo sustituidos y no sustituidos;

cada uno de RBT4, RBT5, RBT6 y RBT7 se selecciona independientemente del grupo que consiste en hidrógeno, grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo oxialquilo sustituido y no sustituido y

**(Ver fórmula)**

en donde RBT8 se selecciona del grupo que consiste en grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo arilo sustituido y no sustituido y grupo alcarilo sustituido y no sustituido;

cada uno de RBT9, RBT10, RBT11 y RBT12 se selecciona independientemente del grupo que consiste en hidrógeno, grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo oxialquilo sustituido y no sustituido y grupo ácido sulfónico;

(b) al menos un colorante de fenanzina; y

(c) al menos un derivado de etanodiamina representado por la siguiente fórmula (ED)

**(Ver fórmula)**

en donde RED1, RED2, RED3 y RED4 se seleccionan independientemente del grupo que consiste en grupo oligo(oxialcanodiilo) sustituido y no sustituido; y grupo poli(oxialcanodiilo) sustituido y no sustituido.

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E17200836.

Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Erasmusstraße 20 10553 Berlin ALEMANIA.

Inventor/es: KRETSCHMER, STEFAN, WACHTER,PHILIPP, PFIRRMANN,CHRISTINA.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D3/38 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de cobre.

PDF original: ES-2800292_T3.pdf

 

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