Composiciones de electrodeposición para deposición electrolítica de cobre, su uso y un método para depositar electrolíticamente una capa de cobre o aleación de cobre sobre al menos una superficie de un sustrato.
Una composición de electrodeposición para la deposición electrolítica de cobre,
que comprende iones de cobre, iones haluro y al menos un ácido,
caracterizada por que la composición de electrodeposición comprende, además
(a) al menos un compuesto de benzotiazol representado por la siguiente fórmula (BT)
**(Ver fórmula)**
en donde RBT1 se selecciona del grupo que consiste en grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo arilo sustituido y no sustituido y grupo alcarilo sustituido y no sustituido;
RBT2 y RBT3 son independientemente grupos alquilo sustituidos y no sustituidos;
cada uno de RBT4, RBT5, RBT6 y RBT7 se selecciona independientemente del grupo que consiste en hidrógeno, grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo oxialquilo sustituido y no sustituido y
**(Ver fórmula)**
en donde RBT8 se selecciona del grupo que consiste en grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo arilo sustituido y no sustituido y grupo alcarilo sustituido y no sustituido;
cada uno de RBT9, RBT10, RBT11 y RBT12 se selecciona independientemente del grupo que consiste en hidrógeno, grupo alquilo sustituido y no sustituido, grupo oxialquilo sustituido y no sustituido y grupo ácido sulfónico;
(b) al menos un colorante de fenanzina; y
(c) al menos un derivado de etanodiamina representado por la siguiente fórmula (ED)
**(Ver fórmula)**
en donde RED1, RED2, RED3 y RED4 se seleccionan independientemente del grupo que consiste en grupo oligo(oxialcanodiilo) sustituido y no sustituido; y grupo poli(oxialcanodiilo) sustituido y no sustituido.
Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E17200836.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: Erasmusstraße 20 10553 Berlin ALEMANIA.
Inventor/es: KRETSCHMER, STEFAN, WACHTER,PHILIPP, PFIRRMANN,CHRISTINA.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- C25D3/38 QUIMICA; METALURGIA. › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de cobre.
PDF original: ES-2800292_T3.pdf
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