Baño de galvanoplastia y método para producir capas de cromo oscuro.

Un baño de galvanoplastia para deposición de una capa de cromo oscuro sobre una pieza de trabajo,

comprendiendo el baño de galvanoplastia:

(A) iones de cromo trivalente;

(B) iones carboxilato que son iones citrato, iones malato o mezclas de los mismos;

(C) al menos una sustancia amortiguadora de pH; y

(D) una mezcla de uno o más agentes de coloración seleccionados del grupo de compuestos que contienen azufre según la Fórmula (I) con uno o más agentes de coloración seleccionados del grupo de compuestos que contienen azufre según la Fórmula (II)

**(Ver fórmula)**

donde

n, p, q son, independientemente uno de otro, números enteros de 0 a 4;

R1 representa -H, -OH, -COOH, -CO-OCH3, -CO-OCH2-CH3, -(-O-CH2-CH2-)m-OH, -CH(-NH2)-COOH, -CH(-NH-CH3)- COOH, -CH(-N(-CH3)2)-COOH, -CH(-NH2)-CO-OCH3, -CH(-NH2)-CO-OCH2-CH3, -CH(-NH2)-CH2-OH, -CH(-NH-CH3)-CH2-OH, -CH(-N(-CH3)2)-CH2-OH, -SO3H;

m representa un número entero de 5 a 15;

R2 representa -H, -OH, -(CH2-)p-OH, -(CH2-)p-C(-NH2)=NH, -CH2-CH2-(-O-CH2-CH2-)m-OH, -R5, -(CH2-)q-COOH, -(CH2- )q-CO-OCH3, -(CH2-)q-CO-OCH2-CH3, -(CH2-)q-S-(CH2-)2-OH, -CS-CH3, -CS-CH2-CH3, -CS-CH2-CH2-CH3,

**(Ver fórmula)**

R1 y R2 representan juntos una estructura de cadena lineal con el fin de construir una de las siguientes estructuras de anillo que incluyen el átomo de azufre central de Fórmula (I)

**(Ver fórmula)**

R5 representa -H, -CH3, -CH2-CH3, -CH2-CH2-CH3, -CH2-CH2-CH2-CH3;

R6, R7, R8, R9 representan independientemente uno de otro -H, -NH2, -SH, -OH, -CH3, -CH2-CH3, -COOH, -SO3H; y

donde R1 no es H si R2 es H o R2 no es H si R1 es H;

o sales, formas tautoméricas, estructuras de betaína de los mismos, y**(Ver fórmula)**

donde

=X representa =O, una pareja de electrones libres;

R3 representa -R5, -CH=CH2, -CH2-CH=CH2, -CH=CH-CH3, -CH2-CH2-CH=CH2, -CH2-CH=5 CH-CH3, -CH=CH-CH2- CH3, -C&equi;CH, -CH2-C&equi;CH, -C&equi;C-CH3, -CH2-CH2-C&equi;CH, -CH2-C&equi;C-CH3, -C&equi;C-CH2-CH3, -C(-NH2)=NH,

**(Ver fórmula)**

R4 representa -R5, -OR5, -(CH2-)r-CH(-NH2)-COOH, -(CH2-)r-CH(-NH-CH3)-COOH, -(CH2-)-CH(-N(-CH3)2)-COOH, - (CH2-)r-CH(-NH2)-CO-OCH3, -(CH2-)r-CH(-NH2)-CO-OCH2-CH3;

r es un número entero de 0 a 4;

R3 y R4 representan juntos una estructura de cadena lineal con el fin de construir una de las siguientes estructuras de anillo que incluyen el átomo de azufre central de Fórmula (II)

**(Ver fórmula)**

R10 representa -H, -CH3, -CH2-CH3, -CH2-CH2-SO3H;

o sales, formas tautoméricas, estructuras de betaína de los mismos, y

donde el baño de galvanoplastia está exento de iones cloruro,

donde el baño de galvanoplastia comprende además iones sulfato,

donde la concentración de iones carboxilato en el baño de galvanoplastia varía de 5 g/l a 35 g/l, y

donde la concentración de la sustancia amortiguadora del pH en el baño de galvanoplastia varía de 50 g/l a 250 g/l.

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E14198132.

Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Erasmusstraße 20 10553 Berlin ALEMANIA.

Inventor/es: SCHULZ, KLAUS-DIETER, HARTMANN,DR. PHILIP, WACHTER,PHILIPP.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D3/06 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › a partir de soluciones de cromo trivalente.
  • C25D3/08 C25D 3/00 […] › Deposición de cromo negro.
  • C25D3/10 C25D 3/00 […] › caracterizadas por los constituyentes orgánicos utilizados en el baño.

PDF original: ES-2774265_T3.pdf

 

Patentes similares o relacionadas:

Imagen de 'Electrólito para galvanoplastia'Electrólito para galvanoplastia, del 25 de Marzo de 2020, de UNIVERSITY OF LEICESTER: Un electrólito para la electrodeposición de cromo que comprende: (A) de un 10 a un 25 % en peso de agua; (B) al menos una sal de cromo; (C) al menos […]

Composición acuosa de electrolito que tiene una emisión aérea reducida, del 6 de Noviembre de 2019, de MacDermid Enthone Inc: Composición acuosa de electrolito para depositar una capa metálica sobre una superficie de sustrato, en donde la composición comprende al menos iones del metal que se van […]

Recubrimiento de aleación de cromo con una resistencia aumentada a la corrosión en entorno de cloruro de calcio, del 16 de Abril de 2019, de MacDermid Acumen, Inc: Una solución de electrodeposición de cromo, que comprende: a. una sal de cromo trivalente soluble en agua; b. más de un agente formador de complejos para iones […]

Depósito de cromo cristalino, del 7 de Marzo de 2018, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Un depósito de cromo funcional cristalino que tiene un parámetro de red de 2,8895 ± 0,0025 Å, en el que el depósito de cromo funcional […]

Baño de electrometalizado y método para producir capas de cromo oscuras, del 13 de Abril de 2016, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Un baño de electrometalizado para deposición de una capa de cromo oscura sobre una pieza a máquina, comprendiendo el baño de electrometalizado: (A) iones […]

Procedimiento para la segregación de cromo duro a partir de electrolitos exentos de Cr(VI), del 17 de Diciembre de 2014, de TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN: Procedimiento para la segregación galvánica de cromo duro sobre un sustrato a partir de una solución electrolítica que contiene Cr(II) o mezclas de Cr(II) […]

Capa de cromo funcional con resistencia a la corrosión mejorada, del 22 de Octubre de 2014, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Un baño de galvanoplastia acuoso para depositar una capa de cromo funcional, que comprende (i) una fuente de iones cromo (VI), (ii) una fuente de […]

PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA A PARTIR DE UNA SOLUCION QUE CONTIENE CROMO, del 1 de Febrero de 2009, de ENTHONE-OMI (DEUTSCHLAND) GMBH: Procedimiento para el revestimiento de materiales, especialmente de materiales metálicos, en el que, para la formación de una capa resistente a la corrosión […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .