Baño galvánico de electrodeposición de níquel o aleación de níquel para depositar un níquel semibrillante o aleación de níquel, método de electrodeposición y uso de tal baño y compuestos para el mismo.

Baño galvánico de electrodeposición con níquel o aleación de níquel para depositar un revestimiento de níquel semibrillante o aleación de níquel caracterizado porque el baño de electrodeposición comprende al menos un compuesto que tiene la fórmula general (I)**Fórmula**

en la que R1 ≥

un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo SO3 -, un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo carboxílico, o un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un al menos un grupo aromático y/o un grupo heteroaromático;

R2 ≥ un resto NR3R4, un resto OR5, o un resto cíclico NR6, en donde

R3, R4, R5 ≥ hidrógeno o un resto de hidrocarburo C1 - C18 o un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con al menos un grupo aromático y/o un grupo heteroaromático, en donde R3, R4 y R5 son iguales o diferentes;

R6 ≥ un resto de hidrocarburo C3 - C8 o un resto de hidrocarburo C3 - C8 en el que al menos un átomo de carbono está sustituido por un heteroátomo; y

n ≥ 1 - 3.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2014/055649.

Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Erasmusstraße 20 10553 Berlin ALEMANIA.

Inventor/es: BRUNNER, HEIKO, SCHULZ, KLAUS-DIETER, HARTMANN,PHILIP, KOHLMANN,LARS, WACHTER,PHILIPP, BRIESE,MIKE, RICHTER,RICHARD.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D3/18 QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › Compuestos heterocíclicos.
  • C25D3/56 C25D 3/00 […] › de aleaciones.

PDF original: ES-2609384_T3.pdf

 

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