CIP-2021 : C23C 16/34 : Nitruros.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).
C23C 16/34 · · · Nitruros.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Molde de fundición y procedimiento de fabricación.
(13/05/2020). Solicitante/s: SCHUNK KOHLENSTOFFTECHNIK GMBH. Inventor/es: MARKOVIC,MILISAV, GALLE,JOHANNES.
Procedimiento de fabricación de un molde de fundición para la fundición de metales, en particular de una coquilla de colada continua, en el que el molde de fundición se forma a partir de un material compuesto predominantemente de carbono, en donde el molde de fundición se recubre con carbono pirolítico y/o nitruro de boro, caracterizado porque,
se aplica un revestimiento del molde de fundición a una temperatura de 500 °C a 1900 °C, en donde durante el transcurso de un proceso de un revestimiento del molde de fundición el revestimiento se aplica dentro de una primera sección de proceso (P1) con un procedimiento CVI a una primera temperatura (T1), y a continuación dentro de una segunda sección de proceso (P2) con un procedimiento CVD a una segunda temperatura (T2), en donde la primera sección de proceso se selecciona más larga que la segunda sección de proceso y la primera temperatura se selecciona más baja que la segunda temperatura.
PDF original: ES-2802177_T3.pdf
Procedimiento de depósito de capas sobre un sustrato de vidrio por PECVD de baja presión.
(09/09/2019) Procedimiento de producción de películas de óxidos, de nitruros o de oxinitruros de metales o semi-conductores sobre un sustrato, mediante el método de PECVD que comprende las etapas que consisten en:
a) proveerse de un dispositivo de PECVD, a baja presión, que comprende al menos una fuente de doble haz lineal de plasma, la cual comprende al menos dos electrodos unidos a un generador AC o DC pulsado, para el depósito de dichas películas sobre el sustrato,
b) aplicar una potencia eléctrica entre los dos electrones de tal manera que la densidad de potencia del plasma esté comprendida entre 5 y 50 W por cm2 de plasma, y,
c) aplicar sobre el sustrato un precursor gaseoso…
Procedimiento para la precipitación de un revestimiento in situ sobre componentes de un reactor de lecho fluidizado sometidos a carga térmica y química para la producción de polisilicio altamente puro.
(04/09/2019). Solicitante/s: WACKER CHEMIE AG. Inventor/es: PEDRON,SIMON.
Procedimiento para el revestimiento de componentes sometidos a carga térmica y química de un reactor de lecho fluidizado para la producción de granulado de polisilicio altamente puro, en el que el reactor de lecho fluidizado exento de material a granel se lava con una mezcla gaseosa reactiva a una temperatura media de pared de tubo de 600 a 1400°C durante un intervalo de tiempo de 1 h a 8 días y a una presión de 1 a 15 bar (bar abs), y de este modo se dotan las superficies del reactor, que presentan una temperatura de más de 600ºC, de un revestimiento in situ de Si y/o Si3N4, a través de un procedimiento CVD.
PDF original: ES-2750843_T3.pdf
Un aparato para retirar un chip y un método para su fabricación.
(31/05/2019) Un aparato para retirada de un chip que comprende un material de amortiguación de la vibración , en donde el aparato es un portaherramientas que comprende
- un mango previsto para fijarlo en una máquina de fabricación, o en un portaherramientas de una máquina de fabricación;
- una cabeza sobre la que está previsto fijar una cuchilla, y
- un material de amortiguación de la vibración , fijado de manera que la cuchilla está en contacto con la máquina de fabricación solamente mediante el material de amortiguación de la vibración , y en donde al menos las partes de la superficie del mango que están destinadas a estar en contacto con la máquina de fabricación o un portaherramientas de una máquina de fabricación que sujeta dicho portaherramientas se proporcionan con el material de amortiguación de la vibración, estando dicho aparato caracterizado…
Envase recubierto, uso del mismo y procedimiento para su fabricación.
(01/05/2019). Solicitante/s: SOCIETE DES PRODUITS NESTLE S.A.. Inventor/es: LANCTUIT,HÉLÈNE BEATRICE, MINH DUC,TRAN, VIARD,JOCELYN.
Envase de poliolefina recubierto con un recubrimiento de barrera a los gases que comprende una primera capa de nitruro de silicio amorfo hidrogenado caracterizado porque el envase presenta una segunda capa de carbono amorfo hidrogenado, depositando la capa de nitruro de silicio amorfo hidrogenado sobre el envase y depositando la capa de carbono amorfo hidrogenado sobre la capa de nitruro de silicio amorfo hidrogenado, en el que el envase se cierra mediante una membrana sellada en el envase de una manera hermética a los gases y a la humedad.
PDF original: ES-2727717_T3.pdf
Procedimiento de fabricación de una aleación a base de titanio para dispositivos biomédicos.
(24/04/2019) Procedimiento de fabricación de una aleación a base de titanio, que no contiene níquel, con propiedades superelásticas para aplicación biomédica, del tipo que incluye las fases sucesivas de:
- preparación por fusión al vacío de los diferentes metales constituyentes de la aleación deseada, para producir un lingote;
- primer enfriamiento;
- conformación mecánica a temperatura ambiente, tal como por laminado, trefilado, mecanizado o equivalente;
- tratamiento térmico en solución en la fase beta más allá de la transus beta que consiste en un aumento de temperatura a una segunda temperatura deseada, manteniéndose a esta temperatura durante un cierto tiempo; - segundo enfriamiento;
caracterizado porque dicha fase de tratamiento…
Herramienta con recubrimiento CVD.
(02/10/2018) Procedimiento para la fabricación de una herramienta con un cuerpo base de metal duro, cermet, cerámica, acero o acero rápido y un recubrimiento de protección contra el desgaste de una o múltiples capas aplicado sobre este en procedimiento CVD, en el cual el recubrimiento de protección contra el desgaste presenta al menos una capa de Ti1- xAlxCyN2 con coeficientes estequiométricos 0,70 ≤ x < 1, 0 ≤ y < 0,25 y 0,75 ≤ z < 1,15 y con un espesor comprendido en el intervalo de 1 μm a 25 μm, y en el cual para la fabricación de la capa de Ti1-xAlxCyN2
a) los cuerpos que han de ser recubiertos se colocan en un reactor CVD sustancialmente cilíndrico que para someter los cuerpos que han de ser recubiertos al flujo de los gases de proceso está concebido en un sentido sustancialmente radial con respecto al eje longitudinal del reactor,
…
Capas de TiAlCN con estructura laminar.
(06/06/2018) Herramienta con un cuerpo básico de metal duro, cermet, cerámica, acero o acero rápido, y un revestimiento antidesgaste de una o varias capas aplicado sobre el mismo en el procedimiento CVD, con un grosor de 3 μm a 25 μm, presentando el revestimiento antidesgaste al menos una capa de Ti1-xAlxCyNz con coeficientes estequiométricos 0,70 ≤ x < 1, 0 ≤ y < 0,25 y 0,75 ≤ z < 1,15, y con un grosor en el intervalo de 1,5 μm a 17 μm, caracterizada por que
- La capa de Ti1-xAlxCyNz posee una estructura laminar con láminas con un grosor de no más de 150 nm,
preferentemente no más de 100 nm, de modo especialmente preferente no más de 50 nm, estando constituidas - Las láminas por zonas alternantes periódicamente de la capa de Ti1-xAlxCyNz con proporciones estequiométricas de Ti y Al diferentes…
Cuerpo revestido con materiales duros.
(15/06/2016). Solicitante/s: KENNAMETAL INC.. Inventor/es: VAN DEN BERG, HENDRIKUS, SOTTKE, VOLKMAR, WESTPHAL, HARTMUT.
Cuerpo revestido con materiales duros con varias capas, cada una aplicada mediante CVD sobre un sustrato, caracterizado porque el sustrato es un metal duro, un cermet o un material cerámico sobre el que está dispuesta una capa de Al2O3 como capa exterior sobre una capa de Ti1-xAlxN y/o Ti1-xAlxC y/o Ti1-xAlxCN con el valor x comprendido entre 0,65 y 0,95, siendo el cuerpo una herramienta cortante para cortes interrumpidos.
PDF original: ES-2628524_T3.pdf
Cuerpo revestido con materiales duros.
(29/02/2016). Solicitante/s: KENNAMETAL INC.. Inventor/es: VAN DEN BERG, HENDRIKUS, SOTTKE, VOLKMAR, WESTPHAL, HARTMUT.
Cuerpo revestido con materiales duros con varias capas aplicadas mediante CVD, caracterizado porque sobre una capa de Ti1-xAlx-N y/o Ti1-xAlx-C y/o Ti1-xAlx-CN con el valor x comprendido entre 0,65 y 0,95, está dispuesta una capa de AI2O3 como capa exterior, donde cada una de dichas capas se ha aplicado por medio de CVD.
PDF original: ES-2561597_T3.pdf
Cuerpos recubiertos con materiales duros y procedimiento para su fabricación.
(03/02/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.. Inventor/es: ENDLER, INGOLF.
Cuerpos recubiertos con materiales duros con un sistema estratificado monocapa o multicapa que contiene al menos una capa de material duro de Ti1-xAlxN generada mediante CVD sin excitación con plasma, presentándose la capa de material duro de Ti1-xAlxN como capa monofásica en la estructura de NaCl cúbica con un coeficiente de estequiometria x > 0,75 a x ≥ 0,93 y una constante de red afcc entre 0,412 nm y 0,405 nm,
o en donde la capa de material duro de Ti1-xAlxN es una capa multifásica, cuya fase principal se compone de Ti1- xAlxN con una estructura de NaCl cúbica con un coeficiente de estequiometria x > 0,75 a x ≥ 0,93 y una constante de red afcc entre 0,412 nm y 0,405 nm, y estando contenida como fase adicional AlN en la estructura de wurtzita, y en donde el contenido en cloro la capa de material duro de Ti1-xAlxN se encuentra en el intervalo de 0,05 a 0,9% At., y en donde el valor de dureza de la o las capas de material duro de Ti1-xAlxN se encuentra en el intervalo de 2500 HV a 3800 HV.
PDF original: ES-2567589_T3.pdf
Reactor de CVD para la deposición de capas a partir de una mezcla de gas de reacción sobre piezas de trabajo.
(25/03/2015) Reactor de CVD para la deposición de capas a partir de un gas de reacción sobre piezas de trabajo, que comprende:
- una cámara de reactor alargada, que discurre en vertical, que está delimitada por una pared de reactor calentada al menos parcialmente y un fondo de reactor,
- un conducto de entrada para la entrada del gas de reacción en la cámara de reactor, que en la zona del fondo de reactor entra en la cámara de reactor,
- un conducto de salida para la salida del gas de reacción usado de la cámara de reacción, que en la zona del fondo de reactor sale de la cámara de reactor,
-…
Cuerpos revestidos a base de un metal, un metal duro, un cermet o un material cerámico así como un procedimiento para el revestimiento de tales cuerpos.
(28/08/2013) Cuerpos revestidos a base de un metal, un metal duro, un cermet o un material cerámico, revestidos con unsistema estratificado de una o múltiples capas, que tiene por lo menos una capa de un cuerpo compuesto con unmaterial duro, que como fases principales contiene TiAlCN cúbico y AIN hexagonal, caracterizados por que elTiAICN cúbico es un fcc-Ti1-5 xAlxCyNz microcristalino con x >0,75, y ≥ de 0 a 0,25 y z ≥ de 0,75 a 1 con un tamaño delos cristalitos de ≥ 0,1 μm, y por que esta capa de un cuerpo compuesto contiene adicionalmente, en la región de loslímites entre granos, carbono amorfo con una proporción en masa de 0,01 % a 20 %.
PROCEDIMIENTO DE TRATAMIENTO DE SUSTRATO.
(07/08/2012) Un método que comprende:
proporcionar un substrato que comprende un material compuesto de partículas de un materialconstitutivo duro incluyendo tungsteno y carbono unidos entre sí por una fase ligante que incluyecobalto, y
mordentado una superficie de dicho sustrato en donde dicha etapa de mordentado comprendeponer en contacto dicha superficie con un flujo gaseoso sustancialmente libre de hidrógeno gaseosoy que comprende un gas mordentador y un segundo gas por un período de tiempo que eliminaráuna porción de dicha fase ligante, dicho segundo gas comprendiendo uno o más gases que noreaccionarán con dicho substrato o dicha porción y que no cambiará el estado de oxidación de dichosustrato durante dicha etapa de mordentado.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO EN FASE DE VACIO DE UN SUSTRATO.
(16/07/2006). Solicitante/s: ROBERT BOSCH GMBH. Inventor/es: WEBER, THOMAS, BURGER, KURT, VOIGT, JOHANNES, LUCAS, SUSANNE.
La invención se refiere a un procedimiento para revestir un sustrato por depósito químico en fase de vapor activado por plasma. Para regular el bombardeo iónico durante el revestimiento, una tensión (US), producida independientemente del plasma de revestimiento se aplica al sustrato, siendo dicha tensión modificada durante el revestimiento. La tensión de sustrato (US) es, de manera apropiada, una tensión continua bipolar impulsada, que presenta una frecuencia comprendida entre 0,1 kHz y 10 lHz. La invención se refiere también a una estructura multicapa que resiste al desgaste y que reduce la fricción, constituida por capas individuales alternas de material con resistencia mecánica elevada y de carbono o de silicio.
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN RECUBRIMIENTO EN UNA HERRAMIENTA DE MECANIZACION CON LEVANTAMIENTO DE VIRUTAS, Y HERRAMIENTA DE MECANIZACION.
(01/03/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: BIHLERIT G.M.B.H. & CO. KG. Inventor/es: VOIGT, KLAUS, KISSELBACH ANDREAS, PITONAK, REINHARD.
Método para la producción de un recubrimiento sobre una parte o partes de la superficie inmediata al borde o bordes de corte de una herramienta de corte con levantamiento de virutas, caracterizado porque la superficie de la herramienta o sustrato a recubrir es rectificada con una profundidad máxima de perfil RY menor de 8 microm en la sección transversal de la superficie, seguido de una etapa de alisado de las puntas salientes del perfil a una profundidad máxima del perfil RM de 1 a 5 microm y que sobre la superficie del sustrato constituida de este modo se aplica con un grosor de 0, 5 a 5 microm una capa de nitruro, carburo, carbonitruro, según sea el caso, con oxígeno por ejemplo, oxicarburo, como mínimo, de dos elementos de los grupos 4, 5 y 6 de la tabla periódica de elementos.
SUBSTRATO TRANSPARENTE PROVISTO DE AL MENOS UNA CAPA FINA DE NITRURO O DE OXINITRURO DE SILICIO Y SU PROCESO DE OBTENCION.
(16/12/2003). Ver ilustración. Solicitante/s: SAINT-GOBAIN VITRAGE. Inventor/es: JORET, LAURENT.
LA INVENCION SE REFIERE A UN SUSTRATO TRANSPARENTE TIPO SUSTRATO DE VIDRIO PROVISTO DE AL MENOS UNA CAPA DELGADA A BASE DE NITRURO O DE OXINITRURO DE SILICIO. SEGUN LA INVENCION, LA CAPA DELGADA COMPRENDE LOS ELEMENTOS SI, O, N, C, EN LOS PORCENTAJES ATOMICOS SIGUIENTES: - SI: DEL 30 AL 60 %, EN PARTICULAR DEL 40 AL 50 %, - N: DEL 10 AL 56 %, EN PARTICULAR DEL 20 AL 56 %, - O: DEL 1 AL 40 %, EN PARTICULAR DEL 5 AL 30 %, - C: DEL 1 AL 40 %, EN PARTICULAR DEL 5 AL 30 %. LA INVENCION SE REFIERE TAMBIEN A SU PROCEDIMIENTO DE OBTENCION, EN PARTICULAR POR UNA TECNICA DE PIROLISIS EN FASE GASEOSA, Y A SUS APLICACIONES.
PROCEDIMIENTO DE DEPOSITO DE UN REVESTIMIENTO PROTECTOR DE GRAN DUREZA.
(01/01/2002). Solicitante/s: NEUVILLE, STEPHANE. Inventor/es: NEUVILLE, STEPHANE.
PROCEDIMIENTO DE DEPOSITO SOBRE AL MENOS UNA PIEZA DE UN REVESTIMIENTO PROTECTOR DE GRAN DUREZA. PROCEDIMIENTO CARACTERIZADO PORQUE SE AÑADE AL GAS PRECURSOR ENTRE 10 Y 70% DE NITROGENO ASOCIADO A ENTRE 10 Y 70% DE UNA MEZCLA DE HELIO Y DE ARGON O A ENTRE 10 Y 70% DE NEON CUYA FUNCION ES EXCITAR FUERTEMENTE Y DISOCIAR EL NITROGENO Y EL HIDROGENO, Y PORQUE SE ELIGE LA ENERGIA APORTADA A CADA ATOMO DEL GAS PRECURSOR DE MANERA COLOCARLA EN CONDICIONES LLAMADAS DE "LIFSCHITZ" QUE DEFINEN LA ZONA DE ENERGIA PARA LA QUE SE OBTIENE UN MAXIMO DE ESTRUCTURAS TETRAEDRICAS DE TIPO DIAMANTE EN LUGAR DE ESTRUCTURAS GRAFITICAS.
NITRURO DE TITANIO DOPADO CON BORO, REVESTIMIENTO DE SUSTRATO A BASE DE ESTE NUEVO COMPUESTO, Y PIEZAS QUE CONTIENEN DICHO REVESTIMIENTO.
(16/10/2001). Solicitante/s: TECMACHINE. Inventor/es: HEAU, CHRISTOPHE.
NITRURO DE TITANIO DOPADO POR BORO, QUE CRISTALIZA EN LA MISMA ESTRUCTURA QUE EL NITRURO DE TITANIO TIN, Y QUE TIENE UNA MICRODUREZA VICKERS SUPERIOR A APROXIMADAMENTE 50 GPA. REVESTIMIENTO ANTIDESGASTE CONSTITUIDO POR TAL NITRURO DE TITANIO DOPADO POR BORO. PIEZAS, POR EJEMPLO PIEZAS METALICAS, PIEZAS DE CARBURO DE TUNGSTENO Y CERMETOS, QUE COMPRENDE TAL REVESTIMIENTO.
PROCEDIMIENTO DE DEPOSITO DE UNA CAPA A BASE DE NITRURO DE TITANIO SOBRE UN SUBSTRATO TRANSPARENTE.
(16/02/2000). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN VITRAGE. Inventor/es: BOIRE, PHILIPPE, TESTULAT, BERTRAND.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO DE DEPOSICION POR PIROLISIS EN FASE GASEOSA DE UNA CAPA A BASE DE NITRURO O OXINITRURO METALICO, PARTICULARMENTE DE NITRURO O OXINITRURO DE TITANIO, SOBRE UN SUSTRATO TRANSPARENTE, PARTICULARMENTE VIDRIO, CARACTERIZADO EN QUE CONSISTE EN PONER SIMULTANEAMENTE EN CONTACTO CON EL SUSTRATO LLEVADO A ALTA TEMPERATURA AL MENOS UN PRECURSOR METALICO Y AL MENOS UN PRECURSOR NITROGENADO EN FORMA DE AMINA.
COMPONENTE DE TIPO APILADO Y PROCEDIMIENTO DE FABRICARLO.
(16/06/1999) LA INVENCION SE REFIERE A LA FABRICACION DE CONDENSADOR Y/O DE RESISTENCIA DE TIPO APILADO(A) CONSTITUIDO(A) POR UNA ALTERNANCIA DE CAPAS DIELECTRICAS Y DE CAPAS CONDUCTORAS. LAS CAPAS DIELECTRICAS SE DEPOSITAN POR POLIMERIZACION DE ELEMENTOS OBTENIDOS DE LA DISOCIACION POR PLASMA DIFERIDO DE NITROGENO DE UN GAS DE ORGANOSILICIO O DE ORGANOGERMANIO Y LAS CAPAS CONDUCTORAS SON REALIZADAS SIMULTANEAMENTE POR DEPOSITO DE POLIMERO CONDUCTOR OBTENIDO DE LA DISOCIACION POR PLASMA DIFERIDO DE NITROGENO DE ACIDO SULFHIDRICO O DE DICLORURO DE AZUFRE. LOS DEPOSITOS DIELECTRICOS Y CONDUCTORES SE EFECTUAN SOBRE UN SUSTRATO DIELECTRICO COLOCADO EN LA SUPERFICIE DE UN TAMBOR EN ROTACION, EFECTUANDOSE LA ROTACION DE MANERA QUE UNA MISMA PARTE DEL SUSTRATO DIELECTRICO SE ENCUENTRE SUCESIVAMENTE ENFRENTE DE AL MENOS UN DISPOSITIVO DE DEPOSITO DE SUSTRATO DIELECTRICO Y DE…
(01/11/1998). Solicitante/s: PLANSEE TIZIT GESELLSCHAFT M.B.H.. Inventor/es: SCHINTLMEISTER, WILFRIED, DR., WALLGRAM, WOLFGANG, GARBER, ERWIN.
LA INVENCION SE REFIERE A UN MATERIAL DE CORTE A BASE DE UN MATERIAL BASICO CERMET CON UNA CAPA DE SUSTANCIA ENDURECIDA ESTRATIFICADA QUE MUESTRA AL MENOS UNA CAPA DE OXIDO. LA CAPA QUE LIMITA DE FORMA INMEDIATA EN EL MATERIAL BASICO ES UNA CAPA DE NITRURO DE TITANIO Y/O UNA CAPA DE CARBONITRURO DE TITANIO CON UNA PROPORCION EN NITROGENO DE AL MENOS 5 % ATOM. LA CAPA DE OXIDO SE SEPARA EN UNA TEMPERATURA DE RECUBRIMIENTO DE AL MENOS 900 CON LA INVENCION EL MATERIAL DE CORTE CERMET MUESTRA TAMBIEN UN ALTO CONTENIDO EN METAL DE ENLACE CON UN COMPORTAMIENTO DE DESGASTE CARACTERISTICO Y ES ELABORABLE DE FORMA ADECUADA DE COSTE.
COMPUESTOS UTILES COMO PRECURSORES QUIMICOS EN LA DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR DE MATERIALES CERAMICOS BASADOS EN EL SILICIO.
(01/04/1998). Solicitante/s: ENICHEM S.P.A.. Inventor/es: CLARK, TERENCE, CRUSE, RICHARD, ROHMAN, STEPHEN, MININNI, ROBERT, SZALAI, VERONIKA.
PARA REDUCIR LAS PROPORCIONES DE FORMACION DE COQUE DURANTE LA PIROLISIS INDUSTRIAL DE LOS HIDROCARBONOS, LA SUPERFICIE INTERIOR DEL REACTOR SE RECUBRE CON UNA CAPA FINA DE MATERIAL CERAMICO, LA CAPA SE DEPOSITA MEDIANTE DESCOMPOSICION TERMICA DE UN PRECURSOR DE SILICONA-NITROGENO QUE NO CONTIENE OXIGENO EN LA FASE DE VAPOR, EN UNA ATMOSFERA DE UN GAS INERTE O REDUCTOR PARA MINIMIZAR LA FORMACION DE OXIDOS CERAMICOS.
NITRURO DE TITANIO U OXIDO DE ESTAÑO QUE SE UNEN A UNA SUPERFICIE RECUBRIDORA.
(16/01/1996). Solicitante/s: GORDON, ROY GERALD. Inventor/es: GORDON, ROY GERALD.
UNA COBERTURA UTILIZADA PARA DEPOSITAR UN COMPUESTO EN UNA LAMINA DE VIDRIO CON LA SUPERFICIE RUGOSA. LA PORCION DEL COMPUESTO QUE TIENDE A ACUMULARSE EN LA SUPERFICIE DE COBERTURA SE FIJA A LA SUPERFICIE DE COBERTURA RUGOSA DE TAL MANERA QUE NO SE DESPRENDE DE LA SUPERFICIE DURANTE LA APLICACION DEL COMPUESTO AL VIDRIO.
COMPOSICION Y PROCEDIMIENTO PARA SU PRODUCCION.
(16/03/1995). Solicitante/s: LUX, BENNO, PROF.DR. Inventor/es: MATTHEWS, BRIAN L.
SE DESCRIBE UN COMPOOND A BASE DE PARTICULAS EN POLVO CONSISTENTE EN UN NUCLEO Y UNA ENVUELTA QUE ES DIFERENTE A LA MATERIA DEL NUCLEO Y ESTA FORMADA POR MATERIA SUPERDURA. EL PROCEDIMIENTO CONSISTE EN FORMAR LA MATERIA SUPERDURA EN UNA FASE GASEOSA A BAJA PRESION Y A UNA TEMPERATURA POR DEBAJO DE LOS 1200 C.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA PRODUCIR MATERIAL DE ADHERENCIA EN FORMA DE PARTICULAS Y SU APLICACION.
(16/10/1994). Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.. Inventor/es: LUX, BENNO, PROF. DR.
SE DESCRIBE UN COMPUESTO A BASE DE PARTICULAS DE POLVO FORMADO POR UN NUCLEO Y UNA CUBIERTA QUE SE DIFERENCIA DEL NUCLEO POR ESTAR FORMADA ENTERA O PARCIALMENTE POR SUPERFICIE SUPERENDURECIDA. DICHO PROCESO CONSISTE EN FORMAR LA MATERIA SUPERENDURECIDA EN FASE GASEOSA A BAJA PRESION Y A UNA TEMPERATURA POR DEBAJO DE 1200 C.
PARTICULA DE POLVO COMPUESTA, CUERPO COMPUESTO Y PROCEDIMIENTO PARA SU ELABORACION.
(01/04/1993). Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.. Inventor/es: LUX, BENNO, PROF. DR.
EL PROCEDIMIENTO DESCRIBE UNA PARTICULA DE POLVO COMPUESTAS, FORMADA POR UN NUCLEO Y SU CORTZA CONSTITUIDA ESTA ULTIMA TOTAL O PARCIALMENTE POR UN MATERIAL MUY DURO DISTINTO AL DEL NUCLEO. LA PARTICULA SE ELABORA MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO ESPECIAL, EN EL QUE LA CORTEZA SE FORMA AL MENOS PARCIALMENTE DESDE UNA FASE GASEOSA A BAJA PRESION Y TEMPERATURA INTERIOR A 1.200 C.
UN METODO DE APLICACION DE UN RECUBRIMIENTO ABSORBENTE COMBUSTIBLE SOBRE UN COMBUSTIBLE NUCLEAR.
(16/08/1987). Solicitante/s: WESTINGHOUSE ELECTRIC CORPORATION.
METODO DE APLICAR UN RECUBRIMIENTO ABSORBENTE COMBUSTIBLE SOBRE UN COMBUSTIBLE NUCLEAR. CONSISTE EN EXPONER EL COMBUSTIBLE NUCLEAR EN UNA CAMARA DE REACCION A UNA CORRIENTE GASEOSA DE TRICLORURO DE BORO Y AMONIACO ANHIDRO, FORMADO POR UN ISOTOPO 10B O UNA MEZCLA DE ISOTOPOS 10B Y 11B, A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 600 Y 800JC, CON LO QUE SE FORMA SOBRE EL COMBUSTIBLE UN RECUBRIMIENTO DE NITRURO DE BORO COMO PRODUCTO DE REACCION; REALIZANDOSE LA DEPOSICION DE VAPORES EN PRESENCIA DE UN GAS PORTADOR; Y COMPRENDIENDO EL COMBUSTIBLE NUCLEAR DIOXIDO DE URANIO, DIOXIDO DE TORIO, DIOXIDO DE PLUTONIO O MEZCLAS DE LOS MISMOS. TIENE APLICACION PARA ALIMENTAR REACTORES NUCLEARES.
UN PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR UN REVESTIMIENTO DE UN NITRURO DE METAL DE TRANSICION SELECCIONADO SOBRE UN SUBSTRATO.
(01/04/1986) PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR UN REVESTIMIENTO DE UN NITRURO DE METAL DE TRANSICION SELECCIONADO, SOBRE UN SUSTRATO. COMPRENDE: A) SITUAR AL SUSTRATO EN UNA CAMARA DE DEPOSICION; B) MEZCLAR A UN COMPUESTO DE METAL DE TRANSICION DE FORMULA (MRX) Y EN ESTADO LIQUIDO CON UN GAS PORTADOR COMO UNA MEZCLA DE HIDROGENO Y NITROGENO ENTRE C20J Y 60JC EN UN BORBOTEADOR; C) TRANSPORTAR A LA MEZCLA DE COMPUESTO DE METAL DE TRANSICION Y GAS PORTADOR HASTA LA CAMARA DE DEPOSICION A TRAVES DE UNA BOMBA DE VACIO; Y D) DEPOSITAR AL COMPUESTO DE METAL DE TRANSICION SOBRE EL SUSTRATO, ENTRE 400JC Y 800JC Y A UNA PRESION ENTRE 0,2 Y 100 TORR. SIENDO: R, AZIDA, HALOGENO Y -NRKR2; R1 Y R2, HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, CICLOPENTADIENILO…
UN METODO PARA FORMAR UNA PELICULA DE FOSFORO-NITROGENO-OXIGENO.
(01/10/1978). Solicitante/s: INTERNATIONAL BUSINES MACHINES CORPORATION..
Resumen no disponible.
