(12/02/2020) Un aparato de recubrimiento para aplicar un recubrimiento en recipientes de vidrio con un compuesto químico que comprende: una carcasa con un túnel de recubrimiento una cinta transportadora que mueve los recipientes a través del túnel de recubrimiento desde la entrada a la salida de dicho túnel de recubrimiento al menos un circuito para la circulación de un compuesto de recubrimiento y al menos una placa de guía, caracterizado por que dicha placa de guía está situada en un compartimento entre la pared lateral interior del aparato de recubrimiento y la pared exterior y dicho compartimento comprende la placa de guía, una placa de fijación con medios de fijación, un orificio de succión y una salida y caracterizado por que la…

(27/11/2019) Procedimiento de fabricación de un acristalamiento que comprende un sustrato, en particular vidrio, provisto de un revestimiento que comprende al menos una capa constituida por un material poroso, particularmente cuyo índice de refracción resulta así disminuido, que comprende las etapas siguientes: - depósito sobre el sustrato, mediante un procedimiento de depósito físico en fase de vapor PVD en un recinto bajo vacío, de un revestimiento que comprende una capa de un material que comprende al menos un elemento escogido entre Si, Ti, Sn, Al, Zr, In o una mezcla de al menos dos de estos elementos, oxígeno, carbono, comprendiendo dicha capa además ocasionalmente hidrógeno, - tratamiento térmico de la capa así depositada, en condiciones que permitan…

(02/05/2018) Un sistema de deposición por combustión remota para su uso en la deposición, mediante deposición por combustión, de un revestimiento sobre un sustrato , que comprende: un quemador de infrarrojos (IR) que está configurado para generar una energía radiante (18') en un área entre el quemador y el sustrato ; y un dispositivo de distribución , en donde el dispositivo de distribución está dispuesto externamente con respecto al quemador, configurado para proporcionar una corriente que comprende un precursor vaporizado y un gas portador a partir de una ubicación que es remota con respecto a la energía radiante que es generada por el quemador de IR, estando configurado adicionalmente el dispositivo de distribución para dar lugar…

(11/03/2015) Un procedimiento de limpieza de un sustrato, que comprende las etapas de: preparar un sustrato recubierto con una capa comprendida de un material semiconductor fotocatalítico; y someter dicho material fotocatalítico a fotoexcitación para volver de este modo la superficie de dicha capa hidrófila; y aclarar dicho sustrato con agua con lo que los depósitos y/o contaminantes orgánicos que están adheridos a la superficie de dicha capa se liberan de la misma y se eliminan por lavado con agua, en el que dicha capa comprende titania mezclada con sílice.

(27/11/2014) Equipo de tratamiento térmico con un recinto caliente y una ventana que obtura al recinto caliente, que comprende un acristalamiento protector contra el calor con un revestimiento de filtro de reflexión de los rayos infrarrojos a altas temperaturas, comprendiendo el acristalamiento protector contra el calor una luna de vidrio o de material vitrocerámico con un coeficiente de dilatación térmica lineal α más pequeño que 4,2·10-6/ºK, siendo depositada sobre por lo menos una cara de la luna de vidrio o de material vitrocerámico una capa de dióxido de titanio, que está dopada con un compuesto de por lo menos uno de los…

(19/11/2014) Procedimiento de obtención de un substrato revestido sobre al menos una parte de su superficie de al menos una capa de óxido de un metal M cuyo espesor físico es inferior o igual a 30 nm, no estando dicha capa de óxido comprendida en un apilamiento de capas que incluye al menos una capa de plata, incluyendo dicho procedimiento las siguientes etapas: - se deposita por pulverización catódica al menos una capa intermedia un material elegido entre el metal M, un nitruro del metal M, un carburo del metal M o un óxido sub-estequiométrico en oxígeno del metal M, no estando dicha capa intermedia depositada por encima o por debajo de una capa a base de óxido de titanio, siendo el espesor físico de dicha capa intermedia inferior o igual a 30 nm, - se oxida al…

(30/07/2014) Procedimiento de tratamiento de al menos una capa delgada continua a base de plata depositada sobre una primera cara de un sustrato, en el que se lleva cada punto de dicha al menos una capa delgada a una temperatura de al menos 300ºC manteniendo una temperatura inferior o igual a 150ºC en cualquier punto de la cara de dicho sustrato opuesta a dicha primera cara, con el fin de aumentar el porcentaje de cristalización de dicha capa delgada conservándola continua y sin etapa de fusión de dicha capa delgada.

(02/04/2014) Un artículo revestido que comprende (A) un sustrato (B) una capa dieléctrica depositada, por medio de metalizado por bombardeo atómico, sobre el sustrato que comprende: (i) una primera película dieléctrica seleccionada entre óxido de cinc, óxido de silicio, óxido de estaño, nitruro de silicio, oxinitruro de silicio y estannato de cinc, que tiene cinc en un porcentaje en peso igual y mayor de 10 e igual y menor de 90 y estaño en un porcentaje en peso igual y menor de 90 e igual y mayor de 10, depositada sobre el sustrato (A) y (ii) una segunda película de mejora eléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (i) que es una segunda película de estannato de cinc en donde la segunda película de estannato de cinc tiene cinc dentro del intervalo del 60 al 90 por ciento en peso y estaño en el intervalo del…

(25/02/2013) Uso de un compuesto que comprende un sustrato y una capa fotocatalizadora recubierta sobre el mismo, dicha capa fotocatalizadora comprende un material semiconductor fotocatalizador que tiene una superficie que se ha vuelto hidrófila mediante fotoexcitación con la luz solar, para antiempañar dichas superficies.

(20/06/2012) Procedimiento para la fabricación de un objeto de vitrocerámica con un recubrimiento de barrera sobre unsustrato , en el que al menos una zona de la superficie del sustrato es barrida con una llama y una capa que contiene óxido metálico o silicato es separada por medio de hidrólisis con un compuesto que contiene metal oun compuesto de silicio en la llama , mientras la llama barre la zona del sustrato , caracterizado porque lacapa que contiene óxido de metal o silicato es aplicada, antes de la sinterización cerámica sobre al menos unlado de un sustrato de vidrio de partida , el sustrato de vidrio de partida es aplicado con su ladorecubierto sobre una capa inferior de…

(30/04/2012) LA INVENCION SE REFIERE A UN SUSTRATO PROVISTO SOBRE AL MENOS UNA PARTE DE UNA DE SUS CARAS DE UN REVESTIMIENTO CON PROPIEDADES FOTOCATALITICAS A BASE DE DIOXIDO DE TITANIO AL MENOS PARCIALMENTE CRISTALIZADO E INCORPORADO AL MENCIONADO REVESTIMIENTO EN PARTE EN FORMA DE PARTICULAS MAYORITARIAMENTE CRISTALIZADAS EN FORMA ANATASA. LA INVENCION SE REFIERE ASIMISMO A UN METODO DE PREPARACION DE ESTE SUSTRATO Y A LAS DISPERSIONES ORGANICAS DE PARTICULAS DE DIOXIDO DE TITANIO UTILIZADAS EN EL MENCIONADO METODO DE PREPARACION DEL SUSTRATO.

(01/06/2011) Compuesto precursor de la deposición química en fase de vapor (CVD) adecuado para depositar los recubrimientos de óxido metálico en un sustrato calentado, comprendiendo dicho compuesto precursor de la CVD un compuesto de la estructura en la que M es Sn o Zn; MX nL 2 L se selecciona de entre el grupo constituido por formiato de metilo, formiato de etilo, formiato de n-propilo, formiato de i-propilo, formiato de n-butilo, formiato de i-butilo, formiato de t-butil alquilo, y mezclas de los mismos; X es Cl y n es 4 cuando M es Sn; y X es R y n es 2 cuando M es Zn en la que R es alquilo inferior C 1-8 o alquenilo inferior C 2-8;y cuando…

(18/03/2011) Un procedimiento para producir un revestimiento de óxido de hierro sobre un artículo de vidrio en una presión atmosférica, proceso de elaboración de vidrio flotante, caracterizado por: proporcionar un sustrato de vidrio calentado que tiene una superficie en la que va a depositarse el revestimiento; dirigir ferroceno gaseoso y un oxidante gaseoso hacia, y a lo largo de, la superficie a revestirse; y hacer reaccionar el ferroceno y el oxidante en, o cerca de, la superficie del sustrato de vidrio para formar un revestimiento de óxido de hierro en línea a una tasa de deposición mayor que, o igual, a 200 Á/segundo, en el que el sustrato de vidrio revestido presenta un valor a* entre…

(04/06/2010) Un procedimiento de fabricación de un artículo recubierto, comprendiendo el procedimiento: proporcionar un sustrato; y formar una capa de antigrabado en el sustrato usando por lo menos un blanco de pulverización iónica y por lo menos una fuente de iones de manera que los iones de la fuente de iones impacten en una superficie formadora de capa junto con material pulverizado iónicamente desde el blanco de pulverización iónica, en el que la capa de antigrabado comprende uno o más de: carburo-nitruro de silicio, carburo-nitruro de silicio hidrogenado, óxido de indio, óxido de indio-molibdeno, óxido de cerio, óxido de indio-estaño, y/u óxido de magnesio

(11/05/2010) Empleo de materiales para la metalización por evaporación, constituidos por Ta2Ox con x = 4,81 hasta 4,88 para la obtención de capas altamente refringentes

(06/05/2010) Procedimiento de fabricación de un artículo recubierto que incluye una película conductora transparente, comprendiendo el procedimiento: proporcionar un sustrato de vidrio; formar una película que comprende un óxido conductor transparente en el sustrato de vidrio; y templar el artículo recubierto que incluye el sustrato de vidrio y la película que comprende el óxido conductor transparente, y en el que se proporciona por lo menos una llama en un horno de templado para quemar el oxígeno para evitar o reducir la oxidación de la película que comprende el óxido conductor transparente durante el templado

(16/03/2004) UN APARATO PARA REVESTIR UNA CINTA DE VIDRIO QUE TIENE UN ELEMENTO DE EVACUACION A CADA LADO DE UNA UNIDAD DE REVESTIMIENTO A DIFERENTES DISTANCIAS DEL MISMO. SEGUN ESTA DISPOSICION, SE UTILIZAN PORCIONES DE LA CINTA CORRIENTE ARRIBA Y CORRIENTE ABAJO RESPECTO A LA UNIDAD DE REVESTIMIENTO PARA REVESTIR LOS VAPORES PROCEDENTES DE LA UNIDAD DE REVESTIMIENTO EN DIFERENTES PERIODOS DE TIEMPO. UNA MEZCLA DE REVESTIMIENTO INCLUYE PRECURSORES QUE CONTIENE ESTAÑO Y UN PRECURSOR QUE CONTIENE SILICIO. EL PRECURSOR QUE CONTIENE SILICIO TIENE LA FORMULA ESTRUCTURAL EN LA QUE R1 ES UN GRUPO QUE NO DISPONE DE UN OXIGENO PARA FORMAR UN PEROXIDO, R2 ES UN GRUPO FUNCIONAL QUE PROPORCIONA AL PRECURSOR QUE CONTIENE SILICIO LA CAPACIDAD DE CONVERTIRSE…