12 inventos, patentes y modelos de NADAUD, NICOLAS

Substrato transparente que puede ser usado, alternativa o acumulativamente, para control térmico, blindaje electromagnético y acristalamientos calentadores.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(07/12/2018). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Clasificación: C03C17/36, B32B17/10.

Substrato transparente, principalmente de vidrio, provisto de un apilamiento de capas delgadas que comprende una pluralidad de capas funcionales, caracterizado por que dicho apilamiento de capas delgadas comprende al menos tres capas funcionales a base de plata, y comprende al menos tres patrones idénticos de capas funcionales, estando asociada, en cada patrón funcional, cada capa funcional a al menos una capa subyacente y/o suprayacente, presentando cada patrón funcional la estructura siguiente: ZnO/Ag/...ZnO/Si3N4, por que dicho apilamiento presenta una resistencia R <1,5 Ω por cuadrado y porque dicho substrato puede soportar al menos una operación de transformación que implica un tratamiento térmico a una temperatura de al menos 500ºC.

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Sustrato equipado con un apilamiento que tiene propiedades térmicas.

(18/09/2018) Sustrato de vidrio transparente equipado con un apilamiento de capas delgadas, depositado sobre el sustrato, que comprende una alternancia de "n" capas funcionales que tienen propiedades de reflexión en la radiación infrarroja y/o solar, especialmente capas funcionales metálicas con base de plata o de aleación metálica que contiene plata, y "(n + 1)" revestimientos , en donde n es un número entero ≥ 2, estando dichos revestimientos compuestos de una pluralidad de capas dieléctricas , de modo que cada capa funcional está colocada entre dos revestimientos , estando depositadas al menos dos capas funcionales cada una sobre una capa humectante , depositada esta misma respectivamente de manera directa sobre un revestimiento subyacente , caracterizado porque se proporciona una capa de alisado no cristalizada por debajo de…

Sustrato provisto de un apilamiento de capas que tiene propiedades térmicas.

(21/02/2018) Un sustrato transparente, provisto de un apilamiento de capas delgadas que comprende una alternancia de "n" capas funcionales metálicas que tienen propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar, basadas en plata o en una aleación de metal que contenga plata, y "(n+1)" revestimientos dieléctricos , donde n ≥ 1, estando compuestos dichos revestimientos de una capa o de una pluralidad de capas , que incluyen al menos una hecha de un material dieléctrico, de modo que cada capa funcional esté dispuesta entre al menos dos revestimientos dieléctricos, caracterizado por que al menos una capa funcional incluye un revestimiento bloqueador, constituido por: • por una parte, una capa de interfaz inmediatamente en contacto con dicha capa funcional,…

Acristalamiento provisto de un apilamiento de capas finas para la protección solar y/o el aislamiento térmico.

(08/04/2015) Acristalamiento que comprende al menos un sustrato transparente dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprenden una alternancia de n capa(s) funcional(es) con propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y de n+1 revestimientos compuestos por una o varias capas de material dieléctrico, de manera que cada capa funcional esté dispuesta entre dos revestimientos, al menos un revestimiento que comprende al menos dos capas de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una capa absorbente en el visible se inserta entre dos capas de material dieléctrico de al menos uno de dichos revestimientos.

Procedimiento de deposición de capa fina y producto que incluye una capa fina.

(19/11/2014) Procedimiento de obtención de un substrato revestido sobre al menos una parte de su superficie de al menos una capa de óxido de un metal M cuyo espesor físico es inferior o igual a 30 nm, no estando dicha capa de óxido comprendida en un apilamiento de capas que incluye al menos una capa de plata, incluyendo dicho procedimiento las siguientes etapas: - se deposita por pulverización catódica al menos una capa intermedia un material elegido entre el metal M, un nitruro del metal M, un carburo del metal M o un óxido sub-estequiométrico en oxígeno del metal M, no estando dicha capa intermedia depositada por encima o por debajo de una capa a base de óxido de titanio, siendo el espesor físico de dicha capa intermedia inferior o igual a 30 nm, - se oxida al…

Procedimiento de depósito de capa delgada y producto obtenido.

(30/07/2014) Procedimiento de tratamiento de al menos una capa delgada continua a base de plata depositada sobre una primera cara de un sustrato, en el que se lleva cada punto de dicha al menos una capa delgada a una temperatura de al menos 300ºC manteniendo una temperatura inferior o igual a 150ºC en cualquier punto de la cara de dicho sustrato opuesta a dicha primera cara, con el fin de aumentar el porcentaje de cristalización de dicha capa delgada conservándola continua y sin etapa de fusión de dicha capa delgada.

SUSTRATO, PARTICULARMENTE SUSTRATO DE VIDRIO, QUE LLEVA UNA CAPA CON PROPIEDAD FOTOCATALÍTICA MODIFICADA PARA PODER ABSORBER FOTONES DEL VISIBLE.

(12/03/2012) Procedimiento de fabricación de un sustrato de vidrio que, sobre al menos una parte de al menos una de sus caras, porta una capa con propiedad fotocatalítica, antisuciedad, a base de dióxido de titanio (TiO2), la cual fue aplicada sobre el sustrato o bien directamente, o bien con interposición de al menos una subcapa funcional, caracterizado por el hecho de que se lleva a cabo un tratamiento térmico del sustrato portador de dicha capa a base de TiO2 bajo una atmósfera de nitrógeno o de nitrógeno y al menos un gas reductor durante un lapso de tiempo suficiente para hacer que la capa a base de TiO2, la cual es naturalmente capaz de absorber los fotones en la región de los UV, sea igualmente capaz de absorber los fotones del espectro visible, y por el hecho de que el tratamiento térmico corresponde…

PROCEDIMIENTO DE ELABORACIÓN POR PROYECCIÓN TÉRMICA DE UNA DIANA A BASE DE SILICIO Y DE CIRCONIO.

(03/01/2011) Composición de un compuesto que comprende los componentes definidos a continuación y expresados en porcentaje en masa, el cual permite la elaboración de una diana por un procedimiento de elaboración por proyección térmica, especialmente por vía plasma, caracterizada porque está constituida esencialmente por: - Al : 2 a 20% - Si : 25 a 45% - ZrSi2 : 45 a 70%

SUSTRATO, PARTICULARMENTE SUSTRATO DE VIDRIO, QUE TIENE UNA CAPA CON PROPIEDADES FOTOCATALITICAS REVESTIDA DE UNA CAPA PROTECTORA DELGADA.

(29/10/2010) Estructura que comprende un sustrato que lleva, sobre al menos una parte de su superficie, una capa con propiedades fotocatalíticas, antisuciedad, a base de dióxido de titanio (TiO2), revestida con una capa delgada que contiene silicio y oxígeno, de poder cubriente, no porosa, apta para asegurar una protección mecánica y química de la capa fotocatalítica subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica del TiO2, caracterizada porque contiene, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO2, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial en forma anatasa de la capa superior a base de TiO2

ACRISTALAMIENTO PROVISTO DE UN APILAMIENTO DE CAPAS FINAS PARA LA PROTECCION SOLAR Y/O EL AISLAMIENTO TERMICO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/05/2008). Ver ilustración. Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Clasificación: C03C17/36.

Acristalamiento que comprende al menos un sustrato transparente dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprenden una alternancia de n capa(s) funcional(es) con propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y de n+1 revestimientos compuestos por una o varias capas de material dieléctrico, de manera que cada capa funcional esté dispuesta entre dos revestimientos, al menos un revestimiento que comprende al menos dos capas de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una capa absorbente en el visible se inserta entre dos capas de material dieléctrico de al menos uno de dichos revestimientos.

SUSTRATO TRANSPARENTE CON REVESTIMIENTO ANTIRREFLEJOS DE BAJA EMISIVIDAD O ANTISOLAR.

Secciones de la CIP Física Química y metalurgia

(16/06/2007). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Clasificación: G02B5/28, C03C17/34, G02B1/11.

Sustrato transparente que incluye sobre al menos una de sus caras un revestimiento antirreflejos hecho de un apilamiento de capas finas, de índices de refracción alternativamente altos y bajos, a base de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una de las capas finas de alto índice de dicho revestimiento antirreflejos comprende óxido de titanio depositado por pulverización catódica que se modifica químicamente por incorporación de nitrógeno de tal modo que reduzca su índice de refracción hasta un valor de a lo sumo 2, 40, en particular, 2, 38 y preferentemente hasta valores comprendidos entre 2, 25 y 2, 38 de una longitud de onda de 580 nm.

SUSTRATO CON REVESTIMIENTO FOTOCATALITICO.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(01/03/2007). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Clasificación: C23C14/08, C03C17/34, G02B1/11.

Procedimiento de deposición por pulverización catódica de un revestimiento con propiedades fotocatalíticas que comprende óxido de titanio al menos parcialmente cristalizado, en particular, bajo forma anatasa sobre un substrato portador transparente o semitransparente del tipo vidrio, vitrocerámico, plástico en el cual se realiza la pulverización bajo una presión de deposición P de al menos 2 Pa, caracterizado porque se realiza la pulverización a temperatura ambiente y porque la deposición del revestimiento es seguida por un tratamiento de tipo recocido con el fin de obtener la cristalización del revestimiento.