CIP-2021 : C23C 14/54 : Control o regulación de los procesos de revestimiento.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/54 · · Control o regulación de los procesos de revestimiento.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Dispositivo para la formación de recubrimientos sobre superficies de una pieza constructiva, un material en forma de banda o una herramienta.
(20/11/2019) Dispositivo para la formación de recubrimientos sobre superficies de una pieza constructiva, un material en forma de banda o una herramienta, en el que al menos un material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo utilizado para la formación del recubrimiento respectivo forma/forman un cátodo y/o un ánodo que están conectados a una fuente de tensión continua eléctrica, y entre los cuales está configurado un arco eléctrico, pudiéndose alimentar material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo mediante un equipo de alimentación; y
material fundido y/o evaporado del material en forma de hilo o de banda (2.1 y/o 2.2), mediante una corriente de gas de un gas o de una mezcla de gases y a través de una entrada, penetra en el interior…
Conjuntos de metalizador en línea y sistemas de transportador de recubrimiento de piezas que incorporan los mismos.
(24/07/2019) Un conjunto de metalizador en línea que comprende:
una pluralidad de portapiezas , cada uno adaptado para contener una pluralidad de piezas, comprendiendo los portapiezas una pluralidad de fijaciones de pasador rotatorias , un cuerpo de elevación , un bastidor de soporte , que está separado del cuerpo de elevación, y un elemento de empuje que comprende un pasador que está adaptado para deslizarse en relación con al menos uno del cuerpo de elevación o el bastidor de soporte del portapiezas y un resorte que está configurado para aplicar un fuerza al cuerpo de elevación o al bastidor de soporte, en el que el elemento de empuje puede comprimirse de tal manera que una posición relativa entre el cuerpo de elevación y el bastidor de soporte pueda recolocarse a lo largo del pasador, en el que las fijaciones de pasador rotatorias…
Método para filtrar macropartículas en una deposición física de vapor por arco catódico (PVD), en vacío.
(26/06/2019) Un método para filtrar macropartículas en una deposición física de vapor por arco catódico (PVD) en vacío, comprendiendo dicho método la etapa de evaporar un material de una fuente sólida por medio de una aplicación del arco sobre la fuente, formar un plasma que comprende electrones, micropartículas (vapor) e iones de material evaporado, junto con macropartículas de mayor tamaño que las micropartículas y los iones,
- la deposición física de vapor por arco catódico (PVD) es pulsada;
- siendo dicho material carbono;
caracterizado por que
el arco se mueve sobre la fuente a una velocidad Vcs (velocidad superficial) a la que los electrones, las micropartículas y los iones del material evaporado en un punto P2 impulsan,…
Recipiente de vacío y una parte de la delimitación del mismo y procedimiento para utilizarlo.
(15/05/2019) Parte de una delimitación de un recipiente de vacío, que comprende una parte de pared fija y una parte de pared móvil , en el que la parte de pared fija comprende una abertura y un puerto fijo , en el que la abertura y el puerto fijo están dispuestos separados entre sí, y la parte de pared móvil comprende un puerto móvil , en el que la parte de pared fija y la parte de pared móvil están dispuestas paralelas entre sí y la parte de pared móvil está dispuesta móvil respecto a la parte de pared fija de manera que el puerto móvil queda dispuesto de manera móvil en la abertura, en el que la parte de la delimitación comprende, además, una segunda parte de pared fija que comprende una abertura (104') y un puerto fijo (105'),…
Una cubierta con un sistema de sensor para un sistema de medición configurable para un sistema de pulverización catódica configurable.
(22/10/2018) Una cubierta para un sistema de medición configurable de un sistema de pulverización catódica configurable , estando el sistema de pulverización catódica configurable previsto para la pulverización catódica de revestimientos de múltiples capas sobre un sustrato, y comprendiendo el sistema de pulverización catódica configurable una pluralidad de estaciones y teniendo una pluralidad de aberturas para proporcionar acceso a un espacio dentro de las estaciones ;
- la cubierta se puede unir de manera separable a las aberturas de las estaciones;
- comprendiendo la cubierta un sistema de sensor (M1) que permite determinar una propiedad de una pila parcial del revestimiento…
Procedimiento de deposición de capas delgadas de estequiometría controlada sobre sustratos mediante pulverización catódica reactiva a ángulo rasante.
(06/07/2017). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: RODRIGUEZ GONZALEZ-ELIPE,AGUSTIN, ESCOBAR GALINDO,Ramón, PALMERO ACEBEDO,Alberto, ÁLVAREZ MOLINA,Rafael, ALCON CAMAS,Mercedes, GUILLÉN RODRÍGUEZ,María Elena, RICO GAVIRA,Victor Joaquin, LOPEZ SANTOS,Maria Del Carmen.
Procedimiento de deposición de capas delgadas de estequiometría controlada sobre sustratos mediante pulverización catódica reactiva a ángulo rasante.
El objeto de la invención se refiere a un procedimiento para la deposición de capas finas sobre un sustrato, basada en la técnica de pulverización catódica reactiva, con el objetivo de controlar la composición química del material depositado y, en paralelo, aumentar la tasa de deposición respecto a la que se obtendría mediante este procedimiento en su modo convencional de uso.
Se consigue evitar el envenenamiento del cátodo mediante la determinación del valor crítico de flujo de gas reactivo en el reactor a partir del cual se produce dicho fenómeno y disponiendo el sustrato en una configuración geométrica respecto del cátodo de forma que las especies pulverizadas de este lleguen a la superficie del sustrato según un ángulo rasante promedio, medido respecto de esta, con valores comprendidos entre 0º y 85º.
PDF original: ES-2622461_R1.pdf
PDF original: ES-2622461_B1.pdf
PDF original: ES-2622461_A2.pdf
Método para la deposición de películas de óxidos mixtos sobre sustratos de material compuesto.
(09/11/2016). Solicitante/s: EDISON S.P.A. Inventor/es: BINDI,MASSIMILIANO.
Un método para la deposición de una película de óxido mixto sobre un sustrato de material compuesto, que comprende una etapa de evaporación-deposición de un óxido mixto, en la que se envía un haz de electrones sobre un objetivo de un óxido mixto que tiene la misma composición estequiométrica que la película a depositar, de modo que provoque la evaporación del material desde el objetivo y la deposición del material evaporado sobre un sustrato fabricado de material compuesto; estando el método caracterizado por que la etapa de evaporación-deposición se lleva a cabo con una tasa de deposición, medida sobre el sustrato, creciente durante dicha etapa de evaporación-deposición.
PDF original: ES-2605884_T3.pdf
Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica y proceso para su preparación.
(04/05/2016). Solicitante/s: COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH. Inventor/es: BARSHILIA,HARISH CHANDRA.
Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica, que comprende apilamientos tándem de capas consistentes en una capa intermedia de titanio Ti o cromo seguida por una primera capa absorbedora que comprende aluminio-nitruro de titanio AlTiN, una segunda capa absorbedora que comprende aluminio-oxinitruro de titanio AlTiON depositada sobre la primera capa absorbedora y una tercera capa antirreflectante que comprende aluminio-óxido de titanio AlTiO depositada sobre la segunda capa absorbedora.
PDF original: ES-2583766_T3.pdf
Método para la producción de un cable metálico revestido con una capa de latón.
(13/04/2016) Un método para producir un cable metálico revestido que comprende un núcleo de acero y una capa de revestimiento fabricada de un material de aleación metálica que incluye al menos un primer componente metálico y al menos un segundo componente metálico, seleccionándose dichos primer y segundo componentes metálicos de la capa de revestimiento del grupo que consiste en cobre, cinc, manganeso, cobalto, estaño, molibdeno, hierro, níquel, y aluminio, comprendiendo el método las etapas de:
a. transportar dicho núcleo de acero a lo largo de una trayectoria predeterminada de una manera esencialmente continua, estando situada dicha trayectoria predeterminada en las proximidades de al menos un cátodo fabricado de dicho material de aleación metálica que…
Máquina para revestir un artículo óptico con una composición de revestimiento antisuciedad y procedimiento para utilizar la máquina.
(05/03/2014) Máquina para revestir un artículo óptico con una composición de revestimiento antisuciedad, que comprende:
- una cámara de vacío que presenta un especio interior configurado para recibir el artículo óptico ;
- una bomba de vacío conectada a la cámara de vacío ;
- un generador de plasma configurado para llevar a cabo un tratamiento de plasma al vacío del artículo óptico en la cámara de vacío ;
- un dispositivo de evaporación configurado para llevar a cabo un tratamiento de evaporación al vacío de la composición de revestimiento antisuciedad para su depósito sobre el artículo óptico en la cámara de vacío ; y
- una unidad de control configurada para controlar tanto el generador de plasma como el dispositivo de evaporación;
controlando…
Procedimiento de realización de al menos un microcomponente con una máscara única.
(20/11/2013) Procedimiento de realización de un microcomponente que comprende un apilamiento sobre un sustrato , incluyendo el apilamiento una primera capa depositada según un primer motivo y una segunda capa depositada según un segundo motivo, diferente del primer motivo, caracterizado porque el primer motivo está formado a través de una abertura de una máscara llevada a una primera temperatura (T1), y porque el segundo motivo está formado a través de la misma abertura de la misma máscara llevada a una segunda temperatura (T2), diferente de la primera temperatura.
Generador de vapor industrial para el depósito de un revestimiento de aleación sobre una banda metálica y procedimiento de realización.
(08/03/2013) Instalación de depósito al vacío de un revestimiento de aleación metálica sobre un sustrato , equipada con ungenerador-mezclador de vapor que comprende una cámara de vacío en forma de un recinto, provista de mediospara asegurar allí un estado de depresión con respecto al medio exterior y provista de medios que permiten laentrada y la salida del sustrato , siendo al mismo tiempo esencialmente estanca con respecto al medio exterior,englobando dicho recinto un cabezal de depósito de vapor, denominado eyector , configurado para crear unchorro de vapor de aleación metálica a la velocidad sónica en dirección y perpendicular a la superficie del sustrato , estando dicho eyector en comunicación de manera estanca…
PROCEDIMIENTO PARA LA DETERMINACION IN SITU DEL ESPESOR DE UNA CAPA.
(01/03/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: REICHE, RALPH, BAST, ULLRICH, DR., BEYER, ROMAN.
Procedimiento para la determinación in situ del espesor de capa durante una alitación de un componente , en el que el componente recibe material de revestimiento por difusión, y en el que un sensor cambia debido a la alitación de tal modo que, en consecuencia, se ejerce una influencia sobre una característica eléctrica del sensor está relacionada con el espesor de la capa, y el cambio de la característica eléctrica se utiliza para la determinación del espesor de la capa.
HERRAMIENTA CON UN SISTEMA DE CAPA PROTECTORA.
(01/07/2004). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BRAENDLE, HANS, SHIMA, NOBUHIKO.
Una herramienta con un cuerpo de herramienta y un sistema de capa resistente al desgaste, comprendiendo dicho sistema de capa al menos una capa de MeX, en la que -Me comprende titanio y aluminio; -X es al menos uno de entre nitrógeno y carbono; y en la que dicha capa tiene un valor QI QI >1; en la que QI = I /I ; y dicho cuerpo de herramienta es de uno de los materiales -acero de alta velocidad (HSS); -carburo cementado, y en la que dicha herramienta no es una fresa radial de carburo sólido ni tampoco una fresa de punta de bola de carburo sólido, -con lo que el valor de I es al menos 20 veces el valor de ruido medio en intensidad.
DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE UN SUBSTRATO.
(16/10/2002) LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE UN SUBSTRATO , ABARCANDO UNA FUENTE DE CORRIENTE, QUE ESTA UNIDA CON UN CATODO , QUE SE DISPONE EN UNA CAMARA DE VACIO Y CON UN OBJETIVO ACTUANDO CONJUNTAMENTE, ASI COMO UNA FUENTE DE GAS DE PROCESO, QUE SE UNE CON LA CAMARA DE VACIO. ENTRE LA CAMARA DE VACIO Y LA FUENTE DE GAS DE PROCESO SE CONECTA UNA VALVULA DOSIFICADORA CONTROLADA POR MEDIO DE UN REGULADOR Y SE UNE CON AL MENOS UNA BOMBA DE VACIO, CUYO LADO DE ASPIRACION SE CONECTA CON LA CAMARA DE VACIO. SE CARACTERIZA A TRAVES DE UN SENSOR DE MEDICION, EN PARTICULAR UN ELECTRODO DE MEDICION POTENCIOMETRICO, QUE COMPARA LA PORCION DE UN GAS EN LA CAMARA DE VACIO O UNA CONDUCCION DE AFLUENCIA, QUE SE UNE CON LA CAMARA DE VACIO…
PROCEDIMIENTO PARA REGULAR UN PROCESO DE REVESTIMIENTO.
(16/06/2002). Solicitante/s: STEAG HAMATECH AG. Inventor/es: WINDELN, WILBERT, SARBACHER, UWE.
Procedimiento para regular un proceso de revesti miento destinado a aplicar una capa sobre un substrato que presenta una estructura difractora , en donde se determina la intensidad de un haz de luz incidente sobre el substrato revestido y difractado por éste, después de su transmisión y/o reflexión, para al menos el primer orden o un orden superior, y se aprovecha esto como magnitud real para regular el espesor de capa.
METODOS Y APARATO PARA BOMBARDEO IONICO DE MAGNETRON.
(01/07/2000). Solicitante/s: THE BOC GROUP, INC.. Inventor/es: SIECK, PETER A., NEWCOMB, RICHARD, TRUMBLY, TERRY A., SCHULZ, STEPHEN C.
UN APARATO CON UNA CAMARA DE VACIO PARA EXTENDER UNA PELICULA DELGADA DE MATERIAL SOBRE UN SUBSTRATO QUE ESTA SIENDO MOVIDO A TRAVES DE UN CONDUCTOR, CONTIENE: UNA SUPERFICIE DE DESTINO DE FORMA CILINDRICA QUE GIRA SOBRE UN EJE ALARGADO DE LA MISMA QUE ESTA ORIENTADO A EXTENDERSE TRANSVERSALMENTE AL CONDUCTOR SUBSTRATO, INCLUYE IMANES EN LA CARA DEL CONDUCTOR, SIENDO LA SUPERFICIE DE DESTINO MANTENIDA A UN VOLTAJE NEGATIVO, DE MODO QUE SE DEFINA UNA ZONA DE DEPOSITO ENTRE EL OBJETIVO Y EL CONDUCTOR SUBSTRATO QUE SE EXTIENDE A LOS LARGO DE LA LONGITUD DEL CILINDRO, E INCLUYE AL MENOS UN ANODO ADYACENTE A LA SUPERFICIE DE DESTINO Y CONECTADO A UN VOLTAJE POSITIVO DE UNA FUENTE DE ENERGIA PARA AJUSTAR UN PERFIL QUE CORTE LA ZONA DE DEPOSITO DE UN INDICE DE DEPOSITO DE MATERIAL EN EL SUBSTRATO.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA MEDICION IN SITU DE LAS TENSIONES QUE SE DESARROLLAN EN EL SENO DE UNA CAPA DELGADA CUANDO TIENE LUGAR SU APLICACION SOBRE UN SUBSTRATO.
(01/11/1999). Solicitante/s: ESSILOR INTERNATIONAL COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE. Inventor/es: BOSMANS, RICHARD, FRAKSO, FATIMA, NOUVELOT, LUC.
SE TRATA DE INTERVENIR IN SITU EN UN RECINTO DE TRATAMIENTO EN EL QUE UN SOPORTE COLECTIVO PRESENTA UNA PLURALIDAD DE EMPLAZAMIENTOS DESTINADOS A RECIBIR LOS SUSTRATOS A TRATAR, EMPLEANDO UN DISPOSITIVO QUE LLEVA UNA MUESTRA DE PRUEBA , UNA FUENTE DE LUZ , QUE DIRIGE UN HAZ LUMINOSO SOBRE ESTA MUESTRA DE PRUEBA , Y UN DETECTOR SOBRE EL QUE ES REENVIADO EL HAZ REFLEJADO POR ESTE. SEGUN LA INVENCION, LA MUESTRA DE PRUEBA ESTA DISPUESTO SOBRE UN SOPORTE INDIVIDUAL , QUE ES SUSCEPTIBLE DE SER RECIBIDO EN UNO DE LOS EMPLAZAMIENTOS DEL SOPORTE COLECTIVO , Y QUE LLEVA, ADEMAS, CONJUNTAMENTE, LA PARTE INTRODUCTORA , AL MENOS, DEL DETECTOR . APLICACION, PARTICULARMENTE, EN EL TRATAMIENTO ANTIRREFLEJO DE LOS CRISTALES DE GAFAS.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA DETERMINACION Y EL CONTROL DE LA COMPOSICION DE LA MEZCLA GASEOSA REACTIVA QUE ACTUA SOBRE UN SUBSTRATO EN EL TRANSCURSO DE UN TRATAMIENTO FISICO-QUIMICO BAJO ATMOSFERA RARIFICADA.
(01/07/1999). Ver ilustración. Solicitante/s: INNOVATIQUE S.A. Inventor/es: BARAVIAN, GERARD, JACQUOT, PATRICK, DAMOND, ERIC, SULTAN, GILBERT.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA DETERMINACION Y EL CONTROL DE LA COMPOSICION DE LA MEZCLA GASEOSA REACTIVA QUE ACTUA SOBRE UN SUBSTRATO EN EL TRANSCURSO DE UN TRATAMIENTO FISICO-QUIMICO BAJO ATMOSFERA RARIFICADA, CUYO PROCEDIMIENTO CONSISTE EN EFECTUAR UN ANALISIS ESPECTROSCOPICO DE LAS EMISIONES DEL PLASMA DE VAPOR ENGENDRADO AL NIVEL DE UN BLANCO SOMETIDO A UNA DESCARGA DE ARCO, DEDUCIR DEL RESULTADO DE ESTE ANALISIS LA CONCENTRACION DE LAS ESPECIES RADIANTES Y ACTUAR SOBRE LOS DIFERENTES PARAMETROS DE LA INSTALACION TALES COMO LOS CAMPOS ELECTRICOS Y MAGNETICOS APLICADOS AL BLANCO ASI COMO SOBRE LOS FLUJOS DE GAS PARA MANTENER ESTA CONCENTRACION AL NIVEL DESEADO. LA INVENCION SE APLICA PRINCIPALMENTE A LOS DEPOSITOS DE CAPAS MONO O MULTI-ELEMENTOS TALES COMO CARBONITRUROS METALICOS SOBRE UN SUBSTRATO.
UN FILM DE BAJA EMISIBIDAD.
(16/02/1997). Solicitante/s: ASAHI GLASS COMPANY LTD.. Inventor/es: MIYAZAKI, MASAMI, ANDO, EIICHI.
ES UN FILM DE BAJA EMISIBIDAD QUE CONSTA DE: UN SUSTRATO; Y UN RECUBRIMIENTO DE FILMS DE OXIDO Y METALICOS, FORMADOS ALTERNATIVAMENTE SOBRE EL SUSTRATO, TOTALIZANDO (2N + 1) CAPAS, DONDE N ES UN NUMERO IGUAL O MAYOR QUE 1, SIENDO LA CAPA MAS INTERNA DE UN FILM DE OXIDO, Y DONDE EL FILM DE OXIDO (B) FORMADO SOBRE EL LADO MAS EXTERNO DEL FILM METALICO (A) QUE ES PARTE DEL SUSTRATO, TIENE UNA FUERZA INTERNA QUE ES IGUAL A O MENOR DE 1,1 X 10 ELEVADO 10 DINAS/CM (AL CUADRADO).
CAPA DURA ANTIRREFLEJOS PARA LENTES DE PLASTICO.
(16/01/1997). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: ZOLLER, ALFONS, DIPL.-ING. , MATL, KARL, DR. RER. NAT., GOTZELMANN, RAINER, DIPL.-PHYS., SAUER, GUNTHER.
LA INVENCION SE REFIERE A UN REVESTIMIENTO RESISTENTE AL RAYADO PARA MATERIALES OPTICOS DE PLASTICO, ASI COMO A UN METODO PARA LA FABRICACION DE ESTE REVESTIMIENTO. PARA QUE EL MATERIAL PLASTICO, POR EJEMPLO, UNA LENTE CR39, ESTE PROTEGIDO CONTRA ARAÑAZOS, PRIMERAMENTE SE APLICA UNA CAPA DE ADHERENCIA MUY DELGADA DE SIO, QUE A CONTINUACION SE PROVEE CON UNA CAPA GRUESA DE SIO2. LAS DOS CAPAS SE APLICAN EN UNA CAMARA DE VACIO QUE CONTIENE UN EVAPORADOR Y UNA FUENTE DE PLASMA.
PROCEDIMIENTO E INSTALACION PARA EL RECUBRIMIENTO DE CAPAS DE AL MENOS UN OBJETO.
(16/12/1996). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: KUEGLER, EDUARD, DR. DIPL.-ING.
PROCEDIMIENTO E INSTALACION PARA EL RECUBRIMIENTO DE CAPAS DE AL MENOS UN OBJETO. PARA LA PRODUCCION DE CAPAS DIELECTRICAS SE PULVERIZA CON REACTIVO UN OBJETO CONDUCTOR. LA MANTENIDA DESCARGA DE EFLUVIOS SE ALIMENTA CON CORRIENTE CONTINUA Y CORRIENTE ALTERNA, SUPERPUESTA A LA CORRIENTE CONTINUA. POR MEDIO DE UN CIRCUITO DE REGULACION SE ESTABILIZA EL PUNTO DE TRABAJO DEL PROCESO EN EL POR SI INESTABLE MODO DE TRANSFERENCIA. SE CONSIGUE UN ALTO RENDIMIENTO EN EL RECUBRIMIENTO DE CAPAS CON UN ALTO GRADO DE REACCION DE LA CAPA APLICADA.
FABRICACION DE UN SEMICONDUCTOR.
(16/07/1996) LA INVENCION SE REFIERE A UN SISTEMA PARA BOMBEAR HACIA ABAJO EL GAS A PRESION QUE SE ENCUENTRA, TRAS UNA INTERRUPCION, EN LA TUBERIA UTILIZA PARA PROPORCIONAR UNA CORRIENTE DE GAS PARA CALENTAR/REFRIGERAR LA RODAJA LATERAL POSTERIOR DURANTE LA ELABORACION DE LA RODAJA SEMICONDUCTORA . EL SISTEMA INCLUYE UNA TUBERIA SECUNDARIA QUE SE PUEDE SELECCIONAR CON UNA VALVULA PARA IGUALAR, EN CASO DE QUE OCURRA UNA INTERRUPCION, CUALQUIER DIFERENCIA DE PRESIONES QUE PUEDA DARSE EN LA TUBERIA DE GAS PRINCIPAL ENTRE LA CAMARA DE PROCESO Y EL ELEMENTO DE CALENTAMIENTO DE LA PARTE LATERAL POSTERIOR . LA TUBERIA SECUNDARIA SE EXTIENDE DESDE UNA ABERTURA QUE HAY EN LA PARED DE LA CAMARA DE PROCESO HASTA UNA JUNTA EN T INSTALADA EN LA TUBERIA PRINCIPAL JUSTO CORRIENTE ABAJO DE LA VALVULA…
DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA RECUBRIR PIEZAS HERRAMIENTAS MEDIANTE DESCARGAS POR ARCO VOLTAICO.
(01/08/1994). Solicitante/s: NISHIBORI, MINEO, DR. Inventor/es: NISHIBORI, MINEO, DR.
EL INVENTO SE REFIERE A UN DISPOSITIVO DE CALENTAMIENTO, QUE SE LOCALIZA EN UNA CAMARA DE VACIO Y CALIENTA LA PIEZA HERRAMIENTA A UNA TEMPERATURA ENTRE 0,3 Y 0,5% INFERIOR A LA TEMPERATURA DE FUSION DEL MATERIAL CATODICO, PARA MEJORAR EL RECUBRIMIENTO DE PIEZAS HERRAMIENTAS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA EN VACIO QUE CONSISTE EN DEPOSITAR GOTAS DE MATERIAL CATODICO EN UNA PIEZA HERRAMIENTA.
CAMARA DE RECUBRIMIENTO CON COMBINADOS REGLADOS DEL GAS ATMOSFERICO.
(01/11/1992). Solicitante/s: MULTI-ARC OBERFLACHENTECHNIK GMBH. Inventor/es: MAXAM, SIEGFRIED, FRINK, LOTHAR.
SE DESCRIBE EL PROCESO Y EL DISPOSITIVO DE LA CAMARA DE RECUBRIMIENTO DE LA CAMARA DE RECUBRIMIENTO CON COMBINADOS DE GAS ATMOSFERICO.
PROCEDIMIENTO PARA MEDIR LA FRECUENCIA DE UNA SEÑAL DESCONOCIDA.
(16/02/1988). Solicitante/s: EMKAY MANUFACTURING COMPANY.
PROCEDIMIENTO PARA MEDIR LA FRECUENCIA DE UNA SEÑAL DESCONOCIDA. SE TRATA DE EMPLEAR EL NUMERO DE CUENTAS DE UNA SEÑAL DE REFERENCIA DE ALTA Y DE BAJA FRECUENCIA QUE TIENE LUGAR ENTRE LOS FLANCOS DE SUBIDA Y BAJADA DEL IMPULSO DE FRECUENCIA DESCONOCIDA. ESTA TECNICA SE PUEDE UTILIZAR EN PROCESOS DE CONTROL, CUANDO SE DESEE OPTIMIZAR EL PROCESO AUMENTANDO SU VELOCIDAD Y DECELERANDO EL PROCESO A MEDIDA QUE SE APROXIMA AL ESTADO ESTABLE DESEADO O A OTRO PUNTO DE CONTROL DEL PROCESO.
UN METODO DE CONTROLAR EL TAMAÑO DEL AREA DE SUPERFICIE DE UN ELECTRODO DESDE EL CUAL SE GENERA UN PLASMA EN UN PROCESO DE REVESTIMIENTO POR DEPOSICION DE VAPOR.
(01/03/1987). Solicitante/s: MULTI-ARC VACUUM SYSTEMS INC.
METODO PARA CONTROLAR EL TAMAÑO DEL AREA DE LA SUPERFICIE DE UN ELECTRODO DESDE EL CUAL SE GENERA UN PLASMA EN UN PROCESO DE REVESTIMIENTO POR DEPOSICION DE VAPOR. COMPRENDE LOS SIGUIENTES PASOS: PRIMERO, SE GENERA UN PLASMA DE MATERIAL DE REVESTIMIENTO DESDE UN ELECTRODO; SEGUNDO, SE CREA UN CAMPO MAGNETICO QUE INFLUENCIA AL PLASMA QUE SE ESTA GENERANDO EN DICHO ELECTRODO Y QUE TIENE LINEAS DE FUERZA INCLINADAS HACIA LA PERIFERIA DE LA SUPERFICIE GENERADORA DE PLASMA DEL ELECTRODO; Y POR ULTIMO, SE AJUSTA LA FUERZA DEL CAMPO MAGNETICO PARA REGULAR EL TAMAÑO DEL AREA DE SUPERFICIE SOBRE EL ELECTRODO DESDE LA CUAL SE GENERA EL PLASMA.
