(22/04/2020) Proceso para depositar un revestimiento en un sustrato de vidrio, dicho proceso estando caracterizado porque comprende las siguientes etapas sucesivas: a) pasar dicho sustrato a través de un dispositivo para deposición al vacío por pulverización catódica, b) introducir un gas en dicho dispositivo para deposición al vacío y generar un plasma a partir de dicho gas, c) co-pulverización simultáneamente, en una y la misma cámara del dispositivo para deposición al vacío, - de un primer componente hecho de un material que consiste en un óxido, un nitruro o un oxinitruro de un primer elemento y - de un segundo componente que consiste en la forma…

(26/02/2020) Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato , incluyendo el conjunto de plasma: una diana magnetrónica (Ts) que tiene una superficie diana; un cátodo magnetrónico con un borde largo, un borde corto y un polo magnético, estando dicho polo magnético dispuesto para formar, en el uso, un circuito de pulverización catódica dentro de la diana magnetrónica (Ts) y una barrera electromagnética; un ánodo (As) conectado eléctricamente al cátodo magnetrónico; un suministro de energía de cátodo magnetrónico (Ps) conectado al cátodo magnetrónico y al ánodo; al menos dos electrodos de descarga de arco remoto ; un suministro de energía de descarga de arco remoto conectado entre los al menos dos electrodos de descarga de arco remoto…

(12/02/2020) Placa transparente con por lo menos un recubrimiento calentable, conductor de la electricidad, que está unido con por lo menos dos electrodos (11, 11') colectores suministrados para la conexión eléctrica, con los dos polos de una fuente de voltaje, de modo que mediante aplicación de un voltaje de alimentación fluye una corriente de calor a través de un campo de calor formado entre los electrodos colectores, en la que el campo de calor contiene al menos una zona libre de recubrimiento que está limitada por un borde de zona formada al menos en secciones por el recubrimiento conductor de la electricidad, en la que - por lo menos un electrodo (11, 11') colector está conectado eléctricamente…

(15/01/2020) Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento de una atmósfera de gas, que presenta una entrada y una salida para un gas de proceso, así como un ánodo y un cátodo de evaporación cilíndrico realizado como diana , comprendiendo dicho cátodo de evaporación cilíndrico el material diana , estando prevista además una fuente de energía eléctrica para generar una tensión eléctrica entre el ánodo y el cátodo , de manera que por medio de la fuente de energía eléctrica el material diana del cátodo cilíndrico se puede convertir a una fase de vapor, y estando prevista una fuente de campo magnético que genera un campo magnético, estando previstos en la cámara de proceso al mismo tiempo un…

(05/11/2019) Herramienta, compuesta por - un cuerpo de sustrato de metal duro, cermet, cerámica, acero o acero de corte rápido, - un revestimiento de protección contra el desgaste con un o con una pluralidad de estratos, depositado opcionalmente sobre el cuerpo de sustrato, y - una capa de detección de desgaste de una pluralidad de estratos (B), dispuesta como capa más externa sobre el cuerpo de sustrato o sobre el revestimiento de protección contra el desgaste opcional, la cual comprende al menos 4 estratos individuales dispuestos unos sobre otros, producida a través de la deposición de metales elementales, aleaciones de metal o compuestos de metal eléctricamente conductores,…

(17/05/2019) Herramienta de corte con un sustrato de metal duro, cermet, acero o acero de corte rápido (HSS) y un revestimiento de varias capas precipitado sobre éste en el procedimiento PVD, que comprende la siguiente secuencia de capas partiendo del sustrato: a) una capa básica constituida por una o varias capas iguales o diferentes superpuestas de un nitruro o carbonitruro, que contiene al menos aluminio (Al) y opcionalmente uno o varios metales ulteriores, seleccionados entre Ti, Cr, Si, Y, Ru y Mo, b) una capa intermedia de óxido de aluminio cúbico dispuesta directamente sobre la capa básica, c) una capa funcional que contiene cromo dispuesta sobre la capa intermedia con estructura romboédrica, seleccionada entre óxido de cromo (Cr2O3), oxinitruro de cromo, óxido de…

(01/05/2019) Dispositivo de recubrimiento mediante pulverización, que se compone de en una serie de segmentos de pulverización y de segmentos de separación de gases con un plano de sustrato continuo , en el que los segmentos de pulverización están formados por una cubeta de caldera con un dispositivo de transporte interno para el transporte de sustratos y por al menos una tapa de la caldera conectada a la cubeta de caldera por medio de una brida de la caldera , disponiéndose la brida de la caldera en la proximidad inmediata por encima del plano de sustrato y encontrándose un bloque de apoyo de cátodos con objetivo y los canales de entrada de gas en las proximidades inmediatas…

(04/04/2019) Un aparato de pulverización catódica para recubrir por pulverización catódica, un artículo en un entorno reactivo, que comprende: una cámara de vacío ; un cátodo que tiene una porción de cuerpo hueca; y en donde el aparato de pulverización catódica comprende, además: un yugo sustancialmente plano provisto entre el cátodo y la cámara , incluyendo el yugo al menos la primera y la segunda ubicaciones objetivo (56a; 56b) provistas en una primera superficie principal del mismo, y al menos una tercera y una cuarta ubicaciones objetivo (56c; 56d) provistas en una segunda superficie principal del mismo, estando dispuestas la al menos primera y segunda ubicaciones objetivo (56a; 56b) de manera que al menos inicialmente se enfrenten a la cámara de vacío , estando las al menos tercera y…

(03/04/2019) Un bloque de extremo para transportar de manera giratoria un tubo de objetivo de pulverización catódica y para sujetar una barra de imán dentro de dicho tubo de objetivo de pulverización catódica, comprendiendo dicho bloque de extremo un receptáculo para recibir un accesorio de barra de imán , en donde dicho receptáculo comprende una primera parte de un conector de señal dispuesto para recibir una segunda parte de un conector de señal de dicho accesorio de barra de imán y que permite una conexión de señal entre el bloque de extremo y la barra de imán que se va a formar, comprendiendo el bloque de extremo un canal de líquido de refrigeración para conducir…

(28/02/2019) Sistema de recubrimiento depositado sobre una superficie de un sustrato que comprende al menos una película de varias capas formada de nanocapas A y B alternadas depositadas una sobre otra, en el que las nanocapas A contienen nitruro de boro aluminio y cromo y las nanocapas B contienen nitruro de aluminio y cromo, pero no contienen boro, caracterizado porque las nanocapas A tienen una región con el mayor contenido de boro y una región con un menor contenido de boro, en el que la región que tiene menor contenido de boro es la región adyacente a las nanocapas B, en la que la suma del espesor de una nanocapa A y el espesor de una nanocapa B depositadas una sobre otra en la película de varias capas…

(11/04/2018) Método de preparación de un artículo revestido que comprende una película soportada por un sustrato, comprendiendo el método: tener una primera y una segunda dianas de pulverización catódica cilíndricas giratorias, comprendiendo la primera diana de pulverización catódica un primer material de pulverización catódica y comprendiendo la segunda diana de pulverización catódica un segundo material de pulverización catódica, pulverizar catódicamente la primera y la segunda dianas de pulverización catódica, y en donde al menos una barra de imán de la segunda diana de pulverización catódica se orienta de un modo tal que durante la pulverización catódica de la segunda diana se pulverice…

(17/01/2018) Dispositivo de evaporación por arco que comprende - un cátodo que contiene una superficie con aquel material, que va a evaporarse - medios magnéticos que llevan a un campo magnético a lo largo de la superficie del cátodo - un ánodo para la absorción de los electrones, que se extraen del cátodo durante el proceso de evaporación - una fuente de tensión, que permite colocar en potencial positivo al menos durante cierto tiempo el ánodo frente al cátodo caracterizado por que el ánodo está dispuesto en la proximidad inmediata del cátodo y en combinación con el campo magnético generado por los medios magnéticos de tal manera que las líneas del campo magnético…

(08/11/2017) Un método de fabricación de un artículo recubierto, comprendiendo el método: proporcionar un artículo a recubrir; proporcionar un aparato de pulverización catódica que comprende: una cámara de vacío, un primer y un segundo tubos cilíndricos rotatorios situados en estrecha proximidad entre sí en otra cámara de vacío, soportando el primer y el segundo tubos respectivamente un primer y un segundo objetivos de pulverización catódica que incluyen un material objetivo, al menos una fuente de alimentación eléctrica conectada de forma operativa al primer y al segundo tubos de pulverización catódica, y una entrada de gas del tragante situada próxima al primer y al segundo…

(14/06/2017) Procedimiento para procesar un sustrato mediante pulverización catódica, que comprende: colocar una pluralidad de sustratos sobre un transportador; manejar el transportador de forma que transporte la pluralidad de sustratos a una velocidad constante y en una orientación hacia una diana, de forma que a cualquier tiempo dado, varios sustratos están orientados hacia la diana entre el borde de ataque y el borde de salida; barrer de forma recíproca una disposición de imanes detrás de la diana al tiempo que sostiene el plasma en un espacio entre la diana y los sustratos, en el que la etapa de barrer de forma recíproca la disposición de imanes se realiza a una velocidad que es, como mínimo, varias veces más rápida que la velocidad constante del transportador,…

(29/03/2017) Un dispositivo de pulverización para usarlo en la pulverización de un material, que comprende un ánodo y una cámara de revestimiento que contiene un cátodo y un sustrato que debe ser revestido con el material de pulverización, caracterizado por que el ánodo define un recipiente que tiene un cuerpo interior eléctricamente conductor, un cuerpo exterior, una cavidad anódica dentro del cuerpo interior eléctricamente conductor y una apertura en un extremo del cuerpo interior eléctricamente conductor para comunicar con la cámara de revestimiento para permitir que las partículas cargadas fluyan entre el cuerpo interior eléctricamente conductor y el cátodo en la cámara de revestimiento,…

(14/12/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición física de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición física de vapor incluye al menos un blanco de material de recubrimiento que comprende una fuente del material de recubrimiento resistente al desgaste que va…

(23/11/2016) Un aparato de pulverización catódica que comprende: una diana de pulverización catódica cilíndrica giratoria ; al menos un bloque de extremo para soportar un extremo de la diana de pulverización catódica cilíndrica giratoria , incluyendo el bloque de extremo un colector conductor fijo y un rotor conductor giratorio dispuesto para girar con la diana de pulverización catódica cilíndrica durante las operaciones de pulverización catódica; el bloque de extremo que incluye además una estructura de transferencia de energía eléctrica situada entre el colector conductor fijo y el rotor giratorio y dispuesta para…

(05/10/2016) Un aparato de cátodo rotativo para pulverización por magnetrón que comprende una fuente de alimentación de radiofrecuencia, un conjunto de suministro de energía, un cátodo cilíndrico y rotativo, un árbol y un motor de accionamiento , en el que dicho conjunto de suministro de energía comprende una fuente de campo magnético situada dentro de dicho cátodo y un electrodo que se extiende dentro de dicho cátodo; la superficie exterior de dicho cátodo comprende un material diana ; dicho electrodo está dispuesto para estar aislado eléctricamente de dicho árbol; dicho electrodo y dicho árbol están formados por materiales no ferrosos; dicho árbol está dispuesto para ser generalmente coaxial con dicho cátodo y dispuesto para estar mecánicamente conectado a dicho cátodo de manera que dicho árbol y dicho cátodo estén eléctricamente aislados…

(27/07/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición en fase de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición en fase de vapor incluye al menos un blanco…