CIP 2015 : C03C 17/245 : por depósito a partir de una fase vapor.

CIP2015CC03C03CC03C 17/00C03C 17/245[3] › por depósito a partir de una fase vapor.

Notas[t] desde C01 hasta C14: QUIMICA
Notas[g] desde C03C 15/00 hasta C03C 25/00: Tratamiento de la superficie del vidrio; Tratamiento de la superficie de fibras o filamentos de vidrio, sustancias inorgánicas o escorias

C SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.

C03 VIDRIO; LANA MINERAL O DE ESCORIA.

C03C COMPOSICION QUIMICA DE LOS VIDRIOS, VIDRIADOS O ESMALTES VITREOS; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DEL VIDRIO; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE FIBRAS O FILAMENTOS DE VIDRIO, SUSTANCIAS INORGANICAS O ESCORIAS; UNION DE VIDRIO A VIDRIO O A OTROS MATERIALES.

C03C 17/00 Tratamiento de la superficie del vidrio, p. ej., de vidrio desvitrificado, que no sea en forma de fibras o filamentos, por recubrimiento.

C03C 17/245 · · · por depósito a partir de una fase vapor.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Acristalamiento que comprende una capa a base de óxido de silicio.

(18/02/2019). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Inventor/es: CLABAU,FRÉDÉRIC.

Acristalamiento que incorpora un sustrato que comprende sobre al menos una parte de su superficie un revestimiento a base de un óxido de silicio o de un oxinitruro de silicio, caracterizado por que dicho revestimiento está constituido por una única capa, no presentando el sustrato vítreo ninguna capa inferior ni superior apilada sobre dicha capa única, y por que dicha capa consiste en una capa de SiOx o SiOxNy, siendo x>0 e y>0, que comprende uno o varios elementos dopantes elegidos del grupo constituido por Al, Ga o B con un porcentaje atómico con relación al número total de cationes presente en dicha capa superior al 8%.

PDF original: ES-2700537_T3.pdf

Acristalamiento con reflexión elevada.

(28/09/2018). Solicitante/s: AGC GLASS EUROPE. Inventor/es: COSTER, DOMINIQUE, DI STEFANO,GAËTAN, DUSOULIER,LAURENT.

Acristalamiento que comprende al menos una capa superior depositada por pulverización catódica al vacío, capa compuesta de uno o varios óxidos de los elementos del grupo que comprende: Al, Zr, Hf, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Si y que comprende para una proporción ponderal que no es inferior al 40% y no superior al 95%, de óxido de titanio, el grosor de la capa en cuestión y eventualmente de las de las otras capas también constituidas de óxidos metálicos presentes, siendo seleccionado(a) de manera que, en una hoja de cristal "float" claro de 4 mm de grosor, esta o estas capas conducirían a una reflexión de al menos un 15% y una transmisión luminosa de al menos un 60%, siendo el grosor de la capa superior a base de óxido de titanio seleccionado entre 15,0 y 90,0 nm y preferentemente entre 20,0 y 50,0 nm.

PDF original: ES-2683895_T3.pdf

Tetracloruro de estaño estabilizado no fumante.

(14/09/2018). Solicitante/s: Segura Ruiz, Pedro. Inventor/es: SEGURA RUIZ,PEDRO, SEGURA RUIZ,JORGE, MOYA ZAYAS,JUAN.

Una composición a base de base de tetracloruro de estaño anhidro que consiste en: - al menos 5% en peso de tetracloruro de estaño anhidro - entre 3-15% en peso de ácido inorgánico en agua o - al menos 5% de tetracloruro de estaño anhidro - entre 3-15% en peso de ácido clorhídrico en agua y - entre 1-45% en peso de una mezcla de polialcoholes alifáticos.

PDF original: ES-2681696_T3.pdf

Quemador de deposición por combustión remota y/o métodos relacionados.

(02/05/2018) Un sistema de deposición por combustión remota para su uso en la deposición, mediante deposición por combustión, de un revestimiento sobre un sustrato , que comprende: un quemador de infrarrojos (IR) que está configurado para generar una energía radiante (18') en un área entre el quemador y el sustrato ; y un dispositivo de distribución , en donde el dispositivo de distribución está dispuesto externamente con respecto al quemador, configurado para proporcionar una corriente que comprende un precursor vaporizado y un gas portador a partir de una ubicación que es remota con respecto a la energía radiante que es generada por el quemador de IR, estando configurado adicionalmente el dispositivo de distribución para dar lugar…

Método para fabricar un artículo revestido con un revestimiento antibacteriano y/o antimicrobiano.

(21/03/2018). Solicitante/s: Guardian Glass, LLC. Inventor/es: LEMMER,JEAN-MARC, WANG,JIANGPING, PETRMICHL,RUDOLPH H.

Un método para fabricar un artículo revestido, comprendiendo dicho método: proporcionar un primer blanco de pulverización que comprende Zr; proporcionar un segundo blanco de pulverización que comprende Zr; y copulverizar desde al menos el primero y el segundo blancos de pulverización sobre un sustrato de vidrio para formar una capa que comprende ZnxZryOz, que tiene propiedades antibacterianas y/o antimicrobianas, aplicándose una potencia de pulverización diferente para cada uno del primer y del segundo blancos para controlar la composición de la capa , en donde la potencia para el blanco de Zn es de 1,6 a 3,6 kW y la potencia para el blanco de Zr es de 1,5 a 3,5 kW.

PDF original: ES-2666727_T3.pdf

Procedimiento para la fabricación de un cristal con un recubrimiento conductor de electricidad con defectos aislados eléctricamente.

(13/07/2016). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Inventor/es: LETOCART,PHILIPPE, YEH,LI-YA, BEHMKE,MICHAEL.

Procedimiento para la fabricación de un cristal con recubrimiento conductor de electricidad comprende al menos: - aplicación de un recubrimiento conductor de electricidad sobre un sustrato , - identificación de puntos defectuosos del recubrimiento , - enfoque de la radiación de un láser con perfil del rayo (P) de forma anular sobre el recubrimiento , de manera que el perfil del rayo (P) en forma de anillo rodea el punto defectuoso , y - generación de una zona desnuda en forma de anillo, eliminando al mismo tiempo el recubrimiento en la zona del perfil del rayo (P).

PDF original: ES-2626532_T3.pdf

Procedimiento de limpieza de un sustrato que tiene una superficie ultrahidrófila y fotocatalítica.

(11/03/2015) Un procedimiento de limpieza de un sustrato, que comprende las etapas de: preparar un sustrato recubierto con una capa comprendida de un material semiconductor fotocatalítico; y someter dicho material fotocatalítico a fotoexcitación para volver de este modo la superficie de dicha capa hidrófila; y aclarar dicho sustrato con agua con lo que los depósitos y/o contaminantes orgánicos que están adheridos a la superficie de dicha capa se liberan de la misma y se eliminan por lavado con agua, en el que dicha capa comprende titania mezclada con sílice.

Acristalamiento protector contra el calor y procedimiento para su producción.

(27/11/2014) Equipo de tratamiento térmico con un recinto caliente y una ventana que obtura al recinto caliente, que comprende un acristalamiento protector contra el calor con un revestimiento de filtro de reflexión de los rayos infrarrojos a altas temperaturas, comprendiendo el acristalamiento protector contra el calor una luna de vidrio o de material vitrocerámico con un coeficiente de dilatación térmica lineal α más pequeño que 4,2·10-6/ºK, siendo depositada sobre por lo menos una cara de la luna de vidrio o de material vitrocerámico una capa de dióxido de titanio, que está dopada con un compuesto de por lo menos uno de los…

Procedimiento de deposición de capa fina y producto que incluye una capa fina.

(19/11/2014) Procedimiento de obtención de un substrato revestido sobre al menos una parte de su superficie de al menos una capa de óxido de un metal M cuyo espesor físico es inferior o igual a 30 nm, no estando dicha capa de óxido comprendida en un apilamiento de capas que incluye al menos una capa de plata, incluyendo dicho procedimiento las siguientes etapas: - se deposita por pulverización catódica al menos una capa intermedia un material elegido entre el metal M, un nitruro del metal M, un carburo del metal M o un óxido sub-estequiométrico en oxígeno del metal M, no estando dicha capa intermedia depositada por encima o por debajo de una capa a base de óxido de titanio, siendo el espesor físico de dicha capa intermedia inferior o igual a 30 nm, - se oxida al…

Procedimiento de depósito de capa delgada y producto obtenido.

(30/07/2014) Procedimiento de tratamiento de al menos una capa delgada continua a base de plata depositada sobre una primera cara de un sustrato, en el que se lleva cada punto de dicha al menos una capa delgada a una temperatura de al menos 300ºC manteniendo una temperatura inferior o igual a 150ºC en cualquier punto de la cara de dicho sustrato opuesta a dicha primera cara, con el fin de aumentar el porcentaje de cristalización de dicha capa delgada conservándola continua y sin etapa de fusión de dicha capa delgada.

Artículo revestido que comprende una capa dieléctrica depositada por medio de metalizado por bombardeo atómico.

(02/04/2014) Un artículo revestido que comprende (A) un sustrato (B) una capa dieléctrica depositada, por medio de metalizado por bombardeo atómico, sobre el sustrato que comprende: (i) una primera película dieléctrica seleccionada entre óxido de cinc, óxido de silicio, óxido de estaño, nitruro de silicio, oxinitruro de silicio y estannato de cinc, que tiene cinc en un porcentaje en peso igual y mayor de 10 e igual y menor de 90 y estaño en un porcentaje en peso igual y menor de 90 e igual y mayor de 10, depositada sobre el sustrato (A) y (ii) una segunda película de mejora eléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (i) que es una segunda película de estannato de cinc en donde la segunda película de estannato de cinc tiene cinc dentro del intervalo del 60 al 90 por ciento en peso y estaño en el intervalo del…

Uso de una superficie convertida en superhidrófila fotocatalíticamente con propiedades antiempañantes.

(25/02/2013) Uso de un compuesto que comprende un sustrato y una capa fotocatalizadora recubierta sobre el mismo, dicha capa fotocatalizadora comprende un material semiconductor fotocatalizador que tiene una superficie que se ha vuelto hidrófila mediante fotoexcitación con la luz solar, para antiempañar dichas superficies.

Procedimiento para la fabricación de un objeto de vitrocerámica con un recubrimiento de barrera.

(20/06/2012) Procedimiento para la fabricación de un objeto de vitrocerámica con un recubrimiento de barrera sobre unsustrato , en el que al menos una zona de la superficie del sustrato es barrida con una llama y una capa que contiene óxido metálico o silicato es separada por medio de hidrólisis con un compuesto que contiene metal oun compuesto de silicio en la llama , mientras la llama barre la zona del sustrato , caracterizado porque lacapa que contiene óxido de metal o silicato es aplicada, antes de la sinterización cerámica sobre al menos unlado de un sustrato de vidrio de partida , el sustrato de vidrio de partida es aplicado con su ladorecubierto sobre una capa inferior de…

Sustrato con revestimiento fotocatalítico a base de dióxido de titanio y dispersiones orgánicas a base de dióxido de titanio.

(30/04/2012) LA INVENCION SE REFIERE A UN SUSTRATO PROVISTO SOBRE AL MENOS UNA PARTE DE UNA DE SUS CARAS DE UN REVESTIMIENTO CON PROPIEDADES FOTOCATALITICAS A BASE DE DIOXIDO DE TITANIO AL MENOS PARCIALMENTE CRISTALIZADO E INCORPORADO AL MENCIONADO REVESTIMIENTO EN PARTE EN FORMA DE PARTICULAS MAYORITARIAMENTE CRISTALIZADAS EN FORMA ANATASA. LA INVENCION SE REFIERE ASIMISMO A UN METODO DE PREPARACION DE ESTE SUSTRATO Y A LAS DISPERSIONES ORGANICAS DE PARTICULAS DE DIOXIDO DE TITANIO UTILIZADAS EN EL MENCIONADO METODO DE PREPARACION DEL SUSTRATO.

COMPLEJOS ORGANOMETÁLICOS VOLÁTILES DE REACTIVIDAD REDUCIDA APROPIADOS PARA LA UTILIZACIÓN EN LA DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE DE VAPOR DE PELÍCULAS DE ÓXIDO METÁLICO.

(01/06/2011) Compuesto precursor de la deposición química en fase de vapor (CVD) adecuado para depositar los recubrimientos de óxido metálico en un sustrato calentado, comprendiendo dicho compuesto precursor de la CVD un compuesto de la estructura en la que M es Sn o Zn; MX nL 2 L se selecciona de entre el grupo constituido por formiato de metilo, formiato de etilo, formiato de n-propilo, formiato de i-propilo, formiato de n-butilo, formiato de i-butilo, formiato de t-butil alquilo, y mezclas de los mismos; X es Cl y n es 4 cuando M es Sn; y X es R y n es 2 cuando M es Zn en la que R es alquilo inferior C 1-8 o alquenilo inferior C 2-8;y cuando…

DEPOSICIÓN DE REVESTIMIENTOS DE ÓXIDO DE HIERRO SOBRE UN SUSTRATO DE VIDRIO.

(18/03/2011) Un procedimiento para producir un revestimiento de óxido de hierro sobre un artículo de vidrio en una presión atmosférica, proceso de elaboración de vidrio flotante, caracterizado por: proporcionar un sustrato de vidrio calentado que tiene una superficie en la que va a depositarse el revestimiento; dirigir ferroceno gaseoso y un oxidante gaseoso hacia, y a lo largo de, la superficie a revestirse; y hacer reaccionar el ferroceno y el oxidante en, o cerca de, la superficie del sustrato de vidrio para formar un revestimiento de óxido de hierro en línea a una tasa de deposición mayor que, o igual, a 200 Á/segundo, en el que el sustrato de vidrio revestido presenta un valor a* entre…

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE ARTICULO DE VIDRIO RECUBIERTO RESISTENTE AL RAYADO QUE INCLUYE UNA(S) CAPA(S) RETISTENTE(S) A AGENTE(S) CORROSIVO(S) CON BASE DE FLUORURO.

(04/06/2010) Un procedimiento de fabricación de un artículo recubierto, comprendiendo el procedimiento: proporcionar un sustrato; y formar una capa de antigrabado en el sustrato usando por lo menos un blanco de pulverización iónica y por lo menos una fuente de iones de manera que los iones de la fuente de iones impacten en una superficie formadora de capa junto con material pulverizado iónicamente desde el blanco de pulverización iónica, en el que la capa de antigrabado comprende uno o más de: carburo-nitruro de silicio, carburo-nitruro de silicio hidrogenado, óxido de indio, óxido de indio-molibdeno, óxido de cerio, óxido de indio-estaño, y/u óxido de magnesio

MATERIAL PARA LA METALIZACION POR EVAPORACION, QUE CONTIENE TA2O2 CON X=4,81 HASTA 4,88, PARA LA OBTENCION DE CAPAS ALTAMENTE REFRIGERANTES.

(11/05/2010) Empleo de materiales para la metalización por evaporación, constituidos por Ta2Ox con x = 4,81 hasta 4,88 para la obtención de capas altamente refringentes

PROCEDIMIENTO PARA TEMPLAR TERMICAMENTE UN ARTICULO CON UN RECUBRIERTO CON UN RECUBRIMIENTO DE OXIDO CONDUCTOR TRANSPARENTE (TCO) USANDO UNA(S) LLAMA(S) EN UN HORNO DE TEMPLADO ADYACENTE AL TCO PARA QUEMAR OXIGENO Y PRODUCTO HECHO USANDO EL MISMO.

(06/05/2010) Procedimiento de fabricación de un artículo recubierto que incluye una película conductora transparente, comprendiendo el procedimiento: proporcionar un sustrato de vidrio; formar una película que comprende un óxido conductor transparente en el sustrato de vidrio; y templar el artículo recubierto que incluye el sustrato de vidrio y la película que comprende el óxido conductor transparente, y en el que se proporciona por lo menos una llama en un horno de templado para quemar el oxígeno para evitar o reducir la oxidación de la película que comprende el óxido conductor transparente durante el templado

PROCEDIMIENTO PARA LA DECORACION EN BAJO RELIVE DE MATERIALES CERAMICOS, PORCELANICOS Y VIDRIO Y PRODUCTO OBTENIDO.

(11/11/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: MAXIMINO PORTALES,JOSE. Inventor/es: MAXIMINO PORTALES,JOSE.

Procedimiento para la decoración en bajo relieve de materiales cerámicos, porcelánicos y vidrio y producto obtenido. La presente invención se refiere a un procedimiento para la decoración de materiales cerámicos, vidrio y porcelánico en bajo relieve caracterizado porque comprende al menos las siguientes etapas: - arenado de la zona a decorar con un control de profundidad, - vitrificado superficial de la zona tratada en el paso anterior, y - deposición por PVD, así como a las baldosas decoradas cerámicas, porcelánicas y de vidrio obtenidas mediante el mismo.

COMPOSICION DE REVESTIMIENTO PARA VIDRIO.

(16/12/2004). Solicitante/s: ELF ATOCHEM NORTH AMERICA, INC.. Inventor/es: DIRKX, RYAN R., RUSSO, DAVID A., FLORCZAK, GLENN P.

UN SUBSTRATO DE VIDRIO O CRISTAL QUE TIENE UN REVESTIMIENTO QUE COMPRENDE UNA PELICULA QUE CONTIENE UN OXIDO METALICO, UN OXIDO DE SILICIO Y UN OXIDO DE FOSFORO O DE BORO. EL OXIDO METALICO SE SELECCIONA PREFERIBLEMENTE DEL GRUPO CONSTITUIDO POR OXIDO DE ESTAÑO, OXIDO DE GERMANIO, OXIDO DE TITANIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE CIRCONIO, OXIDO DE CINC, OXIDO DE INDIO, OXIDO DE CADMIO, OXIDO DE TUNGSTENO, OXIDO DE VANADIO, OXIDO DE CROMO, OXIDO DE MOLIBDENO, OXIDO DE IRIDIO, OXIDO DE NIQUEL, OXIDO DE TANTALO.

HORNO DE AUTOLIMPIEZA ACTIVADA FOTOCATALITICAMENTE.

(01/05/2004). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES, INC.. Inventor/es: GREENBERG, CHARLES, B.

Se presenta un dispositivo autolimpiador de los contaminantes orgánicos acumulados sobre una o más de las superficies del dispositivo, cubriendo dichas superficies del dispositivo con un revestimiento autolimpiador de activación fotocatalítica. Tras exponer dichas superficies a radiación de la longitud de onda adecuada, durante un intervalo de tiempo suficiente, al menos se elimina una parte de los contaminantes orgánicos presentes en el revestimiento autolimpiador de activación fotocatalítica. La superficie revestida se limpia sin necesidad de esfuerzo manual o altas temperaturas. La radiación es generalmente actínica e incluye, más particularmente, radiación ultravioleta.

PROCEDIMIENTO DE DEPOSITO DE UNA CAPA A BASE DE OXIDO METALICO SOBRE UN SUSTRATO DE VIDRIO, Y SUSTRATO DE VIDRIO ASI REVESTIDO.

(16/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: SAINT-GOBAIN VITRAGE. Inventor/es: JORET, LAURENT, BERTHELOT, ISABELLE.

LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO DE DEPOSITO DE UNA CAPA CON BASE DE OXIDO METALICO QUE CONTIENE FLUOR, EN PARTICULAR UNA CAPA DE OXIDO DE ESTAÑO DOPADO CON FLUOR SNO 2 :F EN UN SUSTRATO DE VIDRIO POR UNA TECNICA DE PIROLISIS EN FASE GASEOSA A PARTIR DE AL MENOS DOS PRECURSORES DE LOS QUE AL MENOS UNO ES UN PRECURSOR DE METAL Y EL OTRO UN PRECURSOR DE FLUOR. SEGUN LA INVENCION EL PRECURSOR DE FLUOR DE TRIFLUORURO DE NITROGENO NF 3.

APARATO Y PROCEDIMIENTO PARA EL REVESTIMIENTO DE VIDRIO, COMPUESTOS Y COMPOSICIONES PARA EL REVESTIMIENTO DE VIDRIO Y SUSTRATOS DE VIDRIO REVESTIDOS.

(16/03/2004) UN APARATO PARA REVESTIR UNA CINTA DE VIDRIO QUE TIENE UN ELEMENTO DE EVACUACION A CADA LADO DE UNA UNIDAD DE REVESTIMIENTO A DIFERENTES DISTANCIAS DEL MISMO. SEGUN ESTA DISPOSICION, SE UTILIZAN PORCIONES DE LA CINTA CORRIENTE ARRIBA Y CORRIENTE ABAJO RESPECTO A LA UNIDAD DE REVESTIMIENTO PARA REVESTIR LOS VAPORES PROCEDENTES DE LA UNIDAD DE REVESTIMIENTO EN DIFERENTES PERIODOS DE TIEMPO. UNA MEZCLA DE REVESTIMIENTO INCLUYE PRECURSORES QUE CONTIENE ESTAÑO Y UN PRECURSOR QUE CONTIENE SILICIO. EL PRECURSOR QUE CONTIENE SILICIO TIENE LA FORMULA ESTRUCTURAL EN LA QUE R1 ES UN GRUPO QUE NO DISPONE DE UN OXIGENO PARA FORMAR UN PEROXIDO, R2 ES UN GRUPO FUNCIONAL QUE PROPORCIONA AL PRECURSOR QUE CONTIENE SILICIO LA CAPACIDAD DE CONVERTIRSE…

CONDUCTOR TRANSPARENTE Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACION.

(16/12/2003). Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE. Inventor/es: BOY, PHILIPPE, COQUARD, PIERRE, MANAUD, JEAN-PIERRE, SALARDENNE, JEAN, WARTENBERG, ISABELLE, MARCEL, CORINNE, RESIDENCE \"JARDINS DE LA SOMME\".

Sustrato de polímero recubierto, al menos en parte, por una película conductora transparente basada en óxido de indio, en óxido de estaño y en óxido de germanio, en el que la relación de las concentraciones en peso de SnO2 a GeO2 en la película es de aproximadamente 1 a aproximadamente 10 y en el que el óxido de estaño representa aproximadamente 0, 5 % a aproximadamente 10 % en peso en la película, y el óxido de germanio representa de aproximadamente 0, 1 a aproximadamente 5 % en peso en la película.

ARTICULO DE AUTOLIMPIEZA ACTIVADA FOTOCATALITICAMENTE Y METODO DE HACERLO.

(01/12/2003). Ver ilustración. Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Inventor/es: SINGLETON, DAVID, E., GREENBERG, CHARLES, B., HARRIS, CAROLINE, S., KORTHUIS, VINCENT, KUTILEK, LUKE, A., SZANYI, JANOS, THIEL, JAMES, P..

SE PRESENTAN UN PROCEDIMIENTO Y UN ARTICULO EN LOS QUE SE FORMA UN SUBSTRATO CON UNA SUPERFICIE AUTOLIMPIANTE DE ACTIVACION FOTOCATALITICA A BASE DE FORMAR UN REVESTIMIENTO AUTOLIMPIANTE DE ACTIVACION FOTOCATALITICA SOBRE EL SUBSTRATO MEDIANTE UNA DEPOSICION QUIMICA EN FASE DE VAPOR DE PIROLISIS POR PULVERIZACION O UNA DEPOSICION AL VACIO POR PULVERIZACION MAGNETRONICA. EL REVESTIMIENTO TIENE UN GROSOR DE AL MENOS 500 ANGSTROMS APROXIMADAMENTE PARA LIMITAR EL ENVENENAMIENTO POR IONES SODIO DE UNA PORCION DEL REVESTIMIENTO QUE MIRA HACIA EL SUBSTRATO. ALTERNATIVAMENTE, SE DEPOSITA UNA CAPA BARRERA CONTRA LA DIFUSION DE IONES SODIO SOBRE EL SUBSTRATO ANTES DE LA DEPOSICION DEL REVESTIMIENTO AUTOLIMPIANTE DE ACTIVACION FOTOCATALITICA PARA IMPEDIR EL ENVENENAMIENTO POR IONES SODIO DEL REVESTIMIENTO AUTOLIMPIANTE DE ACTIVACION FOTOCATALITICA. EL SUBSTRATO INCLUYE SUBSTRATOS DE VIDRIO, INCLUIDAS LAMINAS DE VIDRIO Y CINTAS CONTINUAS DE VIDRIO FLOTADO.

PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR REVESTIMIENTOS DE OXIDO DE ESTAÑO Y OXIDO DE TITANIO SOBRE CRISTAL LISO Y CRISTAL RECUBIERTO RESULTANTE.

(16/05/2003). Solicitante/s: PILKINGTON PLC LIBBEY-OWENS-FORD CO. Inventor/es: SHEEL, DAVID, WILLIAM, MCCURDY, RICHARD, J., HURST, SIMON, JAMES.

SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO DE DEPOSICION DE VAPORES QUIMICOS PARA EXTENDER UN REVESTIMIENTO DE OXIDO DE ESTAÑO O TITANIO SOBRE CRISTAL PLANO CALIENTE, POR EL USO DE UN COMPUESTO QUE CONTIENE OXIGENO ORGANICO Y EL TETRACLORURO METALICO CORRESPONDIENTE. EL COMPUESTO DE OXIGENO ORGANICO ES PREFERENTEMENTE UN ESTER QUE TIENE UN GRUPO ALQUILO CON UN HIDROGENO BE A FIN DE OBTENER UNA ELEVADA VELOCIDAD DE DEPOSICION. DEBIDO A LAS ALTAS VELOCIDADES DE DEPOSICION QUE PUEDEN ALCANZARSE, GENERALMENTE DE UN MINIMO DE 130 A/SEGUNDO, EL PROCESO ES ADECUADO PARA DEPOSITAR REVESTIMIENTOS DE ESPESOR SUSTANCIAL SOBRE UNA CINTA EN MOVIMIENTO DE CRISTAL FLOAT DURANTE EL PROCESO DE FABRICACION DEL VIDRIO.

CAPA DE BARRERA CONTRA LA DIFUSION DE METAL ALCALINO.

(01/03/2003). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Inventor/es: FINLEY, JAMES, J., GILLERY, F., HOWARD.

Un artículo que comprende: un substrato de cristal que tiene iones metálicos alcalinos en una superficie; un medio sobre la superficie del substrato y espaciado de la misma, caracterizado el medio porque concentraciones predeterminadas de iones metálicos alcalinos deterioran la función del medio, y entre la superficie y el medio, una capa amorfa pulverizada catódicamente de un óxido metálico que tiene un espesor inferior a 180 Angstroms y que tiene una densidad igual o mayor de 75 % y menor de 90 % de su densidad cristalina para proporcionar una capa de barrera contra iones metálicos alcalinos entre el substrato de cristal y el medio.

REVESTIMIENTO TERMOCROMICO.

(01/02/2003). Solicitante/s: MEYER, BRUNO K. Inventor/es: MEYER, BRUNO, K., SCHALCH, DIRK, CHRISTMANN, THOMAS.

Recubrimiento termocrómico, en particular para vidrio, que comprende una capa de óxido de vanadio que contiene además volframio y flúor.

SUSTRATO CON REVESTIMIENTO DE PROTECCION SOLAR CON FACTOR REFLEXION ELEVADA.

(16/09/2002). Solicitante/s: GLAVERBEL. Inventor/es: LEGRAND, PHILIPPE.

La invención se refiere a un sustrato de revestimiento de protección solar con factor de reflexión elevada (RL), que comprende una capa de revestimiento formada por pirolisis que contienen óxidos de estaño y de antimonio, con una relación molar Sb/Sn de 0,101 0,5. Este sustrato se caracteriza porque la capa de revestimiento contiene además un aditivo que comprende al menos uno de los elementos entre aluminio, cromo, cobalto, hiero, manganeso, magnesio, níquel, vanadio, zinc y zirconio, y porque esta capa está libre de flúor, lo que confiere al sustrato así protegido un factor de reflexión de al menos un 10%. La invención se refiere también a un procedimiento de fabricación de este sustrato de revestimiento y un cristal que comprende este sustrato de revestimiento.

PROCEDIMIENTO DE TRATAMIENTO DE CAPAS DELGADAS DE OXIDO O NITRURO METALICO.

(16/03/2002). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN VITRAGE INTERNATIONAL. Inventor/es: LERBET, FRANCOIS, PILLIAS, DANIELE.

LA INVENCION TIENE POR OBJETO A UN PROCESO DE TRATAMIENTO CON OBJETO DE AUMENTAR LA DURABILIDAD QUIMICA Y/O FISICA DE UNA CAPA A BASE DE UNO O VARIOS OXIDOS, NITRUROS, OXINITRUROS U OXICARBUROS METALICOS DEPOSITADA SOBRE UN SUBSTRATO TRANSPARENTE, EN PARTICULAR EN VIDRIO, POR UNA TECNICA DE PULVERIZACION CATODICA; EN PARTICULAR ASISTIDA POR CAMPO MAGNETICO Y PREFERENTEMENTE REACTIVA EN PRESENCIA DE OXIGENO. DICHO PROCESO CONSISTE EN SOMETER LA CAPA A UN HAZ DE IONES "DE ESCASA ENERGIA".

TECNICA DE DEPOSITO DE REVESTIMIENTOS POR PIROLISIS DE COMPOSICION DE GAS(ES) PRECURSOR(ES).

(01/09/2001). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN VITRAGE. Inventor/es: OUDARD, JEAN-FRANCOISL, JACQUET, PATRICE, CRAMPON, PASCAL.

LA INVENCION SE REFIERE A UNA BOQUILLA DE DISTRIBUCION DE CORRIENTE(S) DE GAS PRECURSOR O DE MEZCLA DE GAS PRECURSOR EN LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO VIDRIERO (29 EN MOVIMIENTO, GAS APTO (PARA FORMAR AL CONTACTO CON ESTE UN REVESTIMENTO POR UNA REACCION DEL TIPO PIROLISIS/DESCOMPOSICION. ESTA EQUIPADA CON UN SISTEMA DE ALIMENTACION QUE COMPRENDE UNA ALIMENTACION DE GAS LLAMADA PRINCIPAL DEL CUERPO DE BOQUILLA Y QUE UTILIZA UN MEDIO DE TRAIDA DE GAS COMUN PARA CADA UNA DE LAS CORRIENTES A GENERAR. LA ALIMENTACION COMPRENDE TAMBIEN UNA ALIMENTACION DE GAS LLAMADA AUXILIAR, AUTONOMA RESPECTO DE LA ALIMENTACION PRINCIPAL Y QUE ESTA DESTINADA A MODIFICAR LOCALMENTE LA COMPOSICION QUIMICA DE LAS CORRIENTES GENERADAS POR LA ALIMENTACION LLAMADA PRINCIPAL.

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