Proceso de elaboración de placas con polímeros líquidos.
Un método para fabricar un elemento de impresión en relieve en un proceso de elaboración de placas de fotopolímero líquido,
en donde una capa de fotopolímero líquido se aplica sobre una película de recubrimiento colocada sobre un negativo sobre una platina de vidrio y se aplica una lámina de respaldo sobre la capa de fotopolímero líquido, el método comprende las etapas de:
a) exponer selectivamente la capa de fotopolímero líquido a radiación actínica a través del negativo para reticular y curar las porciones de la capa de fotopolímero líquido y crear la imagen en relieve en la misma, en donde las porciones de la capa de fotopolímero líquido no están reticuladas y se curan;
b) regenerar las partes no curadas de la capa de fotopolímero líquido para su reutilización en el proceso de elaboración de placas, en donde la etapa de regenerar las partes no curadas de la capa de fotopolímero líquido comprende:
i) calentar el elemento de impresión en relieve para reducir la viscosidad de las porciones no curadas de la capa de fotopolímero líquido; y
ii) retirar las porciones no curadas de la capa de fotopolímero líquido del elemento de impresión en relieve; y
c) soplar el elemento de impresión en relieve para eliminar cualquier fotopolímero líquido no curado que quede sobre el elemento de impresión en relieve después de la etapa de regeneración;
en donde las porciones no curadas de las capas de fotopolímero líquido se eliminan sin lavar el elemento de impresión en relieve con agua u otro solvente.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2013/036558.
Solicitante: Macdermid Graphics Solutions, LLC.
Inventor/es: VEST,RYAN W.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/20 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
- G03F7/40 G03F 7/00 […] › Tratamiento tras la eliminación según la imagen, p. ej. esmaltado.
PDF original: ES-2812525_T3.pdf
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