Método de exposición láser.

Un método de exposición láser para una superficie de plancha (6) de una plancha cilíndrica (5),

que usa un aparato de exposición láser (10) que incluye una porción de cabezal láser (11) que incluye:

una fuente de luz láser (1) para hacer oscilar la luz láser;

una porción de modulación de luz (8) para disponer y dividir espacialmente la luz láser mediante una pluralidad de señales de control para obtener una pluralidad de haces láser;

una porción óptica de proyección (9) para realizar una proyección de tamaño reducido de la pluralidad de haces láser dispuestos que salen de la porción de modulación de luz; y

un medio de escaneo (4) para escanear la pluralidad de haces láser con respecto a una película fotosensible,

generando la porción de cabezal láser (11) una pluralidad de puntos láser a disponer en una porción de formación de imágenes de la porción óptica de proyección (9), comprendiendo cada uno de la pluralidad de puntos láser un punto láser rectangular que tiene una forma rectangular, siendo un tamaño en una dirección de anchura mayor que un tamaño en una dirección de altura ortogonal a la dirección de anchura, comprendiendo el método de exposición láser:

escanear la pluralidad de haces láser para formar una disposición de puntos láser que tiene una longitud predeterminada en la película fotosensible en la superficie de plancha (6) de la plancha cilíndrica (5); y

exponer la película fotosensible recubierta sobre la superficie de plancha (6) a los haces láser, para formar de este modo una parte fotosensibilizada y una parte no fotosensibilizada, caracterizado por que el escaneo comprende escanear secuencialmente, durante la exposición, una disposición de puntos láser en una rotación subsiguiente de manera que al menos media zona de una disposición de puntos láser escaneados en una rotación previa en una dirección de anchura de la misma se someta a una exposición superpuesta.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2011/061719.

Solicitante: Think Laboratory Co., Ltd.

Inventor/es: SHIGETA,TATSUO, HORIUCHI,HITOSHI.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/20 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).

PDF original: ES-2763925_T3.pdf

 

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