PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR ELEMENTOS SOBRE UN SUSTRATO DE INTERÉS Y DISPOSITIVO.
Procedimiento para depositar elementos sobre un sustrato de interés y dispositivo.
La invención se refiere a un procedimiento para depositar nuevos elementos sobre un sustrato de interés mediante un haz de iones focalizados y una plataforma para enfriar el sustrato de interés a temperaturas criogénicas que además puede desbastar elementos defectuosos que están situados sobre él. Además, se refiere a un dispositivo que comprende todos los medios necesarios para llevar a cabo el procedimiento, particularmente los medios necesarios para condensar gases precursores sobre la superficie del sustrato de interés a temperaturas criogénicas. El procedimiento y el dispositivo de la invención son susceptibles de ser utilizados para eliminar y reparar por ejemplo contactos metálicos de un dispositivo electrónico o de un circuito integrado, o para reparar por ejemplo partes de una máscara de litografía óptica. Por tanto, la presente invención tiene interés en la industria electrónica y el área de nanotecnología.
Tipo: Patente de Invención. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: P201830757.
Solicitante: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS.
Nacionalidad solicitante: España.
Inventor/es: DE TERESA NOGUERAS,JOSE MARIA, CÓRDOBA CASTILLO,Rosa, TORRES MOLINA,Teobaldo, STROHAUER,Stefan.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B82Y40/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B82 NANOTECNOLOGIA. › B82Y USOS O APLICACIONES ESPECIFICOS DE NANOESTRUCTURAS; MEDIDA O ANALISIS DE NANOESTRUCTURAS; FABRICACION O TRATAMIENTO DE NANOESTRUCTURAS. › Fabricación o tratamiento de nanoestructuras.
PDF original: ES-2738911_A1.pdf
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